euv即極紫外線光刻技術(shù)是光刻技術(shù)領(lǐng)域的新技術(shù),被視為未來半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要部分。但是,euv技術(shù)的開發(fā)存在很多困難,仍然存在局限性。
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域***生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊,也是全球市場占有率最大的***生產(chǎn)企業(yè)。2012年,asml推出了世界上第一個euv試制品,并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。共花費了7年的時間。2019年,asml發(fā)布了euv的第一個量產(chǎn)版本asmlnxe:3400c,宣布euv***技術(shù)的正式量產(chǎn)階段。
在asml中,euv***的開發(fā)過程也很長。asml將從2001年開始投入巨額資金和人力,到2019年批量生產(chǎn),歷時10年完成。這體現(xiàn)了euv***技術(shù)在發(fā)展過程中所克服的技術(shù)難題和挑戰(zhàn)。
asml公司的euv***技術(shù)的突破是***領(lǐng)域的偉大成就,但據(jù)許多報道,***的突破并不完全是事實。也有媒體不正確或報道不完全或夸張描寫,試圖吸引眼球的情況。
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