淺談光刻技術(shù)

引言

在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。

在芯片制造中，晶圓是必不可少的。硅棒是從石英砂等二氧化硅（SiO2）礦石中提純出來，通過一系列化學(xué)和物理冶煉方法，然后切割成圓形的單晶硅片。晶圓是制造各種計算機(jī)芯片的基礎(chǔ)。我們可以把芯片制造比作搭積木蓋房子，通過一層一層的堆疊，就可以完成我們想要的形狀（即各種芯片）。但是，如果沒有好的地基，蓋出來的房子就會歪歪扭扭，不盡如人意。為了建造一個完美的房子，需要一個穩(wěn)定的底板。對于芯片制造，這種基板就是晶圓。

光刻技術(shù)

光刻是一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。常規(guī)光刻技術(shù)以波長為2000-4500埃的紫外光為圖像信息載體，以光刻膠光刻蝕刻劑為中間（圖像記錄）介質(zhì)，實現(xiàn)圖像的變換、傳遞和處理，最終傳輸圖像信息。在晶圓（主要是硅晶圓）或介質(zhì)層上的工藝。

光刻技術(shù)是制作芯片制造所需的電路和功能區(qū)域。簡單來說，就是將芯片設(shè)計者設(shè)計的電路和功能區(qū)域“印”在晶圓上，類似于用相機(jī)拍照。相機(jī)拍攝的照片印在底片上，光刻雕刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。就像一個空腦袋。通過光刻技術(shù)把指令放進(jìn)去，大腦就可以工作了，電路圖等電子元器件就是芯片設(shè)計者設(shè)計的指令。

光刻包括影印和蝕刻工藝兩個主要方面

晶圓表面或介質(zhì)層上的抗蝕劑薄層圖形完全一致的圖形。集成電路的功能層是三維重疊的，因此光刻工藝總是要重復(fù)多次。例如，一個大規(guī)模集成電路需要大約10次光刻才能完成每一層圖形的全部轉(zhuǎn)移。

在光刻技術(shù)的原理下，人們制造出了***。***通過一系列光源能量和形狀控制方法，使光束通過帶有電路圖的掩模，通過物鏡補償各種光學(xué)誤差。電路圖按比例縮小，然后映射到晶圓上。不同的***具有不同的成像比，從5:1到4:1不等。然后使用化學(xué)方法對其進(jìn)行開發(fā)，從而在晶圓上蝕刻出電路圖（即芯片）。（江蘇英思特半導(dǎo)體科技有限公司）

一般的光刻工藝需要經(jīng)過硅片表面清洗干燥、打底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。一次光刻后，芯片可以繼續(xù)涂膠曝光。芯片越復(fù)雜，電路圖的層數(shù)越多，對曝光控制過程的要求也就越精確。先進(jìn)的芯片現(xiàn)在有30多層。

可以說，光刻技術(shù)決定了半導(dǎo)體電路的精度，也決定了芯片的功耗和性能。相關(guān)設(shè)備需要綜合材料、光學(xué)、機(jī)電等領(lǐng)域最先進(jìn)的技術(shù)。

江蘇英思特半導(dǎo)體科技有限公司主要從事濕法制程設(shè)備，晶圓清潔設(shè)備，RCA清洗機(jī)，KOH腐殖清洗機(jī)等設(shè)備的設(shè)計、生產(chǎn)和維護(hù)。

審核編輯：湯梓紅