0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

光刻膠產(chǎn)業(yè)大會在邳舉行,上達電子等與會!

FPCworld ? 來源:邳州發(fā)布等 ? 2023-08-16 15:30 ? 次閱讀

8月15日,2023年第三屆勢銀(邳州)光刻膠產(chǎn)業(yè)大會在邳州市舉行。來自全國各地光刻膠產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的權(quán)威專家、行業(yè)精英、業(yè)界翹楚齊聚邳州,共商發(fā)展大計,助推光刻膠產(chǎn)業(yè)更高質(zhì)量發(fā)展。

我市市委副書記、市長王偉,國家重大人才引進工程專家、俄羅斯工程院院士李偉教授,廣東工業(yè)大學(xué)、俄羅斯工程院院士、國家杰青閔永剛教授,勢銀董事長唐蔚波、徐州博康信息化學(xué)品有限董事長傅志偉等出席活動并致辭。

會上,經(jīng)開區(qū)分別同4家企業(yè)就功率器件IC封測項目、超級功率電池及鋰電池PACK產(chǎn)線項目、氫能產(chǎn)業(yè)集群項目、高性能電池項目進項現(xiàn)場簽約。會議還舉行了《2023勢銀光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍皮書》發(fā)布儀式。

會后,與會嘉賓還一同前往我市博康化學(xué)品、魯汶儀器、源康電子、上達半導(dǎo)體等企業(yè)參觀交流。

據(jù)了解,江蘇上達半導(dǎo)體成立于2017年,是顯示驅(qū)動IC覆晶薄膜封裝基板(COF)廠商。COF即Chip on Film,是一種主要應(yīng)用于面板驅(qū)動IC的封裝技術(shù),是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈驅(qū)動封裝測試環(huán)節(jié)關(guān)鍵材料,也是國家發(fā)布的半導(dǎo)體芯片制造所必須的19種關(guān)鍵材料之一。

目前,上達半導(dǎo)體團隊獨立形成多達50余項發(fā)明專利,在LED顯示屏、LCD顯示面板及新型顯示屏等各類顯示領(lǐng)域形成較為完整的技術(shù)儲備,可為不同客戶提供線距低至16μm顯示驅(qū)動芯片封裝解決方案,目前已集聚DB HiTek、ILITEK、東芝、夏普等客戶,并于2021年內(nèi)通過國內(nèi)多家IC設(shè)計公司的審廠驗證,開始批量供貨。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 鋰電池
    +關(guān)注

    關(guān)注

    259

    文章

    7922

    瀏覽量

    167265
  • 功率器件
    +關(guān)注

    關(guān)注

    41

    文章

    1676

    瀏覽量

    90005
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    301

    瀏覽量

    29982
  • 電池
    +關(guān)注

    關(guān)注

    84

    文章

    10192

    瀏覽量

    127049

原文標題:光刻膠產(chǎn)業(yè)大會在邳舉行,上達電子等與會!

文章出處:【微信號:FPCworld,微信公眾號:FPCworld】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?84次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?273次閱讀

    光刻膠涂覆工藝—旋涂

    為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:46 ?378次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜?;蛲ㄟ^低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?286次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?318次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?573次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負使用。相比而言,負工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?295次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?440次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案?;诰酆衔锏呢撔?b class='flag-5'>光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?1755次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?2946次閱讀

    如何在芯片中減少光刻膠的使用量

    光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層能提供更長的耐蝕刻時間。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 10:49 ?433次閱讀
    如何在芯片中減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>的使用量

    光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

    光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達應(yīng)用場景。
    發(fā)表于 01-03 18:12 ?987次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結(jié)構(gòu)

    速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

    光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們在勻時,是如何確定勻速度呢?它影響
    的頭像 發(fā)表于 12-15 09:35 ?1428次閱讀
    勻<b class='flag-5'>膠</b>速度影響<b class='flag-5'>光刻膠</b>的哪些性質(zhì)?

    不僅需要***,更需要光刻膠

    為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬
    的頭像 發(fā)表于 11-27 17:15 ?901次閱讀

    光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

    光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠
    發(fā)表于 11-13 18:14 ?1244次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>黏度如何測量?<b class='flag-5'>光刻膠</b>需要稀釋嗎?