0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

jt_rfid5 ? 來(lái)源:Lightigo ? 2023-08-24 10:38 ? 次閱讀

052ea148-419d-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

05571182-419d-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

05af7c14-419d-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

05e584f8-419d-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

0611bed8-419d-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

0634092a-419d-11ee-a2ef-92fbcf53809c.png

來(lái)源:Lightigo

審核編輯:湯梓紅

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    334

    文章

    26311

    瀏覽量

    209940
  • 制造工藝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    168

    瀏覽量

    19649
  • 光刻工藝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    27

    瀏覽量

    1794

原文標(biāo)題:【光電集成】半導(dǎo)體制造工藝(一)光刻工藝

文章出處:【微信號(hào):今日光電,微信公眾號(hào):今日光電】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻工藝的基本步驟

    傳統(tǒng)的光刻工藝是相對(duì)目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進(jìn)光刻工藝而言的,普遍認(rèn)為 193nm 波長(zhǎng)的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見(jiàn)下表)。這是因?yàn)?193nm 的光刻依靠浸沒(méi)式
    發(fā)表于 10-18 11:20 ?1.5w次閱讀

    淺談半導(dǎo)體制造中的光刻工藝

    在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過(guò)程和集成電路的部分發(fā)展史?,F(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過(guò)該過(guò)程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過(guò)程與使用膠片相機(jī)拍照非常相似。但是具體是怎么實(shí)現(xiàn)的呢?
    發(fā)表于 06-28 10:07 ?4461次閱讀
    淺談<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>中的<b class='flag-5'>光刻工藝</b>

    半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

    光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電
    的頭像 發(fā)表于 12-04 09:17 ?3014次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>之光刻工藝</b>講解

    #半導(dǎo)體制造工藝 UV光刻:基于掩模的光刻

    制造工藝半導(dǎo)體制造集成電路工藝
    電子技術(shù)那些事兒
    發(fā)布于 :2022年10月15日 14:59:33

    有關(guān)半導(dǎo)體工藝的問(wèn)題

    的同義詞?那CMOS工藝是屬于什么工藝?。课以趺从浀靡郧昂孟裾f(shuō)半導(dǎo)體工藝,一般都是說(shuō)什么CMOS,NMOS,TTL等等譬如摻雜、注入、光刻
    發(fā)表于 09-16 11:51

    半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記

    `《半導(dǎo)體制造工藝》學(xué)習(xí)筆記`
    發(fā)表于 08-20 19:40

    單片機(jī)晶圓制造工藝及設(shè)備詳解

    今日分享晶圓制造過(guò)程中的工藝及運(yùn)用到的半導(dǎo)體設(shè)備。晶圓制造過(guò)程中有幾大重要的步驟:氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴(kuò)散等。這幾個(gè)主要步驟都
    發(fā)表于 10-15 15:11

    半導(dǎo)體制造的難點(diǎn)匯總

    是各種半導(dǎo)體晶體管技術(shù)發(fā)展豐收的時(shí)期。第一個(gè)晶體管用鍺半導(dǎo)體材料。第一個(gè)制造硅晶體管的是德州儀器公司。20世紀(jì)60年代——改進(jìn)工藝此階段,半導(dǎo)體制造
    發(fā)表于 09-02 18:02

    半導(dǎo)體光刻工藝

    半導(dǎo)體光刻工藝
    發(fā)表于 02-05 09:41

    《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》GaN 納米線制造和單光子發(fā)射器器件應(yīng)用的蝕刻工藝

    `書(shū)籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:GaN 納米線制造和單光子發(fā)射器器件應(yīng)用的蝕刻工藝編號(hào):JFSJ-21-045作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com
    發(fā)表于 07-08 13:11

    《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》IC制造工藝

    `書(shū)籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章:IC制造工藝編號(hào):JFSJ-21-046作者:炬豐科技網(wǎng)址:http://www.wetsemi.com/index.html摘要:集成電路的
    發(fā)表于 07-08 13:13

    半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載

    本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體制造工藝教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載主要內(nèi)容包括了:1.1 引言 1.2基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu) 1.3半導(dǎo)體器件工藝
    發(fā)表于 11-19 08:00 ?210次下載
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>工藝</b>教程的詳細(xì)資料免費(fèi)下載

    MEMS工藝——半導(dǎo)體制造技術(shù)

    MEMS工藝——半導(dǎo)體制造技術(shù)說(shuō)明。
    發(fā)表于 04-08 09:30 ?248次下載
    MEMS<b class='flag-5'>工藝</b>——<b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b>技術(shù)

    半導(dǎo)體制造之光刻原理、工藝流程

    光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹(shù)脂三種主要成分組成,是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝
    發(fā)表于 10-09 14:34 ?3020次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體制造</b><b class='flag-5'>之光刻</b>原理、<b class='flag-5'>工藝</b>流程

    光刻工藝的基本知識(shí)

    在萬(wàn)物互聯(lián),AI革命興起的今天,半導(dǎo)體芯片已成為推動(dòng)現(xiàn)代社會(huì)進(jìn)步的心臟。而光刻(Lithography)技術(shù),作為先進(jìn)制造中最為精細(xì)和關(guān)鍵的工藝,不管是
    的頭像 發(fā)表于 08-26 10:10 ?249次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻工藝</b>的基本知識(shí)