蘇大維格：***已實(shí)現(xiàn)向國(guó)內(nèi)龍頭芯片企業(yè)銷售

9月14日，蘇大維格在投資者互動(dòng)平臺(tái)上表示，公司的***已向國(guó)內(nèi)領(lǐng)先芯片企業(yè)實(shí)現(xiàn)銷售，并向日本、韓國(guó)、以色列等國(guó)家實(shí)現(xiàn)出口。同時(shí)，公司向國(guó)內(nèi)相關(guān)芯片***制造企業(yè)提供了位置追蹤光柵尺部件。

據(jù)介紹，目前蘇大維格正在重點(diǎn)擴(kuò)大微納米光學(xué)技術(shù)/產(chǎn)品。國(guó)家文件和證明書中的防偽材料、電子紙張和反射式液晶電光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明顯示面板、芯片光刻定位光柵材料。可應(yīng)用于板半導(dǎo)體，集成電路，光處理電鍍?cè)O(shè)備，高端掩模，光芯片，光通信器件，光芯片等領(lǐng)域。

蘇達(dá)維他獨(dú)立微納米光學(xué)核心制造設(shè)備——***及納米壓印的光刻設(shè)備研究開發(fā)，微納米光學(xué)研究開發(fā)和生產(chǎn)制造的基礎(chǔ)技術(shù)平臺(tái)體系，微納米光學(xué)技術(shù)新領(lǐng)域應(yīng)用。

制程越先進(jìn)，***光柵尺的周期精度要求越高，如28nm制程的***要求的光柵尺周期精度小于2nm。據(jù)介紹，蘇大維格相關(guān)產(chǎn)品周期精度小于1nm。

2023年，蘇大維格所屬的行業(yè)觸底，開始出現(xiàn)恢復(fù)的跡象。蘇大維格表示，公司將以自身的技術(shù)優(yōu)勢(shì)為基礎(chǔ)，提高高附加值產(chǎn)品的比重。同時(shí)，采取多種措施，積極推進(jìn)合理控制公司各種成本和費(fèi)用，降低成本，提高效益的措施。蘇大維格目前訂單及經(jīng)營(yíng)狀況正常，其中設(shè)備類訂單增長(zhǎng)較快。