光刻工藝:與小時(shí)候玩的“日光照相”原理相似,光刻包括曝光裝置、感光材料的光刻膠、有版圖的掩膜版,還包括涂膠顯影工藝。
圖1、光刻工藝的流程
光刻的工藝流程主要如圖1所示,首先,在準(zhǔn)備刻蝕的薄膜上面涂上光刻膠,
該工序使用涂膠裝置(涂膠機(jī))。為了去除光刻膠中含有的溶劑,在70 ~ 90°C的溫度下進(jìn)行前烘(Pre -Bake)。在曝光裝置上“繪制”掩膜圖形。接下來(lái)進(jìn)行顯影,只留下必要的光刻膠。之后,為了完全去除顯影液和清洗液成分,增強(qiáng)與刻蝕物的附著性,在100℃左右進(jìn)行后烘(Past Bake)。有時(shí)候,前烘被稱(chēng)為較烘,后烘被稱(chēng)為硬烘。這是系列化的光刻流程。
如上所述,光刻只是創(chuàng)建光刻膠的圖形。從這個(gè)意義來(lái)說(shuō),光刻與草圖或素插相當(dāng),刻蝕和灰化是實(shí)際繪畫(huà)的過(guò)程。
接觸式曝光:將掩膜版與晶圓接觸進(jìn)行曝光,光學(xué)系統(tǒng)簡(jiǎn)單、價(jià)格較低,缺點(diǎn)是晶圓上的灰塵會(huì)黏到掩膜版上以及硅片會(huì)劃傷掩膜版。此外,接觸式曝光需要掩膜版覆蓋晶圓的全部區(qū)域,曝光圖形是1:1復(fù)制,因此,曝光精度不高,一般在微米量級(jí)。
圖2、接觸式曝光示意圖
縮小投影:為解決接觸式曝光的問(wèn)題,開(kāi)發(fā)了縮小投影曝光的方法,該方法已經(jīng)實(shí)用化。使用光學(xué)系統(tǒng)將掩膜版圖案縮小復(fù)制到晶圓上,因此不會(huì)有灰塵黏附以及刮傷掩膜版的問(wèn)題。由于光刻圖形通常縮小到1/4或者1/5,因此可以大大提高光刻的精度。
但不能像接觸式曝光一樣,晶圓和掩膜版固定不動(dòng),投影式曝光晶圓與掩膜版都會(huì)移動(dòng),有步進(jìn)、重復(fù)曝光、掃描晶圓的方法。
圖3、縮小投影曝光示意圖
電子束曝光:該方法式將圖形轉(zhuǎn)換為數(shù)據(jù),使用電子束曝光設(shè)備直接將圖案復(fù)制到光刻膠上,光刻精度很高,但是價(jià)格昂貴、耗時(shí)較長(zhǎng),難以量產(chǎn)。
推動(dòng)微細(xì)化的曝光技術(shù)的演變
未來(lái)推進(jìn)微細(xì)化,光的波長(zhǎng)需要變短,因此需要開(kāi)發(fā)相應(yīng)的光學(xué)系統(tǒng)以及光刻膠。
分辨率:
λ:曝光波長(zhǎng)
NA:鏡頭光圈(Numerical Aperture)
k:取決于工藝參數(shù)
為了提高分辨率
1、λ短波長(zhǎng)→光源;
2、NA增大→鏡頭系統(tǒng)的改進(jìn)
3、k因子改進(jìn)→光刻膠改進(jìn)和其它超分辨技術(shù)
焦深:可以看成是對(duì)焦的深度,焦深較大時(shí),在焦深范圍內(nèi),即使晶圓表面有臺(tái)階,在臺(tái)階上下轉(zhuǎn)移圖形也不會(huì)有差異;但如果焦深較小,則存在問(wèn)題。
為了提高分辨率,應(yīng)減小λ,NA增大時(shí),焦深變小。焦深變小,會(huì)導(dǎo)致有臺(tái)階的圖形曝光異常,因此,CMP技術(shù)也很重要。
光源和曝光設(shè)備的歷史:
為了提高分辨率,曝光波長(zhǎng)的變短是必要的。分辨率的提高依賴(lài)于光源、光刻膠、光學(xué)系統(tǒng)的開(kāi)發(fā)。在1um到亞微米之間,高壓汞燈的G線(G-line)被使用。半微米到亞半微米之間,統(tǒng)同一高壓水銀燈的I線(I-Line)被使用。
圖4、曝光光源的歷史
之后,0.35um和0.25um以下使用KrF準(zhǔn)分子激光的246nm光源,從0.1um以下的90nm節(jié)點(diǎn)開(kāi)始使用ArF準(zhǔn)分子激光器的193nm光源,而且進(jìn)入ArF浸液和雙重圖形的時(shí)代。
掩膜版和防塵薄膜
掩膜版:掩膜版微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移母版,掩膜版的作用是將設(shè)計(jì)者的電路圖形通過(guò)曝光的方式轉(zhuǎn)移到下游行業(yè)的基板或晶圓上,從而實(shí)現(xiàn)批量化生產(chǎn)。作為光刻復(fù)制圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本,掩膜版是連接工業(yè)設(shè)計(jì)和工藝制造的關(guān)鍵,掩膜版的精度和質(zhì)量水平會(huì)直接影響最終下游制品的優(yōu)品率。
掩膜基板材料:合成石英為主,原材料主要依靠進(jìn)口。
光刻是將掩膜版上的圖形精確地轉(zhuǎn)移到光刻膠上,所以如果掩膜版上有缺陷,也會(huì)全部轉(zhuǎn)移到光刻膠上。掩膜版是在透光的石英基板上用鉻(Cr)作為遮光材料,形成一定的圖形。如果鉻膜有缺陷、劃痕、灰塵或顆粒,都會(huì)導(dǎo)致圖形缺陷,降低半導(dǎo)體器件的成品率。掩膜版的制造、檢查和管理是前段制程生產(chǎn)線的重要課題。隨著微細(xì)化的發(fā)展,相移掩膜和OPC等掩膜版的結(jié)構(gòu)也變得越來(lái)越復(fù)雜。 相移掩膜(PSM,Phase Shift Mask):在掩膜板上,周期性地在相鄰的圖形、中,每隔一個(gè)圖形特征對(duì)掩膜板的結(jié)構(gòu)(減薄或者加厚)進(jìn)行改變,使相鄰圖形的相位相差180度,從而可以達(dá)到提升分辨率的目的,相移掩膜板技術(shù)使掩膜板的制作難度和成本大幅增加。
OPC(Optical Proximity Effect Correction)的縮寫(xiě),光學(xué)臨近效應(yīng)矯正。在曝光過(guò)程中,往往會(huì)因?yàn)楣鈱W(xué)臨近效應(yīng)使最后的圖形質(zhì)量下降:線寬的變化;轉(zhuǎn)角的圓化;線長(zhǎng)的縮短等。因此,需要在掩膜版上形成用于矯正圖形的輔助圖案,以以制光的臨近效應(yīng)并提高分辨率。
防塵薄膜:防塵薄膜是為了防止光學(xué)掩模版上的顆粒造成圖形缺陷的薄膜,在掩膜版上幾mm的位置上,在邊框上粘一層薄薄的透明膜,這樣即使有顆粒,在防塵膜上也不會(huì)對(duì)曝光圖形造成影響。因?yàn)檠谀ぐ媾c防塵膜是分開(kāi)的,一般保護(hù)膜距離基板距離為6 mm,而光刻機(jī)的焦深最多100~200 nm,當(dāng)顆粒投影到晶圓表面時(shí)會(huì)失焦(defocus),在晶圓表面形成一個(gè)模糊的像,對(duì)晶圓表面條紋影響較小。
圖7、掩膜版和防灰薄膜的關(guān)系
審核編輯:郭婷
-
光刻工藝
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
27瀏覽量
1795
原文標(biāo)題:半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝(一)
文章出處:【微信號(hào):cetc45_wet,微信公眾號(hào):半導(dǎo)體工藝與設(shè)備】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
評(píng)論