共聚焦顯微鏡是一種光學成像技術,可以通過使用空間針孔來阻擋散焦光來提高顯微圖像的光學分辨率和對比度。在圖像形成中,捕獲樣品中不同深度的多個二維圖像可重建三維結構(即光學切片過程)。該技術廣泛用于科學和工業(yè)界,典型的應用是生命科學、半導體檢查和材料科學。
利用照明點與探測點共軛特性,共聚焦顯微鏡可有效抑制同一焦點平面上非測量點的雜散熒光及來自樣品中非焦平面的熒光,從而獲得普通光鏡無法達到的分辨率。它顯微成像主要采用3D捕獲的成像技術,使其具有較高的三維圖像分辨率。這些都是通過構建顯微照片來實現(xiàn)的。
共聚焦顯微鏡成像原理
共焦顯微鏡裝置是在被測對象焦平面的共軛面上放置兩個小孔,其中一個放在光源前面,另一個放在探測器前面,如圖所示。
共焦顯微鏡光路示意圖
得到的圖像是來自一個焦平面的光通過針孔數(shù)碼相機聚焦拍攝,通過所累積的不同焦平面的圖像序列,使用軟件編譯完整的 3d 圖像。
VT6000激光共聚焦顯微鏡是應用在材料生產領域中的光學檢測儀器。用于對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量,高度測量精度0.2μm,寬度測量精度± 2%。
部分參數(shù)
高度測量重復性(1σ):12nm
高度測量精度:± (0.2+L/100) μm
高度測量分辨率:0.5nm
寬度測量重復性(1σ):40nm
寬度測量精度:± 2%
寬度測量分辨率:1nm
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