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塵埃落定!ASML將限制***出口

要長高 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2023-06-27 17:15 ? 次閱讀

當(dāng)今世界,科技競爭和數(shù)字化轉(zhuǎn)型使得芯片成為重要戰(zhàn)略資源。高端芯片制造環(huán)節(jié)是領(lǐng)導(dǎo)者的關(guān)鍵。盡管中國有數(shù)量龐大的17萬家芯片企業(yè),也有與高通、蘋果等巨頭相匹敵的企業(yè),但在高端芯片制造方面卻受到西方的制約。

近日,荷蘭宣布將在6月底或7月初實(shí)施出口管制,限制多款DUV高端型號設(shè)備的出貨,其中包括ASML***。由于中國自主研發(fā)的***制程只能達(dá)到90納米,并不能滿足對55納米、28納米和14納米等成熟工藝制程的需求,因此中國芯片制造業(yè)大部分依賴進(jìn)口荷蘭ASML公司的***來確保穩(wěn)定運(yùn)轉(zhuǎn)。

然而,由于ASML受到美國的限制,無法向中國大陸出口EUV***,導(dǎo)致中國大陸芯片制造商無法量產(chǎn)7納米及以下的高端芯片。

盡管中國在成熟芯片制造市場上已形成布局,但隨著荷蘭與美國達(dá)成協(xié)議,中國面臨一定的變數(shù)。ASML于今年3月底透露了荷蘭、日本和美國達(dá)成協(xié)議的消息,并強(qiáng)調(diào)協(xié)議需要數(shù)月時(shí)間才能落地。

在6月下旬,荷蘭正式宣布將在6月底或7月初實(shí)施出口管制,限制多款DUV高端型號設(shè)備的出貨,包括TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i等深紫外光(DUV)浸入式光刻設(shè)備。

為實(shí)現(xiàn)***的自主可控和自立自強(qiáng),中國的科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)加大了攻克***方面的力度,并得到國資委和科技部的積極支持。此外,中國也在利用未受限制的設(shè)備來解決中高端芯片制造方面的問題,其中ASML的DUV***曾多次用于生產(chǎn)14納米甚至7納米工藝芯片。

盡管如此,美國仍不停止制約,與日本和荷蘭聯(lián)合達(dá)成了三方協(xié)議,對14納米相關(guān)芯片制造設(shè)備實(shí)施出口管制。

編輯:黃飛

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