上兩期介紹了粗糙度的概念、設(shè)備,也著重說(shuō)明了白光干涉原理在粗糙度的應(yīng)用優(yōu)勢(shì),
而目前半導(dǎo)體、3C制造、材料、精密加工等領(lǐng)域,
除了粗糙度,還會(huì)涉及到臺(tái)階高度測(cè)量,微觀領(lǐng)域的臺(tái)階從幾個(gè)納米到幾百微米不等。
本期,小優(yōu)博士帶大家一起了解白光干涉在測(cè)量臺(tái)階高度的優(yōu)勢(shì)。
精度高
白光干涉儀精度可達(dá)亞納米級(jí)別
多線測(cè)量 工具豐富
快速選取比探針式更多的截面,保證測(cè)量穩(wěn)定性;
功能豐富,自動(dòng)測(cè)量最高最低點(diǎn)、平均值,統(tǒng)計(jì)分析。
圖2 , “晶圓切割臺(tái)階深度”(由 優(yōu)可測(cè)EX-230,20X 拍攝)
低至0.02%反射率的表面也可以輕松采集點(diǎn)云成像。
圖3,“超光滑玻璃鏡面”(由 優(yōu)可測(cè)EX-230 ,20X 拍攝)
非接觸式測(cè)量
非接觸式不會(huì)刮傷表面,
軟質(zhì)、尖銳產(chǎn)品可測(cè)。
圖4,“軟質(zhì)材料凝固實(shí)驗(yàn)”(由 優(yōu)可測(cè)ER-230 ,20X 拍攝)
廣視野 速度快
倍率精度相同,可獲得大視野。
以面的形式掃描,
一般在數(shù)秒鐘內(nèi)即可完成測(cè)量。
優(yōu)可測(cè)白光干涉儀甚至可達(dá)400μm/s 掃描速度。
審核編輯黃宇
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白光干涉儀
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2017
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