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韓國政府將加大對半導(dǎo)體/顯示器等技術(shù)泄露的處罰

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-07-20 10:23 ? 次閱讀

據(jù)businesskorea報道,隨著半導(dǎo)體和顯示器等主要產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷向海外外流,韓國政府發(fā)起了加強(qiáng)對技術(shù)外流處罰的法案。

據(jù)業(yè)界18日稱,產(chǎn)業(yè)通商資源部(motie) 6月末公布了對《工業(yè)技術(shù)防止泄露和保護(hù)法》的部分修改方案,計劃在8月7日之前經(jīng)過立法預(yù)審期間(包括收集意見)提交給國會。

他表示:“現(xiàn)行法律規(guī)定,為使國內(nèi)核心技術(shù)和產(chǎn)業(yè)技術(shù)在外國使用或使用而對外泄行為進(jìn)行處罰,但有人指出,‘目的證明’的困難削弱了對技術(shù)外泄的應(yīng)對力度?!盡OTIE在立法預(yù)覽中做出了上述說明。他還補(bǔ)充說:“對介紹、介紹或誘導(dǎo)技術(shù)泄露的人進(jìn)行處罰,防止介紹技術(shù)泄露的行為的必要性越來越大?!?/p>

有分析認(rèn)為,隨著最近半導(dǎo)體和顯示器等主要產(chǎn)業(yè)的技術(shù)泄露事例劇增,韓國當(dāng)局將對此采取制裁措施。

修改的內(nèi)容是擴(kuò)大法律禁止的侵權(quán)行為的范圍,增加泄露國外秘密的犯罪人數(shù)。該法將無故將國內(nèi)核心技術(shù)泄露到指定場所以外或介紹、企劃、誘導(dǎo)技術(shù)泄露的行為規(guī)定為侵權(quán),將泄露國內(nèi)核心技術(shù)和產(chǎn)業(yè)技術(shù)的犯罪從目的犯罪改為故意犯罪。如果明知技術(shù)將在外國使用或有可能被使用而泄露技術(shù),就會受到處罰。

另外,大法院量刑委員會對知識產(chǎn)權(quán)犯罪的量刑方針進(jìn)行了修改。如果提高對技術(shù)泄露犯罪的量刑標(biāo)準(zhǔn),將大幅加強(qiáng)對相關(guān)犯罪的處罰,從而可以防止對韓國經(jīng)濟(jì)安全產(chǎn)生惡劣影響的犯罪。根據(jù)現(xiàn)行法律,如果將國內(nèi)核心技術(shù)泄露到海外,最高可處以3年有期徒刑和15億韓元(約120萬美元)罰款。

產(chǎn)業(yè)通商資源部在4月向大法院量刑委員會提交了要求加強(qiáng)對產(chǎn)業(yè)技術(shù)泄露犯罪的量刑標(biāo)準(zhǔn)的意見書。最近,韓國產(chǎn)業(yè)聯(lián)合會等經(jīng)濟(jì)團(tuán)體也根據(jù)企業(yè)的要求,向大法院量刑委員會提交了加重刑罰的意見書。業(yè)界有關(guān)人士表示:“由于可以與韓國的核心技術(shù)或產(chǎn)業(yè)技術(shù)相關(guān)的外國學(xué)者或機(jī)關(guān)共同進(jìn)行研究,因此如果將技術(shù)介紹和企劃解釋為技術(shù)泄露,有可能會產(chǎn)生副作用。”

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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