盛美上海首臺前道ArF工藝涂膠顯影設(shè)備Ultra LITH順利出機
來源：盛美上海
近日盛美上海首臺具有自主知識產(chǎn)權(quán)的涂膠顯影Track設(shè)備Ultra LITH成功出機，順利向中國國內(nèi)客戶交付首臺前道ArF工藝涂膠顯影Track設(shè)備，該設(shè)備由盛美半導(dǎo)體設(shè)備(亞太)制造中心完成出貨，這是該公司提升其在涂膠和顯影領(lǐng)域內(nèi)專業(yè)技術(shù)的重要一步。
此外，盛美上海將于2023年推出i-line型號設(shè)備，并且公司已開始著手研發(fā)KrF型號設(shè)備。前道涂膠顯影Track設(shè)備Ultra LITH的出貨是盛美上海持續(xù)拓展產(chǎn)品系列的又一成果，公司致力于成為晶圓級的工藝解決方案平臺，旗下產(chǎn)品還包括單晶圓及槽式濕法清洗設(shè)備、電鍍設(shè)備、無應(yīng)力拋光設(shè)備、立式爐管設(shè)備，及PECVD設(shè)備。
審核編輯黃昊宇
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