快速、高均勻性和卓越的涂層質(zhì)量——這些特性是物理氣相沉積、原子層沉積(ALD)等工藝的追求。據(jù)麥姆斯咨詢報道,近期,總部位于芬蘭的ALD系統(tǒng)和工藝開發(fā)商Beneq和Laser Zentrum Hannover(簡稱:LZH)合作開發(fā)了一種新的空間ALD系統(tǒng),該系統(tǒng)實現(xiàn)“以前所未有的速度在復(fù)雜形狀的光學(xué)元件上涂覆薄膜層”。
Beneq的ALD系統(tǒng)(稱為C2R)可實現(xiàn)高達(dá)200 rpm的速度,沉積速率高達(dá)1 μm/h。LZH指出,ALD是一種自限性和各向同性工藝,每個周期產(chǎn)生大約1埃的層厚度。這可以極大地控制薄膜厚度,并能夠在復(fù)雜的3D物體和納米結(jié)構(gòu)(例如波導(dǎo)、透鏡和圓頂)上沉積高度共形的薄膜。
空間ALD系統(tǒng)的核心是一個轉(zhuǎn)盤,其消除了在傳統(tǒng)ALD系統(tǒng)中通過時間來調(diào)配氣體化學(xué)劑量的需求。取而代之的是,通過壓力和氮氣幕在空間幾何上將系統(tǒng)內(nèi)部分隔了四個區(qū)域。轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)一圈對應(yīng)ALD的一個循環(huán),在旋轉(zhuǎn)過程中將樣品在不同的點暴露于必要的反應(yīng)物中。
Beneq合作伙伴評論說,與傳統(tǒng)的熱ALD工藝相比,新的空間ALD系統(tǒng)無需冗長的清洗步驟即可顯著地縮短涂層時間,從而使該系統(tǒng)能夠進(jìn)行大規(guī)模ALD涂層。
為復(fù)雜的光學(xué)元件涂層
Beneq與LZH共同開發(fā)了空間ALD系統(tǒng),以滿足新興光學(xué)鍍膜的需求?!霸撓到y(tǒng)對光學(xué)涂層的簡單適應(yīng)性讓我們感到驚訝?!盠ZH光學(xué)元件部門負(fù)責(zé)人Andreas Wienke博士評論道。
“例如,想象一個彎曲的小型非球面透鏡。使用傳統(tǒng)的PVD工藝,幾乎不可能在曲面上實現(xiàn)保形涂層并在整個區(qū)域?qū)崿F(xiàn)相同的反射或透射值。但是,有了空間ALD系統(tǒng),這似乎變得如此簡單和容易實現(xiàn)。”
Beneq最近實施了LZH開發(fā)的現(xiàn)場監(jiān)控工具,以提高ALD系統(tǒng)的能力?!癓ZH的寬帶監(jiān)控系統(tǒng)BBM將復(fù)雜的涂層提升到了一個新的水平。對涂層生長的高分辨率監(jiān)控不僅可以在線測量,還可以實時重新設(shè)計涂層,從而產(chǎn)生非常精確和可重復(fù)的薄膜層?!盉eneq高級ALD副總裁Sami Sneck說道,“通過添加BBM和負(fù)載鎖,我們很高興為客戶提供一種高效的工具系統(tǒng),使ALD在光學(xué)鍍膜方面更加可靠。”
空間ALD在許多方面與離子束濺射等PVD工藝相當(dāng),包括速度和光學(xué)性能。當(dāng)涉及到復(fù)雜形狀和納米結(jié)構(gòu)的涂層時,空間ALD可以充分發(fā)揮其優(yōu)勢,可以為智能手機(jī)的攝像頭或自動駕駛汽車的激光雷達(dá)提供經(jīng)濟(jì)且可靠的涂層。
目前,LZH正致力于通過空間ALD系統(tǒng)為虛擬現(xiàn)實(VR)和增強(qiáng)現(xiàn)實(AR)眼鏡中使用的光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)和聚合物光學(xué)透鏡進(jìn)行鍍膜。
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原文標(biāo)題:Beneq和LZH合作開發(fā)空間ALD系統(tǒng),可快速在復(fù)雜光學(xué)元件上鍍膜
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