隨著華為mate60 pro的發(fā)布,歐美加大制裁的聲浪又開始喧囂,這些噪音,從5G哥的角度看來,只會(huì)加速國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體技術(shù)的突飛猛進(jìn)。
今天5G哥就與大家聊聊中國(guó)***的一些關(guān)鍵突破。
中國(guó)的技術(shù)底蘊(yùn)日益顯現(xiàn),特別是在核心技術(shù)領(lǐng)域,中國(guó)已經(jīng)取得了一些重要突破。值得關(guān)注的是,這些突破是建立在國(guó)內(nèi)研究和創(chuàng)新的基礎(chǔ)上的。
早在2015年,中國(guó)的長(zhǎng)春光機(jī)所就成功研發(fā)出了EUV(極紫外光刻)***的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米,達(dá)到了EUV級(jí)***的標(biāo)準(zhǔn)。這個(gè)成就在國(guó)際上已經(jīng)堪稱頂尖水平。
然而,這套系統(tǒng)中存在一個(gè)小問題,即并非所有零部件都是國(guó)產(chǎn)的,其中的鍍膜裝置需要從海外購(gòu)買。這一情況導(dǎo)致了系統(tǒng)的關(guān)鍵部分依賴進(jìn)口,容易受到外部制裁的影響。
為了解決這一難題,中科院控股企業(yè)北京中科科美在2021年7月成功研發(fā)出了鍍膜精度控制在0.1納米以內(nèi)的直線式勞埃透鏡鍍膜裝置以及納米聚焦鏡鍍膜裝置。這些零部件滿足了長(zhǎng)春光機(jī)所對(duì)于高精度弧形反射鏡系統(tǒng)的技術(shù)要求。
隨后,這些新的鍍膜裝置被供應(yīng)給了長(zhǎng)春光機(jī)所,使其能夠立刻制造出EUV級(jí)***級(jí)別的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)成功案例表明,中國(guó)在EUV***領(lǐng)域已經(jīng)具備了自主研發(fā)和生產(chǎn)的能力,增強(qiáng)了對(duì)EUV***的信心。
EUV***技術(shù)本質(zhì)上是一個(gè)工程問題,理論上并不存在困難。在中國(guó),人才、需求、技術(shù)基礎(chǔ)和產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)都具備,唯一需要的是時(shí)間和投入。這正是中國(guó)的優(yōu)勢(shì)所在。
目前,國(guó)內(nèi)有三條主要的EUV***研發(fā)路線,它們采取飽和式研發(fā),不計(jì)成本:
正統(tǒng)路線:這是ASML的EUV***路線,由華為、上海光機(jī)所和宇量昇等國(guó)內(nèi)公司合作。他們采用了500瓦LPP(液體靶點(diǎn)光源)光源和復(fù)雜的鏡頭組。這條路線的進(jìn)展速度最快,但技術(shù)復(fù)雜度也最高,特別是在超高功率和超高重復(fù)頻率二氧化碳激光器方面的技術(shù)難度非常大。
改進(jìn)型路線:由廣東智能機(jī)器研究院和華中科技大學(xué)合作,嘗試采用分時(shí)高功率光纖激光器射擊液態(tài)錫靶的方式,繞開了超高功率、超高重復(fù)頻率二氧化碳激光器的技術(shù)路線。雖然成功與否尚不確定。
顛覆式路線:清華大學(xué)主導(dǎo)的1千瓦級(jí)SSMB-EUV光源,可以直接將***光源變成類似工業(yè)園中的電力、蒸汽、純水等可購(gòu)買原料。如果這條技術(shù)路線成功,將極大簡(jiǎn)化***光路,降低成本,使EUV***變得更加經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。這條路線的成功有望成為中國(guó)***技術(shù)趕超ASML的關(guān)鍵。
從2020年10月國(guó)內(nèi)啟動(dòng)加大投入加速研發(fā)以來,***研發(fā)取得了令人矚目的進(jìn)展。第一條技術(shù)路線的EUV***預(yù)計(jì)將比最初預(yù)期的時(shí)間更快投入量產(chǎn)。第三條技術(shù)路線被認(rèn)為是未來第2代和第3代EUV***的優(yōu)勢(shì)路線,為中國(guó)制造3納米芯片奠定了基礎(chǔ)。
中國(guó)在EUV***技術(shù)領(lǐng)域的持續(xù)投入和創(chuàng)新正在逐漸實(shí)現(xiàn)突破,有望在未來幾年內(nèi)成為全球領(lǐng)先的EUV***制造國(guó)。這一成就將有望為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和全球芯片市場(chǎng)的供應(yīng)帶來顯著影響。
歐美等國(guó)也將面臨來自中國(guó)產(chǎn)業(yè)鏈的競(jìng)爭(zhēng)挑戰(zhàn),中國(guó)有望在半導(dǎo)體領(lǐng)域嶄露頭角,繼續(xù)推動(dòng)技術(shù)進(jìn)步和創(chuàng)新。
聰明的企業(yè),例如ASML,前面?zhèn)餮赃B14nm的***都要不賣給中國(guó)了,最近,他們趕緊辟謠,稱合同將如約執(zhí)行。
對(duì)嘛,能賺錢趕緊先賺了,現(xiàn)在我們對(duì)中低端半導(dǎo)體的制造仍然需求大量***,你們?cè)敢赓u我們買沒問題。
要等中國(guó)突破和量產(chǎn),就不需要了!你們自己留著吧。
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原文標(biāo)題:中國(guó)即將突破ASML光刻機(jī)技術(shù)!
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