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耦合器技術(shù)有利于AC/DC設(shè)計(jì)中的氮化鎵晶體管

星星科技指導(dǎo)員 ? 來(lái)源:ADI ? 作者:Robbins Ren ? 2022-12-19 16:39 ? 次閱讀

高效的 AC/DC 電源是電信和數(shù)據(jù)通信基礎(chǔ)設(shè)施發(fā)展的關(guān)鍵,因?yàn)槌笠?guī)模數(shù)據(jù)中心、企業(yè)服務(wù)器或電信交換站的功耗會(huì)迅速增長(zhǎng)。然而,電力電子行業(yè)已經(jīng)達(dá)到了硅MOSFET的理論極限。同時(shí),最近的氮化鎵(GaN)晶體管已成為取代硅基MOSFET的高性能開(kāi)關(guān),可提供更高的能量轉(zhuǎn)換效率并實(shí)現(xiàn)更大的密度。需要具有新規(guī)格的新隔離概念來(lái)解決GaN晶體管的優(yōu)勢(shì)。

GaN晶體管的開(kāi)關(guān)速度比硅MOSFET快得多,并且由于以下原因,可以實(shí)現(xiàn)更低的開(kāi)關(guān)損耗:

較低的柵極電容和輸出電容。

電阻上的漏極-源極較低 (RDS(ON)) 以獲得更高的電流操作,從而降低傳導(dǎo)損耗。

低或零反向恢復(fù)電荷 (QRR),因?yàn)椴恍枰w二極管。

GaN晶體管可以支持大多數(shù)由獨(dú)立的功率因數(shù)校正(PFC)和DC-DC部分組成的交流/直流電源:前端無(wú)橋PFC和以下LLC諧振轉(zhuǎn)換器(兩個(gè)電感器和一個(gè)電容器)。這種拓?fù)渫耆蕾囉诎霕蚝腿珮螂娐?,如圖1所示。

pYYBAGOgI1SAVlGBAAFKH6paZE4058.jpg?h%20=270&hash=1BCD2886B0879173E211075045D1708B&imgver=1

圖1.用于電信和服務(wù)器應(yīng)用的典型交流/直流電源。

數(shù)字信號(hào)處理器DSP)作為主控制器,以及用于替代硅MOSFET的GaN晶體管,需要一種新的隔離技術(shù)來(lái)解決更高的開(kāi)關(guān)頻率問(wèn)題。這主要包括隔離式氮化鎵驅(qū)動(dòng)器

典型隔離解決方案和要求

UART通信隔離

從以前的模擬控制系統(tǒng)到DSP控制系統(tǒng)的轉(zhuǎn)變需要隔離脈寬調(diào)制(PWM)信號(hào)和附加控制信號(hào)。雙通道ADuM121可用于DSP之間的UART通信。為了最大限度地減少隔離所需的總系統(tǒng)尺寸,在電路板組裝中使用了環(huán)氧樹(shù)脂密封膠。更小的尺寸和高功率密度在交流/直流的發(fā)展中至關(guān)重要。需要更小的封裝隔離器。

功率因數(shù)校正分段隔離

與MOS相比,ISO柵極驅(qū)動(dòng)器的傳播延遲/偏斜、負(fù)偏置/箝位和尺寸對(duì)于GaN至關(guān)重要。為了驅(qū)動(dòng)具有GaN的半橋或全橋晶體管,PFC部分可以使用ADuM3123單通道驅(qū)動(dòng)器,LLC部分可以使用ADuM4223雙通道驅(qū)動(dòng)器。

為隔離柵后面的器件供電

ADuM5020基于ADI公司的isoPower技術(shù),專為跨越隔離柵進(jìn)行功率傳輸而設(shè)計(jì),是一款緊湊型芯片解決方案,可將GaN晶體管的輔助電源與柵極的輔助電源相匹配。?

隔離要求

為了充分利用GaN晶體管,隔離式柵極驅(qū)動(dòng)器的首選要求是:

最大允許柵極電壓 <7 V

開(kāi)關(guān)節(jié)點(diǎn)>100 kV/ms dv/dt,100 kV/μs 至 200 kV/μs CMTI

高低開(kāi)關(guān)延遲匹配 ≤50 ns,適用于 650 V 應(yīng)用

負(fù)電壓箝位 (–3 V),用于關(guān)斷

有幾種解決方案可以驅(qū)動(dòng)半橋晶體管的高端和低端。關(guān)于傳統(tǒng)的電平轉(zhuǎn)換高壓驅(qū)動(dòng)器的一個(gè)誤區(qū)是,最簡(jiǎn)單的單芯片實(shí)現(xiàn)方案廣泛用于硅基MOSFET。在一些高端產(chǎn)品(例如服務(wù)器電源)中,ADuM4223雙通道隔離驅(qū)動(dòng)器用于驅(qū)動(dòng)MOS,以實(shí)現(xiàn)緊湊型設(shè)計(jì)。然而,當(dāng)轉(zhuǎn)向GaN時(shí),電平轉(zhuǎn)換解決方案具有缺點(diǎn),例如非常大的傳播延遲和有限的共模瞬變抗擾度(CMTI),并且對(duì)于高開(kāi)關(guān)頻率不是最佳選擇。與單通道驅(qū)動(dòng)器相比,雙隔離驅(qū)動(dòng)器缺乏布局靈活性。同時(shí),它在負(fù)偏置的配置上存在困難。表1顯示了這些方法的比較。

溶液 科技 優(yōu)點(diǎn) 挑戰(zhàn) ADI產(chǎn)品
集成高邊和低邊驅(qū)動(dòng)器 電平轉(zhuǎn)換 最簡(jiǎn)單的單芯片解決方案 大延遲時(shí)間,有限的CMTI,外部自舉電路
雙隔離集成驅(qū)動(dòng)器 單芯片解決方案 犧牲布局靈活性,需要時(shí)間給自舉帽充電 ADuM4223
單通道隔離驅(qū)動(dòng)器 易于布局,高CMTI,低傳播延遲/偏斜 需要外部輔助電源 ADuM3123, ADuM4121
隔離器和 ISO 電源 布局靈活,易于負(fù)偏置,無(wú)自舉電路 成本高,電磁干擾問(wèn)題 ADuM110+ ADuM5020

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圖2.典型的ISO機(jī)會(huì)和要求,顯示了ISO功率器件中的UART隔離和PFC部分隔離。

單通道驅(qū)動(dòng)器已準(zhǔn)備好用于GaN晶體管。典型的單通道驅(qū)動(dòng)器是ADuM3123,它使用齊納二極管和分立電路提供的外部電源來(lái)實(shí)現(xiàn)負(fù)偏置(可選),如圖3所示。

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圖3.GaN晶體管的單通道隔離式iso耦合器驅(qū)動(dòng)器應(yīng)用概述。

新趨勢(shì):定制隔離氮化鎵模塊

目前,GaN器件通常與其驅(qū)動(dòng)器分開(kāi)封裝。這是由于GaN開(kāi)關(guān)和隔離驅(qū)動(dòng)器的制造工藝差異造成的。將來(lái),將GaN晶體管和隔離柵驅(qū)動(dòng)器集成到同一封裝中將進(jìn)一步提高開(kāi)關(guān)性能,因?yàn)樗鼘p少電感寄生效應(yīng)。一些主要的電信供應(yīng)商計(jì)劃將其GaN系統(tǒng)封裝為單獨(dú)的定制模塊。從長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看,GaN系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)器可以使其實(shí)施到更小尺寸的隔離器模塊中。ADuM110N(低傳播延遲、高頻)和iso功率ADuM5020等微小單通道示例,如圖4所示,設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單,支持這一趨勢(shì)。

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圖4.i耦合器ADuM110N和iso功率ADuM5020非常適合納微氮化鎵模塊。

結(jié)論

與傳統(tǒng)的硅基MOSFET相比,GaN晶體管具有更小的器件尺寸、更低的導(dǎo)通電阻和更高的工作頻率,具有許多優(yōu)勢(shì)。采用氮化鎵技術(shù)可以在不影響效率的情況下減小整體解決方案尺寸。氮化鎵器件具有廣闊的前景,特別是在中高壓電源方面。ADI的i耦合器技術(shù)在驅(qū)動(dòng)新興的GaN開(kāi)關(guān)和晶體管方面具有出色的優(yōu)勢(shì)。

審核編輯:郭婷

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