0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

新思科技攜手英偉達(dá),加速計(jì)算光刻進(jìn)入“iPhone時(shí)刻”

新思科技 ? 來(lái)源:未知 ? 2023-03-25 16:40 ? 次閱讀

數(shù)十年來(lái),為制造工藝制作掩模一直是半導(dǎo)體制造中的重要環(huán)節(jié)。隨著我們轉(zhuǎn)向采用5nm、3nm甚至2nm等更先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn),縮短計(jì)算光刻耗時(shí)可幫助半導(dǎo)體制造公司高效地制造芯片。作為該領(lǐng)域的先鋒企業(yè),新思科技擁有先進(jìn)的技術(shù),能夠在超級(jí)計(jì)算機(jī)等領(lǐng)域加快分布式處理速度。

例如,新思科技最近與NVIDIA(英偉達(dá)合作,在NVIDIA cuLitho軟件庫(kù)上運(yùn)行新思科技的Proteus光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(OPC)軟件,這提供了另一種強(qiáng)大的方法來(lái)加快這類任務(wù)在GPU上的處理速度,將耗時(shí)從幾周縮短到幾天。

f250a80e-cae7-11ed-bfe3-dac502259ad0.jpg ?這意味著,在越來(lái)越先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)上開發(fā)芯片時(shí),通過(guò)使用這些解決方案,代工廠和客戶可以大幅縮短耗時(shí)。NVIDIA先進(jìn)技術(shù)事業(yè)部副總裁Vivek Singh表示:“隨著AI機(jī)器學(xué)習(xí)等應(yīng)用的發(fā)展,市場(chǎng)對(duì)小尺寸、高密度芯片的需求日益增長(zhǎng),光刻工藝需要大幅提速,才能跟上創(chuàng)新節(jié)奏。目前,巨大的計(jì)算工作負(fù)荷每年都需要消耗數(shù)百億小時(shí)的CPU計(jì)算時(shí)間。通過(guò)與新思科技協(xié)作,我們提高了這類計(jì)算工作負(fù)荷的處理速度,從而助力打造新的光刻解決方案,讓半導(dǎo)體技術(shù)的未來(lái)發(fā)展更可期?!?/span>

本文將進(jìn)一步介紹為什么此次合作對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)擴(kuò)展來(lái)說(shuō)是個(gè)利好消息,尤其是對(duì)于需要尺寸更小、性能更高的應(yīng)用。

什么是計(jì)算光刻?

在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻技術(shù)決定著芯片晶體管的尺寸。類似于在攝影中將底片上的圖像曝光到相紙上一樣,光刻工藝?yán)霉庠诠杈A上生成表示芯片設(shè)計(jì)的圖案。

隨著晶體管尺寸縮小,光刻工藝必須變得更加精準(zhǔn),才能更準(zhǔn)確地將圖案從光掩模轉(zhuǎn)印到晶圓上。在尺寸非常小時(shí),特征彼此距離更近,通常無(wú)法清晰準(zhǔn)確地將掩模圖案刻到晶圓上。光漫射會(huì)影響分辨率,導(dǎo)致圖案模糊或失真。例如,L形圖案可能實(shí)際上包含從周邊突出的其他線條或形狀。但是在尺寸非常小時(shí),這些形狀可能無(wú)法在光刻過(guò)程中刻印到晶圓上,從而可能導(dǎo)致芯片的重要元件出現(xiàn)遺漏。

f264ad36-cae7-11ed-bfe3-dac502259ad0.jpgOPC/ILT掩模,其中綠線表示在硅片上刻蝕簡(jiǎn)單方形觸點(diǎn)所需的掩模特征輪廓。這個(gè)例子說(shuō)明了計(jì)算光刻算法的復(fù)雜性。

計(jì)算光刻的作用就是補(bǔ)償因衍射或光學(xué)、抗蝕劑和蝕刻鄰近效應(yīng)而導(dǎo)致的任何圖像誤差。借助OPC軟件,開發(fā)者可以利用算法和數(shù)學(xué)方法以及大量仿真工作來(lái)操控光線,從而實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻過(guò)程。這個(gè)過(guò)程涉及到利用各種各樣的“假設(shè)”場(chǎng)景來(lái)找到正確的配置,以盡可能地提高轉(zhuǎn)印圖案的準(zhǔn)確性。例如,在光線周圍投射一些精心挑選的合適偽影,比如可以操控光線的襯線,可以在晶圓上生成更接近原始掩模的圖案。

為什么提高計(jì)算速度

對(duì)掩模綜合至關(guān)重要

隨著摩爾定律放緩,半導(dǎo)體行業(yè)正在接近物理極限,新的工藝和技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,為持續(xù)創(chuàng)新提供支持。納米級(jí)工藝最終將被埃米級(jí)工藝取代,從而打造出尺寸更小、密度更高的芯片。在這種尺寸級(jí)別下,對(duì)計(jì)算光刻的要求只會(huì)更高。

計(jì)算光刻是一項(xiàng)資源密集型工作,通常需要大量數(shù)據(jù)中心來(lái)處理相關(guān)計(jì)算和仿真運(yùn)行。這一過(guò)程可能需要很長(zhǎng)的時(shí)間,即使是使用最強(qiáng)大的計(jì)算機(jī)也是如此。與此同時(shí),開發(fā)者希望在芯片上封裝更多的晶體管,這進(jìn)一步增加了光刻的挑戰(zhàn),計(jì)算工作負(fù)荷也是只增不減。計(jì)算光刻的仿真環(huán)節(jié)是該過(guò)程中最耗時(shí)的部分之一。光刻過(guò)程中每個(gè)步驟的詳細(xì)模型都需要進(jìn)行仿真。全芯片應(yīng)用中可能有數(shù)百萬(wàn)個(gè)Tile,因此必須具有超快的掩模合成計(jì)算速度。

為了實(shí)現(xiàn)所需的性能提升,cuLitho已集成到新思科技Proteus全芯片掩模合成解決方案和Proteus ILT逆光刻技術(shù),并進(jìn)行了優(yōu)化,可在新一代NVIDIA Hopper 架構(gòu)GPU上運(yùn)行。Proteus掩模合成解決方案執(zhí)行全芯片鄰近校正,構(gòu)建校正模型并分析校正和未校正的IC布局圖案的鄰近效應(yīng)。Proteus ILT解決方案使用逆成像技術(shù)來(lái)解決先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)上具有挑戰(zhàn)性的最佳鄰近效應(yīng),幫助確定合適的掩模形狀以將設(shè)計(jì)意圖印制在硅片上。

傳統(tǒng)配置需要40,000個(gè)CPU系統(tǒng),而在cuLitho平臺(tái)上運(yùn)行的Proteus解決方案僅需要500個(gè)NVIDIA DGX H100節(jié)能型GPU系統(tǒng)。計(jì)算光刻工藝的所有部分都可以并行運(yùn)行,減少所需功耗并且運(yùn)行時(shí)間從數(shù)周縮短到數(shù)天。除了減少數(shù)據(jù)中心對(duì)環(huán)境的影響外,該解決方案還可以加快仿真運(yùn)行,從而縮短上市時(shí)間并提高芯片的結(jié)果質(zhì)量。

提高芯片密度

和良率的方法

智能音響到自動(dòng)駕駛汽車,開發(fā)者的巧思才智為人們的日常生活創(chuàng)造了豐富多樣的特色產(chǎn)品。而每一次創(chuàng)新浪潮的興起都離不開半導(dǎo)體和半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步。

提高光刻工藝的計(jì)算性能是一項(xiàng)重大成就。同樣,工藝其他方面仍有很多改進(jìn)的機(jī)會(huì),例如掩模合成中的建模。人工智能正在迅速成為芯片設(shè)計(jì)的主流技術(shù),大膽想象一下,如果人工智能可以幫助開發(fā)更好的掩模模型,進(jìn)一步縮短芯片的耗時(shí)并提高質(zhì)量又將如何呢?電子行業(yè)的集體智慧是無(wú)窮的,必將會(huì)引領(lǐng)我們推動(dòng)下一代芯片發(fā)展,抵達(dá)數(shù)智時(shí)代的芯片未來(lái)。

f2745376-cae7-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

計(jì)算光刻,特別是光學(xué)鄰近效應(yīng)修正(OPC),正在突破先進(jìn)芯片的計(jì)算工作負(fù)荷極限。通過(guò)與合作伙伴NVIDIA協(xié)作,在CULitho平臺(tái)上運(yùn)行我們的OPC軟件,我們大幅提高了計(jì)算光刻性能,將其耗時(shí)從數(shù)周縮短到數(shù)天!我們雙方將繼續(xù)竭誠(chéng)合作,推動(dòng)行業(yè)取得巨大的進(jìn)步。

Aart de Geus

新思科技董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官

f28099a6-cae7-11ed-bfe3-dac502259ad0.png


聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 新思科技
    +關(guān)注

    關(guān)注

    5

    文章

    775

    瀏覽量

    50191

原文標(biāo)題:新思科技攜手英偉達(dá),加速計(jì)算光刻進(jìn)入“iPhone時(shí)刻”

文章出處:【微信號(hào):Synopsys_CN,微信公眾號(hào):新思科技】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    英偉達(dá)預(yù)測(cè)機(jī)器人領(lǐng)域或迎“GPT-3時(shí)刻

    英偉達(dá),作為全球圖形處理器與人工智能領(lǐng)域的佼佼者,正引領(lǐng)著科技界對(duì)機(jī)器人未來(lái)的無(wú)限遐想。近日,英偉達(dá)高級(jí)科學(xué)家Jim Fan在科技媒體The Decoder的博文中,以及紅杉資本的采訪
    的頭像 發(fā)表于 09-20 17:05 ?432次閱讀

    英偉達(dá)Blackwell架構(gòu)揭秘:下一個(gè)AI計(jì)算里程碑?# 英偉達(dá)# 英偉達(dá)Blackwell

    英偉達(dá)行業(yè)資訊
    jf_02331860
    發(fā)布于 :2024年08月26日 10:58:09

    阿爾特攜手英偉達(dá),將Omniverse融入機(jī)器人研發(fā)

     近日,阿爾特公司在其機(jī)構(gòu)調(diào)研活動(dòng)中透露,公司正攜手英偉達(dá)技術(shù)團(tuán)隊(duì),將Omniverse平臺(tái)深度融入機(jī)器人研發(fā)領(lǐng)域,旨在打通英偉達(dá)全面的機(jī)器
    的頭像 發(fā)表于 07-25 12:40 ?552次閱讀

    英偉達(dá)TITAN AI顯卡曝光,性能狂超RTX 4090達(dá)63%!# 英偉達(dá)# 顯卡

    顯卡英偉達(dá)
    jf_02331860
    發(fā)布于 :2024年07月24日 17:18:28

    進(jìn)一步解讀英偉達(dá) Blackwell 架構(gòu)、NVlink及GB200 超級(jí)芯片

    計(jì)算工作負(fù)載、釋放百億億次計(jì)算能力和萬(wàn)億參數(shù)人工智能模型的全部潛力提供關(guān)鍵基礎(chǔ)。 NVLink釋放數(shù)萬(wàn)億參數(shù)AI模型的加速性能,顯著提升大型多GPU系統(tǒng)的可擴(kuò)展性。每個(gè)英偉
    發(fā)表于 05-13 17:16

    諾和諾德基金會(huì)將聯(lián)手英偉達(dá)打造丹麥AI超級(jí)計(jì)算機(jī)

    諾和諾德基金會(huì)攜手英偉達(dá),共同宣布在丹麥打造一臺(tái)領(lǐng)先的AI超級(jí)計(jì)算機(jī)。這臺(tái)超級(jí)計(jì)算機(jī)將致力于推動(dòng)醫(yī)療保健、生命科學(xué)以及綠色轉(zhuǎn)型等領(lǐng)域的科研與
    的頭像 發(fā)表于 03-21 13:43 ?440次閱讀

    思科攜手英偉達(dá):基于加速計(jì)算、生成式AI和Omniverse釋放下一代EDA潛能

    。這一合作將在集成電路設(shè)計(jì)、驗(yàn)證、仿真及制造各環(huán)節(jié)實(shí)現(xiàn)最高15倍的效能提升; 將 Synopsys.ai 的芯片設(shè)計(jì)生成式AI技術(shù)與英偉達(dá) AI 企業(yè)級(jí)軟件平臺(tái)進(jìn)行整合,平臺(tái)中包含英偉達(dá)
    發(fā)表于 03-20 13:43 ?190次閱讀
    新<b class='flag-5'>思科</b>技<b class='flag-5'>攜手</b><b class='flag-5'>英偉</b><b class='flag-5'>達(dá)</b>:基于<b class='flag-5'>加速</b><b class='flag-5'>計(jì)算</b>、生成式AI和Omniverse釋放下一代EDA潛能

    英偉達(dá)發(fā)布最強(qiáng)AI加速卡Blackwell GB200

    英偉達(dá)在最近的GTC開發(fā)者大會(huì)上發(fā)布了其最新、最強(qiáng)大的AI加速卡——GB200。這款加速卡采用了新一代AI圖形處理器架構(gòu)Blackwell,標(biāo)志著
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:38 ?874次閱讀

    英偉達(dá)加入量子計(jì)算云服務(wù)競(jìng)賽

    英偉達(dá)進(jìn)軍量子計(jì)算云服務(wù)領(lǐng)域,標(biāo)志著這家圖形處理器和人工智能技術(shù)的領(lǐng)軍企業(yè)正積極擁抱科技前沿,順應(yīng)量子計(jì)算技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。英偉
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:31 ?689次閱讀

    英偉達(dá)攜手臺(tái)積電、新思科技,力推下一代半導(dǎo)體芯片制造技術(shù)

    英偉達(dá)與臺(tái)積電、 Synopsys 已做出決策,將在其軟件環(huán)境、制造工藝以及系統(tǒng)上整合英偉達(dá)的 cuLitho 計(jì)算
    的頭像 發(fā)表于 03-19 11:41 ?513次閱讀

    英偉達(dá)GTC大會(huì)將開幕 黃仁勛將帶你《見證AI的變革時(shí)刻

    將在美國(guó)舉辦,黃仁勛將在北京時(shí)間3月19日4:00—6:00發(fā)表主題演講《見證AI的變革時(shí)刻》;將分享英偉達(dá)加速計(jì)算平臺(tái)如何推動(dòng)AI、數(shù)字
    的頭像 發(fā)表于 03-18 18:25 ?1245次閱讀

    AI引爆英偉達(dá)業(yè)績(jī) 美國(guó)股市因英偉達(dá)季績(jī)強(qiáng)勁上漲

    AI引爆英偉達(dá)業(yè)績(jī) 美國(guó)股市英偉達(dá)季績(jī)強(qiáng)勁上漲 AI的持續(xù)火爆引發(fā)一場(chǎng)全球資本市場(chǎng)狂歡,而且隨著Sora、Gemini1.5等大模型面世;大模型的
    的頭像 發(fā)表于 02-23 19:37 ?1190次閱讀

    英偉達(dá)與Equinix合作為企業(yè)客戶提供超級(jí)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)

    近日,數(shù)據(jù)中心運(yùn)營(yíng)商Equinix與芯片巨頭英偉達(dá)宣布達(dá)成一項(xiàng)重要合作。雙方將共同為企業(yè)客戶提供英偉達(dá)的超級(jí)計(jì)算機(jī)系統(tǒng),使企業(yè)能夠更輕松地?fù)?/div>
    的頭像 發(fā)表于 01-29 11:20 ?603次閱讀

    英偉達(dá)用AI設(shè)計(jì)GPU算術(shù)電路有何優(yōu)勢(shì)

    大量的算術(shù)電路陣列為英偉達(dá)GPU提供了動(dòng)力,以實(shí)現(xiàn)前所未有的AI、高性能計(jì)算計(jì)算機(jī)圖形加速。因此,改進(jìn)這些算術(shù)電路的設(shè)計(jì)對(duì)于提升 GPU
    發(fā)表于 12-05 11:05 ?354次閱讀

    #英偉達(dá) #顯卡 英偉達(dá)全新旗艦顯卡RTX 5090性能暴漲70%

    顯卡英偉達(dá)
    深圳市浮思特科技有限公司
    發(fā)布于 :2023年11月20日 14:19:25