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入門首選,全新升級!縱維立方光固化新品Photon Mono 2閃耀登場!

話說科技 ? 來源:話說科技 ? 作者:話說科技 ? 2023-02-21 11:25 ? 次閱讀

近些年,光固化3D打印機(jī)開始逐漸受到用戶的青睞。但是新手想要入坑卻有諸多困擾:眼花繚亂的機(jī)器該怎么選擇?哪款機(jī)器最適合新手入門?

作為光固化產(chǎn)業(yè)的率先布局者,縱維立方一直洞察市場需求,致力于為客戶帶來極致的體驗(yàn),即將推出的Photon Mono 2就是為新手傾力打造,作為入門首選的光固化3D打印機(jī),將有哪些亮點(diǎn),跟小編一起來揭曉吧!

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高清大屏,精益求精

作為適合零基礎(chǔ)新手的入門款,Photon Mono 2搭載了進(jìn)階大屏,曝光屏增至6.6寸,分辨率達(dá)4096*2560,超乎期待的曝光屏配置,能夠真實(shí)還原創(chuàng)意構(gòu)思,呈現(xiàn)微小細(xì)節(jié),助你完成更出色的創(chuàng)意大作。

同時(shí),還附帶了透光率高達(dá)95%的大幅面屏幕保護(hù)膜,不僅能保障優(yōu)質(zhì)打印力,還能有效保護(hù)屏幕,防止刮花或樹脂滲漏等意外發(fā)生,給你雙倍安全感。

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尺寸升級,玩轉(zhuǎn)創(chuàng)意

占地面積太大也是用戶常詬病的問題,Photon Mono 2機(jī)身設(shè)計(jì)小巧緊湊,在機(jī)身體積幾乎不變的情況下擴(kuò)張打印尺寸,最大打印體積升級至2.09升,相比Photon Mono 4K 打印體積提升了20%,能充分滿足新手的創(chuàng)意需求,輕松玩轉(zhuǎn)創(chuàng)意。

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光源升級,還原細(xì)節(jié)

雖是入門級產(chǎn)品,但也搭載了縱維立方獨(dú)家升級版LighTurbo矩陣光源,采用了高精度曬紋光學(xué)透鏡,能夠提供穩(wěn)定均勻的平行光源,讓光學(xué)層紋與網(wǎng)格線大大減少,令打印效果更“精”一步,更好還原模型細(xì)節(jié),造就細(xì)膩光滑的模型效果,給予用戶舒心的打印體驗(yàn)。

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鐳雕平臺,打印給力

Photon Mono 2有不少能精準(zhǔn)助力新手新手打印成功的貼心小設(shè)計(jì),打印平臺從拉絲工藝金屬升級為鐳雕工藝金屬,相較于拉絲平臺,鐳雕工藝平臺的附著力更強(qiáng),提高了首層樹脂的粘附效果,從而大大保障了打印成功率。

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軟件升級,專業(yè)易用

除了不斷強(qiáng)化內(nèi)在硬實(shí)力,在產(chǎn)品軟實(shí)力上也同步革新。Photon Mono 2搭載了全新改版的Anycubic Photon Workshop 3.0切片軟件,通過對軟件色調(diào)、控件按鈕進(jìn)行重新設(shè)計(jì),打造出煥然一新的UI視覺界面。同時(shí)對切片流程、機(jī)器樹脂配置管理流程等不斷優(yōu)化,令操作體驗(yàn)更清晰順暢。

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不僅在易用性方面大大提升,Anycubic Photon Workshop 3.0也在專業(yè)性上全面升級。對支撐、抽殼、布局、切割等核心能力進(jìn)行了強(qiáng)化,使打印體驗(yàn)更佳,打印成功率更高。同時(shí)也進(jìn)一步提升打孔、切片等軟件性能,減少耗時(shí)、增強(qiáng)打印效率。

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Anycubic Photon Workshop 3.0除了基于原有功能進(jìn)行了多維度革新之外,還新增了諸多亮點(diǎn)功能——支持模型修復(fù)、模型視圖居中,以及增加切片預(yù)覽視圖工具欄、模型隱藏功能等,滿足用戶更多使用需求,讓切片操作更便捷高效,助你快速晉升為專業(yè)3D打印達(dá)人。

目前,Windows版本的Anycubic Photon Workshop 3.0將附于新品Photon Mono 2的U盤資料中,同時(shí)也支持在官網(wǎng)一鍵下載,后續(xù)還將同步上新Mac版本!大家可以進(jìn)入縱維立方官方下載頁面(https/cn.anycubic.com),搶先體驗(yàn)Windows版Anycubic Photon Workshop 3.0。

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作為知名的3D打印科技品牌,縱維立方始終堅(jiān)持以用戶體驗(yàn)為核心,保持大力研發(fā)和創(chuàng)新的初心,致力于為用戶帶來更極致、更前沿的科技體驗(yàn),引領(lǐng)3D打印行業(yè)向更科技、更創(chuàng)新化發(fā)展。此次的新品再次向行業(yè)證明了其創(chuàng)新能力,目前新品已在天貓、京東上新,感興趣的朋友可自行購買。

審核編輯黃宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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