研究背景
近幾十年來,硅芯片的尺寸一直在不斷減小,正接近其物理極限。電子產(chǎn)業(yè)一直面臨著尋找具有本征半導(dǎo)體特性的納米材料的艱巨挑戰(zhàn)。迄今為止,半導(dǎo)體碳納米管、石墨烯納米帶和單層過渡金屬硫族化合物(TMD)已經(jīng)成為超越硅以外的下一代場效應(yīng)晶體管的候選材料。與碳基半導(dǎo)體相比,單層TMD材料具有直接的電子帶隙和較高的開/關(guān)比。特別是單層TMD橫向異質(zhì)結(jié)可以形成原子級的p-n節(jié)點,以最大限度地減小二極管的溝道尺寸,這在高度集成的電子產(chǎn)品中有巨大的潛力,有望進(jìn)一步推進(jìn)摩爾定律的極限。然而,小型化和高度集成化將不可避免地導(dǎo)致熱流密度的增加和節(jié)點溫度的快速上升。通常情況下,由于Umklapp聲子-聲子散射的存在,以聲子輸運為主的半導(dǎo)體材料的熱導(dǎo)率會隨著溫度升高而降低,從而加速高功率密度電子器件的熱失效。設(shè)計一個熱導(dǎo)率與溫度呈正相關(guān)的納米級整流器將是一個理想的解決方案。在沒有外部散熱通道的情況下,由于半導(dǎo)體材料在較高溫度下具有較大的導(dǎo)熱性,因此可以通過半導(dǎo)體材料本身散發(fā)更多的熱量。然而,到目前為止,還沒有相關(guān)實驗結(jié)果的報道。
成果介紹
有鑒于此,近日,清華大學(xué)張興教授,王海東副教授和呂瑞濤副教授(共同通訊作者)等實現(xiàn)了MoSe2-WSe2單層橫向異質(zhì)結(jié)的同步電、熱整流。原子厚度的MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)形成了一個高開/關(guān)比(高達(dá)104)的電二極管。同時,異質(zhì)結(jié)二極管在高偏置電壓下,在導(dǎo)通狀態(tài)下從MoSe2到WSe2形成優(yōu)先散熱通道,熱整流(TR)系數(shù)高達(dá)96%。由于局部溫度梯度引起的TR效應(yīng),在高溫度下獲得了更高的導(dǎo)熱系數(shù)。此外,可以通過旋轉(zhuǎn)單層異質(zhì)結(jié)界面的角度將TR系數(shù)從最大值調(diào)節(jié)到零。
圖文導(dǎo)讀
圖1. 合成的MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)以及制備的H型傳感器件的表征。(A)懸架H型傳感器件示意圖。(B-D)MoSe2、WSe2和界面的原子分辨HAADF-STEM圖像。(E-J)在SiO2/Si襯底上合成的樣品1到6的光學(xué)顯微圖像,MoSe2(暗對比)被WSe2(亮對比)包圍。(K-P)樣品1到6制作成H型傳感器件的SEM圖像,該器件完全懸架在硅襯底上,刻蝕深度為8 mm以避免熱損失到襯底中。(Q-V)樣品1到6的拉曼空間成像。
采用常壓化學(xué)氣相沉積(AP-CVD)法,在金箔的輔助下合成了MoSe2-WSe2橫向側(cè)向異質(zhì)結(jié)樣品。為了同時測量同一橫向異質(zhì)結(jié)樣品的ER和TR特性,本文設(shè)計了一個H型傳感器。將MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)樣品支撐在300 nm厚的SiO2層上,該層連接兩個金納米傳感器,形成H型結(jié)構(gòu)(圖1A)。同時,使用金傳感器作為電極、焦耳加熱器和精確電阻溫度計。將整個H型傳感器件完全懸架在硅襯底上,以達(dá)到最高的熱學(xué)測量靈敏度。在實驗中,可以通過改變外部電路來輕松切換電學(xué)和熱學(xué)測量模式。
利用高角度環(huán)形暗場掃描透射電子顯微鏡(HAADF-STEM)分別獲得了MoSe2、WSe2和界面疇的原子分辨圖像(圖1B-D)。畫了一條折線來表示異質(zhì)結(jié)界面的形狀(圖1D)。在界面處觀察到輕微的摻雜,這可能是由于界面區(qū)域的能量相對較高。通過計算HAADF-STEM圖像中Mo和W原子的數(shù)量,估計測試樣品的摻雜濃度為~10%。本文選擇了6個樣品,標(biāo)記為1到6,進(jìn)行電學(xué)和熱學(xué)測量,并顯示了它們的初始構(gòu)型(圖1E到J)。借助預(yù)制的微米級十字標(biāo)記陣列和電子束光刻系統(tǒng)的自動識別和定位功能,能夠精確地選擇橫向異質(zhì)結(jié)區(qū)域,并將其放置在兩個金納米傳感器之間的中心,空間精度優(yōu)于100 nm。兩個傳感器之間的每個獨立矩形區(qū)域(圖1K到P)對應(yīng)于橫向異質(zhì)結(jié)樣品。使用高分辨拉曼光譜儀掃描了所有6個懸浮的異質(zhì)結(jié)樣品,得到了拉曼光譜成像(圖1Q-V)。用拉曼成像結(jié)果驗證了異質(zhì)結(jié)樣品的均勻性,MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)的界面形狀清晰可見,與最初的光學(xué)顯微圖像一致。定義θ為界面的長度方向與拉長的H型傳感器之間的夾角。當(dāng)界面與傳感器平行時,θ=0°(樣品1和2),電子或聲子垂直通過界面?zhèn)鬏?。反之,?dāng)界面與傳感器相互垂直時,θ=90°(樣品4),電子或聲子平行于界面?zhèn)鬏敗?/p>
圖2. MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)電學(xué)性質(zhì)的外部電學(xué)測量電路和熱力學(xué)表征。(A)基于H型器件的電學(xué)測量電路示意圖。(B-F)樣品在不同溫度下的Ids-Vds表征。
使用四探針方法來表征穿過界面的電輸運(圖2A)。測量了四個MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)樣品和純MoSe2、純WSe2樣品在零反向柵極電壓下的Ids-Vds曲線(圖2B到F)。n型MoSe2和p型WSe2形成天然的p-n結(jié),在界面處形成II型能帶排列。對于樣品1、2和3,橫向p-n結(jié)界面位于載流子從源極到漏極的輸運路徑上,因此,Ids-Vds曲線顯示出明顯的二極管響應(yīng)??紤]到單個MoSe2和WSe2的Ids-Vds曲線對稱(圖2F),這種電流整流行為不能歸因于金屬電極接觸的肖特基勢壘。樣品1和樣品2的高ER比為103到104,證明合成的MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)具有良好的界面質(zhì)量。但相比之下,樣本3的ER比要低得多。這種行為是由于傾斜的界面結(jié)構(gòu),可以認(rèn)為是異質(zhì)結(jié)和純MoSe2之間的并聯(lián)。此外,本文研究了載流子在溫度從303到393 K變化下的熱力學(xué)行為。所有被測樣品的Ids-Vds曲線都具有溫度依賴性。溫度依賴性電流和整流比都與界面角有關(guān)。對于異質(zhì)結(jié)樣品1到3,由于熱離子發(fā)射的增加,正向電流隨溫度單調(diào)增加。當(dāng)溫度升高時,更多的電子可以貢獻(xiàn)給正向電流。在反向偏置條件下,由于高溫下動能增加,耗盡區(qū)產(chǎn)生更多的電子-空穴對,從而導(dǎo)致反向電流增加的趨勢。此外,溫度對反向電流的影響比對正向電流的影響更明顯,從而導(dǎo)致ER比降低。對于缺乏內(nèi)建電場的樣品4到6,由于載流子濃度的提高,正/反向電流也隨著溫度升高而增大。不同溫度下的對稱Ids-Vds曲線表明不存在ER效應(yīng)。
圖3. MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)的外部熱學(xué)測量電路及TR特性。(A)基于H型傳感器件的熱學(xué)測量電路示意圖。(B-F)在273到378 K的溫度范圍內(nèi),樣品1到6在兩個相反熱流方向上的熱導(dǎo)率。
采用H型傳感器方法測量了MoSe2-WSe2單層橫向異質(zhì)結(jié)在兩個相反的熱流方向上的導(dǎo)熱系數(shù)。懸架的金傳感器作為精密電阻溫度計,具有較高的溫度測量靈敏度。由于被測樣品的熱阻比較大,忽略了接觸熱阻的影響。加熱一個金傳感器,用另一個檢測溫升(圖3A)。通過在兩個傳感器之間交換“加熱器”和“探測器”的角色,可以逆轉(zhuǎn)熱流方向。由于TMD材料的機械強度相對較弱,薄的SiO2支撐層對避免器件失效至關(guān)重要。本文考慮了SiO2支撐層對單層MoSe2-WSe2熱性能表征的影響,在實驗中對兩個金傳感器之間的溫差沒有影響。
圖3B-F繪制了六個樣品測量的熱導(dǎo)率。純MoSe2(樣品5)和純WSe2(樣品6)在室溫下的熱導(dǎo)率(λ)分別為45和40 W/(m·K),與文獻(xiàn)值一致,證明了H型方法的測量精度。熱導(dǎo)率隨溫度變化曲線趨于平坦的原因是原子摻雜和SiO2襯底引起的聲子散射,這在單層2D材料中是普遍存在的。純MoSe2和WSe2在不同熱流方向上的差異《3%,沒有TR效應(yīng),與預(yù)期相符。圖3B和C展示了MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)樣品1和2的導(dǎo)熱系數(shù),其中異質(zhì)結(jié)界面垂直于熱流方向(θ=0°)。在MoSe2到WSe2的熱流方向(J+方向)中,樣品1在273 K處的λ為~30 W/(m·K),比相反方向高96%。樣品2的TR系數(shù)為93%,與樣品1的結(jié)果一致,這是由于它們的異質(zhì)結(jié)界面形態(tài)相似。樣品3在θ=45°時,熱流斜向通過異質(zhì)結(jié)界面,TR系數(shù)為32%(圖3D)。對于樣品4,異質(zhì)結(jié)界面與熱流方向平行(θ=90°),TR效應(yīng)消失(圖3E)。實驗結(jié)果表明,TR效應(yīng)與異質(zhì)結(jié)界面和熱流方向的夾角有關(guān)。通過簡單地調(diào)節(jié)角度θ,TR系數(shù)可以調(diào)節(jié)為其最大值和零之間的值。這為主動調(diào)控單層異質(zhì)結(jié)中的聲子輸運提供了一種有效的方法。
圖4. MD模擬結(jié)果揭示了TR的物理機制。(A)用于MD模擬的MoSe2-WSe2H橫向異質(zhì)結(jié)模型的示意圖。(B)兩個方向θ=0°時的振動態(tài)密度(vDOS)。(C)歸一化TR比(η)和光譜重疊比(H)用角度(θ)表示。(D-F)三種不同界面形態(tài)的正反向局域聲子模分布的示意圖。
雖然之前的實驗證明了電子主導(dǎo)的熱整流器在低溫下可以有高達(dá)140的超高TR比,但對橫向異質(zhì)結(jié)的研究發(fā)現(xiàn),MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)中的電子導(dǎo)熱可以忽略不計,這意味著聲子是主要的熱載流子。進(jìn)行了非平衡分子動力學(xué)(NEMD)模擬,揭示TR的物理機制。從MoSe2-WSe2橫向異質(zhì)結(jié)的示意圖開始,將其劃分為純材料(I和III)段和界面(II)段(F4圖4A)。模擬結(jié)果表明,熱優(yōu)先從MoSe2向WSe2流動,與實驗結(jié)果一致??紤]到單個MoSe2和WSe2的溫度依賴性熱導(dǎo)率對TR效應(yīng)的貢獻(xiàn)很小,轉(zhuǎn)而研究了I和III區(qū)在J+和J-方向上的聲子譜失配(圖4B)。當(dāng)熱量沿J+方向從MoSe2流向WSe2時,MoSe2和WSe2的聲子譜在低頻(《4 THz)處匹配良好。長波長的耦合聲子作為熱傳導(dǎo)的主要載能子,促進(jìn)了界面的熱輸運。相反,WSe2和MoSe2的聲子譜向相反的J-方向交錯,阻礙了晶格振動能量通過界面的傳輸。進(jìn)一步計算了聲子帶的光譜重疊(S)來量化聲子帶的匹配。重疊S+和S-在J+和J-方向分別為0.512和0.461。實驗中觀察到,光譜重疊越大,熱導(dǎo)率越高。
除了聲子光譜重疊理論外,另一個來自界面形態(tài)的因素也有助于TR效應(yīng)。HAADF-STEM圖像顯示了具有zigzag形狀和成分轉(zhuǎn)變的實際界面。隨后,建立了包含區(qū)域II的更精確模型,仿真結(jié)果表明,具有局部成分轉(zhuǎn)變的真正zigzag形界面增強了TR效應(yīng)。還計算了局域聲子模的分布(圖4D-F),結(jié)果表明,Mo和W原子之間的交換以及界面處zigzag結(jié)構(gòu)引起的窄邊緣導(dǎo)致J-方向上更多的局域聲子模。這在理想銳利界面的基礎(chǔ)上增強了TR效應(yīng)(圖4D)。聲子譜的重疊是兩種不同材料聲子非諧性引起的TR效應(yīng)的機制,而界面上的成分轉(zhuǎn)變和zigzag結(jié)構(gòu)則是界面選擇特性引起的TR效應(yīng)的附加因素。這兩種機制的結(jié)合導(dǎo)致MoSe2-WSe2單層異質(zhì)結(jié)的TR比高達(dá)96%。實驗結(jié)果表明,通過改變界面方向與熱流方向的角度可以調(diào)節(jié)MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)的TR比。為了解釋角度依賴的TR效應(yīng),建立了θ從0°到90°的7個不同角度的模型,分別計算了它們的TR比、聲子譜和空間能量分布。結(jié)果表明,隨著角度θ增大,TR比單調(diào)減小,當(dāng)界面與熱流方向平行時,TR比最終消失(圖4C),與實驗結(jié)果一致。
圖5. 異質(zhì)結(jié)的高偏置電壓實驗并用拉曼光譜進(jìn)行溫度表征。(A)溫度測量的示意圖。(B)溫度相關(guān)的拉曼位移的校正。(C)溫升由實驗測量和有限元分析計算。(D)Vds=60 V時H型器件的非對稱溫度和熱應(yīng)力分布的比較。
在實際應(yīng)用中,所施加的偏置電壓要大得多。為了驗證p-n異質(zhì)結(jié)二極管器件的偏置電壓承受上限和相應(yīng)的溫升,在不斷增加MoSe2-WSe2二極管正向偏置電壓的同時,利用非接觸拉曼光譜測量了界面處的溫升(圖5A)。對拉曼位移的溫度依賴性進(jìn)行了預(yù)先標(biāo)定,并使用較小的激光功率,可以忽略激光加熱引起的溫升。MoSe2和WSe2的A1g模式峰隨著溫度升高出現(xiàn)了明顯的紅移(圖5B)。圖5C顯示了通過拉曼位移測量到的界面溫升。兩個代表性的峰移結(jié)果吻合較好,驗證了拉曼光譜測量的準(zhǔn)確性和可靠性。圖5D描述了用COMSOL計算的異質(zhì)結(jié)器件的非對稱溫度和熱應(yīng)力分布。單層異質(zhì)結(jié)的最大電流密度超過2×107 A/cm2,擊穿前測得界面局部溫升為100 K。界面處高電流密度和高溫引起的嚴(yán)重電遷移損傷是異質(zhì)結(jié)器件擊穿的主要原因,而高的局部熱應(yīng)力進(jìn)一步加劇了期間失效。因此,降低異質(zhì)結(jié)界面局部溫度是減輕電遷移損傷、降低熱應(yīng)力、延長器件壽命的關(guān)鍵因素。得益于TR效應(yīng),橫向異質(zhì)結(jié)在導(dǎo)通狀態(tài)下具有較高的導(dǎo)熱系數(shù),有利于散熱并降低界面溫度。
總結(jié)與展望
本文制備了具有ER和TR特性的單層MoSe2-WSe2異質(zhì)結(jié)器件。這種原子厚度的電二極管具有高達(dá)104的高開/關(guān)比。當(dāng)它作為二極管工作在導(dǎo)通狀態(tài)下,器件的熱導(dǎo)率在從MoSe2到WSe2的熱流方向上提高了96%。該單層橫向異質(zhì)結(jié)無需外界冷卻裝置即可大幅降低高溫?zé)狳c溫度和熱應(yīng)力,提升器件性能、延長使用壽命。這一發(fā)現(xiàn)為同時具有良好電學(xué)性能和熱性能的復(fù)合結(jié)構(gòu)器件的設(shè)計開辟了新的道路。
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原文標(biāo)題:Science:在單層橫向異質(zhì)結(jié)中同步實現(xiàn)電、熱整流
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