前言
濕法制程工藝即制造過程中需要使用化學(xué)藥液的工藝,被廣泛使用于集成電路、平板顯示、太陽能光伏等領(lǐng)域的制造過程中。以集成電路領(lǐng)域?yàn)槔?a target="_blank">晶圓制造過程中,去膠、顯影、刻蝕、清洗都屬于濕法制程是,都離不開濕電子化學(xué)品的使用。
隨著我國各行業(yè)對芯片需求的日益增長,這類型儀器購買量日益增加。然而市場上濕法制程相關(guān)設(shè)備基本以非標(biāo)定制為主,設(shè)備體型大,交付時(shí)間長、造價(jià)高昂,往往忽略了實(shí)驗(yàn)室對場地、成本控制的要求。
華林科納濕電子化學(xué)品工作站解決方案
作為在泛半導(dǎo)體濕法制程領(lǐng)域深耕二十年的華林科納,在濕法設(shè)備的設(shè)計(jì)與生產(chǎn)中積累了豐富的經(jīng)驗(yàn),為實(shí)驗(yàn)室用戶精心打造的濕電子化學(xué)品工作站,以標(biāo)準(zhǔn)模塊化設(shè)計(jì),滿足實(shí)驗(yàn)室在處理濕電子化學(xué)品過程中的需求。提供包括勻膠、去膠、顯影、酸洗、堿洗、QDR清洗、超聲波清洗、干燥等功能。特有的智能排風(fēng)及FFU凈化系統(tǒng),保障了實(shí)驗(yàn)人員的安全和實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確。濕電子化學(xué)品工作站標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn),造價(jià)低、組合靈活,可以滿足集成電路、光伏、液晶顯示等眾多行業(yè)及各類研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)院校的實(shí)驗(yàn)需求,努力為濕法制程研究保駕護(hù)航!
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