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新品推薦—無(wú)掩膜版紫外***

jf_64961214 ? 來(lái)源:jf_64961214 ? 作者:jf_64961214 ? 2023-03-28 08:55 ? 次閱讀

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在基礎(chǔ)科研中,微納結(jié)構(gòu)的跨尺度光刻逐漸成為研究者在制備樣品過(guò)程中的必要手段。常規(guī)***需要定制光學(xué)掩模板,這不僅增高成本,還使靈活性大打折扣,即當(dāng)發(fā)生任何設(shè)計(jì)上的變動(dòng),都需要重新制造掩模板。激光直寫(xiě)設(shè)備具備高靈活性,且可以實(shí)現(xiàn)較高精度,但由于是逐行掃描,曝光效率較低。近些年,基于空間光調(diào)制器(DMD/DLP)的技術(shù)在紫外曝光方面獲得了長(zhǎng)足的進(jìn)展。

閃光科技為您推出TTT-07-UV Litho-ACA無(wú)掩模板紫外***就采用空間光調(diào)制器的光刻技術(shù),使得其在光學(xué)掩模板設(shè)計(jì)上有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。其分辨率可達(dá)1 μm,高性能無(wú)鐵芯直線驅(qū)動(dòng)電機(jī)保證了套刻精度和6英寸的圖形拼接。同時(shí),其研發(fā)團(tuán)隊(duì)通過(guò)定制化微納結(jié)構(gòu)與器件的低成本、效率達(dá)成批量制造,實(shí)現(xiàn)規(guī)模化應(yīng)用,助力電子、光學(xué)和生物等領(lǐng)域的微納米器件研究與開(kāi)發(fā)。

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主要應(yīng)用方向包括: 微流道芯片,微納結(jié)構(gòu)曝光,電輸運(yùn)測(cè)試/光電測(cè)試器件,二維材料的電極搭建,太赫茲/毫米波器件制備,光學(xué)掩模板的制作等。

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東方閃光(北京)光電科技有限公司,是一家光學(xué)儀器設(shè)備供應(yīng)商與服務(wù)商。 公司成立于2012年,在北京、上海、西安、昆山設(shè)有辦事處,業(yè)務(wù)范圍遍及全國(guó)。 閃光科技致力于將國(guó)內(nèi)外光學(xué)儀器設(shè)備,結(jié)合自身的專業(yè)知識(shí)與行業(yè)經(jīng)驗(yàn),引薦給科研和企業(yè)用戶,提供解決方案,公司十分重視公司的聲譽(yù)和客戶體驗(yàn),并為此付出巨大努力,并獲得客戶的一致好評(píng)。 我們相信,每一次的合作,都是一次服務(wù)之旅的開(kāi)始。


審核編輯黃宇

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