紫外光刻機(jī)（桌面型掩膜對準(zhǔn)）

MODEL： XT-01-UV litho-手動版

一、產(chǎn)品簡介

光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子、信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學(xué)變化，通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，將設(shè)計(jì)在掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路。本設(shè)備是專門針對企業(yè)及科研單位研發(fā)的一種精密光刻機(jī)，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

二、主要性能指標(biāo)

1、 曝光類型：單面；

2、 曝光面積：110×110mm；

3、 曝光照度不均勻性：≤±5%；

4、 紫外光束角：≤5°

5、 紫外光中心波長：254nm/365nm（出廠時(shí)標(biāo)準(zhǔn)配置為 365nm，其他波段可選配，需在訂貨時(shí)提出）；

6、 紫外光源時(shí)間：≥2 萬小時(shí)；

7、 采用電子快門；

8、 曝光分辨率：2μm；

9、 顯微鏡掃描范圍：X：±50mm，Y：±50mm；

10、 對準(zhǔn)范圍：X、Y 調(diào)節(jié)±6.5mm，Q 向 360°粗調(diào)，±5°精調(diào)；

11、 套刻精度：2μm（用戶的“版”、“片”精度必須符合國家規(guī)定，環(huán)境、溫度、濕度、塵埃能得到嚴(yán)格控制，采用進(jìn)口正性光刻膠，且勻膠厚度能得到嚴(yán)格控制，加之前后工藝先進(jìn)）；

12、 曝光方式：接觸式曝光；

13、 顯微系統(tǒng)：單目 CCD 顯微系統(tǒng)，2000 倍金相同軸光顯微鏡；光學(xué)放大倍數(shù) 0.7X-4.5X; 高清 2K 工業(yè)CCD 相機(jī)；LED 同軸光源；13.3 寸掛屏；

14、 掩模版尺寸：≤127×127mm；

15、 基片尺寸：≤Φ100mm；

16、 基片厚度：≤5mm；

17、 曝光定時(shí)：0～999.9 秒（可調(diào)）；

18、 電源：單相 AC220V 50HZ；

19、 設(shè)備所需能源：220V±10%，50HZ；

三、工作條件

1、安裝環(huán)境：

(1) 建議室溫保持在 25℃±2℃（77°F±3.6°F 華氏）。

(2) 相對濕度不超過 60%

(3) 振動，因?yàn)槠毓鈾C(jī)要求很高的對準(zhǔn)精度，故要求機(jī)器安裝在無振動的地方，保持振幅不超過 4μm。

(4) 凈化。房間的凈化也很重要，特別是生產(chǎn)線條很細(xì)的產(chǎn)品，希望房間凈化到 100 級。

2、對掩版的要求：

該機(jī)對掩版厚度無要求而外形尺寸和不平整度都應(yīng)符合國家標(biāo)準(zhǔn)。

四、操作簡要說明：

1、打開電源開關(guān)（位于設(shè)備左后方）燈亮。

2、打開 LED 黃光照明系統(tǒng)開關(guān)(操作面板標(biāo)有“LED”字樣的開關(guān))，指示燈亮。

3、將硅片放置在四軸高精度對準(zhǔn)平臺上的真空吸附盤上，啟動真空泵。通過控制位于設(shè)備左側(cè)標(biāo)有“4inch、2inch、1inch”字樣的三個(gè)氣動開關(guān)，可以選擇吸附 1 英寸-4 英寸不同尺寸的硅片。

4、檢查硅片是否被吸牢。如未吸附穩(wěn)，應(yīng)查明原因：

(1) 檢查各氣管接口是否正常連接，若有漏氣情況，逐個(gè)排查并重新連接各接口和管道；

(2) 檢查吸附盤表面是否清潔，防止碎屑或雜物影響硅片吸附；

(3) 檢查硅片底面是否平整，若片不規(guī)則（如碎片等），硅片吸附牢靠程度降低，需要重新?lián)Q硅片；

5、安裝掩模版：調(diào)節(jié)掩膜版壓板上的兩個(gè)梅花手柄螺絲，將掩膜版裝入掩膜版安裝托盤，并將安裝托盤推入安裝平臺，調(diào)整好位置后擰緊掩膜版壓板上的梅花手柄螺絲

6、對準(zhǔn)：

(1) 打開顯微鏡開關(guān)(操作面板標(biāo)有“顯微鏡”字樣的開關(guān))；

(2) 打開 LED 亮度調(diào)節(jié)器調(diào)節(jié)開關(guān)(位于門內(nèi)存)，通過 LED 亮度調(diào)節(jié)器旋鈕調(diào)節(jié)顯微鏡 LED亮度；

(3) 通過顯微鏡觀察掩膜版和樣片標(biāo)記圖形相對位置；

(4) 調(diào)節(jié)四軸對準(zhǔn)平臺中 X、Y、R 三個(gè)方向，當(dāng)操作者確信版和片對準(zhǔn)后，調(diào)節(jié) Z 軸上升，使硅片與掩膜版接觸并貼緊

(5) 轉(zhuǎn)動顯微鏡到一側(cè)，露出曝光位置，關(guān)門，完成對準(zhǔn)

l 注 1：對準(zhǔn)操作必須在硅片和掩膜版分離情況下操作，否則將擦傷掩膜版

l 注 2：觀察到硅片和掩模版貼合不跑片即可，防止 Z 軸向上位移過大，壓碎硅片或掩膜版

7、曝光：

(1) 手動選擇曝光波段(操作面板標(biāo)有“波段”字樣的鈕子開關(guān))；

l 注 3：本設(shè)備出廠時(shí)標(biāo)準(zhǔn)配置為365nm，其他波段可選配，需在訂貨時(shí)提出

(2) 預(yù)設(shè)曝光時(shí)間，本設(shè)備操作面板上設(shè)有 0.1～999.9 秒時(shí)間繼電器(操作面板標(biāo)有“曝光時(shí)間”字樣），設(shè)置所需曝光時(shí)間；

(3) 打開紫外曝光系統(tǒng)開關(guān)(操作面板標(biāo)有“曝光”字樣的開關(guān))，曝光計(jì)時(shí)開始，時(shí)間繼電器上的時(shí)鐘數(shù)碼不斷閃動，電子快門在計(jì)時(shí)開始時(shí)已打開。直到預(yù)設(shè)時(shí)間到，快門關(guān)，完成曝光。

8、完成曝光后，開門，調(diào)節(jié) Z 軸下降，確保硅片和掩膜版完全脫離后，擰開兩個(gè)梅花手柄螺絲，移出掩膜版托盤，關(guān)閉氣動開關(guān)，移除硅片

9、關(guān)閉真空泵，關(guān)閉電源

五、安裝說明

1、拆箱：

拆箱取出設(shè)備主體和顯微鏡，此時(shí)不需要無塵環(huán)境

2、安裝：

(1) 將設(shè)備主體放置于振幅不超過 4 微米的平臺上；

(2) 認(rèn)真檢查并清潔吸附盤、掩膜版安裝盤等；

(3) 安裝金相同軸光顯微鏡系統(tǒng)；

(4) 電源和氣源連接

六、使用、維護(hù)和保養(yǎng)說明

1、 定期檢查：定期檢查可使光刻機(jī)處于良好的工作狀態(tài)，并達(dá)到其做好的工作性能。每日需要檢查管路系統(tǒng)，避免漏氣；清掃吸附盤、掩膜版安裝盤，確保接觸面無油、無塵、無硅渣等，確保硅片被穩(wěn)定吸附，掩模版找平。

2、 電氣部分使用維護(hù)和保養(yǎng)：XT-01-UV litho-手動版桌面型掩膜對準(zhǔn)紫外光刻機(jī)電氣控制部分包括 LED 黃光照明系統(tǒng)、紫外曝光燈路、曝光定時(shí)等幾部分。電源：220V，50HZ。