**1 **應(yīng)用背景
板卡上的芯片需要相互通信,IO接口電平越豐富,芯片通用性越強(qiáng)。以28 nm工藝為例,IO device最高可耐1.98V,core device最高可耐1.0V,而IO電平需要同時(shí)滿足1.2V, 1.5V, 1.8V, 2.5V, 3.3V,這就需要設(shè)計(jì)一款寬輸入電壓范圍耐壓結(jié)構(gòu)的IO模塊。
**2 **Widerange voltage translation
該專利介紹的是一種寬輸入范圍(1.2V~3.3V)的level-shift,為滿足如此寬的電壓輸入,將電路分成了兩種工作模式,一種是高壓模式(>1.8V),一種是低壓工作模式(≤1.8V),兩種模式的切換是由BIAS GENERATION SEGMENT控制,下面我們分別介紹這兩種工作模式。
2.1 高壓模式(2.5V, 3.3V)
圖1給出了寬輸入level-shift高壓模式(2.5V, 3.3V)電路,圖中M14M15和M27M30為core device,最高工作電壓為0.925V,其他器件均為高壓管(IO device),最高工作電壓為1.89V,vtn和vtp分別為IO device n管和p管的閾值電壓,vcco為IO電源(1.2V3.3V), vccint(0.65V0.925V)為芯片內(nèi)部數(shù)字邏輯電源,BIAS GENERATION SEGMENT中還有一個輔助(auxiliary)電源vccaux(本講不涉及此電源)。
整體電路(100)分為input receiving(112), stress minimization(110), contention minimization(114), feedback generation(116)以及BIAS GENERATION SEGMENT(102)。
其中BIAS GENERATION SEGMENT沒有給出具體電路,只給出了不同模式下的輸出電壓,如表1所示。高壓模式下pbias = vcco-1.8V, nbias = 1.8V, en1p8_vcco = vcco-1.8V, en1p8_aux = 0V,en1p8_b_vcco = vcco, vis = 1V,這些電位是用于保護(hù)IO device和core device。
圖1(a)標(biāo)注了初始時(shí)刻inp為高電平(vccint,≤0.925V,如圖2 T1時(shí)刻)時(shí)關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)的電平(紅色字體),可見初始時(shí)刻所有device不存在耐壓問題。其中inp為low voltage domain(vccint)level-shift輸入,vout_p為high voltage domain(vcco)level-shift輸出,初始時(shí)刻inp為vccint,vout_p為vcco,完成了不同電壓domain高(inp)到高(vout_p)的轉(zhuǎn)換。
該結(jié)構(gòu)引入了input receiving(112), stress minimization(110), contention minimization(114)和feedback generation(116)等技術(shù)用于解決耐壓、速度、競爭等問題,專利中已經(jīng)描述的非常詳細(xì),有興趣的可以仔細(xì)閱讀。其中M0和M1的尺寸比為5:1(即M1較weak)且M17和M26也較M0 weak,這樣可以解決電平轉(zhuǎn)換時(shí)的高低電平競爭問題,使0→1或1→0的轉(zhuǎn)換更準(zhǔn)更快。
(a)inp為高電平(vccint)工作原理
圖1(b)標(biāo)注了初始時(shí)刻inp由高到低跳變(vccint, ≤0.925V,如圖2 T2~T3時(shí)刻)時(shí)關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)的電平(紅 & 藍(lán)字體),inp由高到低跳變時(shí)所有device也不存在耐壓問題。low voltage domain的低電平為0V,high voltage domain的低電平為vcco-1.8V+vtp,完成了不同電壓domain高到低(inp)to高到低(vout_p)的轉(zhuǎn)換。
(b)inp由高(vccint)到低(0)跳變工作原理
Fig1. 寬輸入level-shift高壓模式(2.5V, 3.3V)電路
圖2給出了高壓模式下level-shift inp, p1, p1b, vout_p, vout_n的波形,其中T3T4的分析與T1T2類似,這里不再贅述。
Fig2. 寬輸入level-shift高壓模式(2.5V, 3.3V)波形
2.2 低壓模式(1.2V, 1.5V, 1.8V)
為節(jié)約芯片面積,低壓模式與高壓模式共用一套電路,如圖3所示。低壓模式下pbias = 0V, nbias = vcco, en1p8_vcco = vcco, en1p8_aux = vcco, en1p8_b_vcco = 0, vis = 1V,如表1所示。低壓模式出于電壓裕度和速度考慮,不再需要鉗位電壓和鉗位電路。低壓模式下可通過圖3右側(cè)電路將vout_p和vout_n,p1和n2,p1b和n2b短接以旁路掉中間鉗位電路。
其中inp為low voltage domain (vccint,≤0.925V) level-shift輸入,vout_p為high voltage domain(vcco,≤1.8V)level-shift輸出,初始時(shí)刻inp為vccint,vout_p和vout_n為vcco,完成了不同電壓domain高(inp)到高(vout_p)的轉(zhuǎn)換。inp由高跳低再跳高的轉(zhuǎn)換過程與之前高壓模式類似,這里不再贅述。
Fig3. 寬輸入level-shift低壓模式(1.2V, 1.5V, 1.8V)電路
3 Voltage-resistantbuffer
根據(jù)第2章分析我們舉一反三,介紹如何實(shí)現(xiàn)耐壓結(jié)構(gòu)的buffer,如圖4所示。圖4所有device(電阻除外)任意兩端電壓(bulk除外)在任意工作模式下不得超過1.98V。左側(cè)(buffer_lv)電路電源電壓(vdd18)為1.8V,因?yàn)闆]有耐壓風(fēng)險(xiǎn),很容易實(shí)現(xiàn)。
當(dāng)左面電路電源電壓(vdd18)提升到3.3V時(shí),所有device均會出現(xiàn)耐壓問題,不加以處理會嚴(yán)重影響芯片壽命。我們在左側(cè)電路M1,M2漏端插入一組cascode晶體管(如圖4右側(cè)M9, M10所示)即可實(shí)現(xiàn)耐壓結(jié)構(gòu)的buffer,如圖4右側(cè)F。
由此可推廣到更加復(fù)雜的電路系統(tǒng),基本思想就是通過疊管子、鉗位來保護(hù)有耐壓風(fēng)險(xiǎn)的晶體管。
Fig4. 低壓和高壓buffer原理圖
**4 **思考與討論
① 專利中的BIAS GENERATION SEGMENT如何實(shí)現(xiàn)?整體IO Block又如何實(shí)現(xiàn)?一個IO Block又如何同時(shí)兼容LVDS、LVCMOS、LVTTL等電平標(biāo)準(zhǔn)?
② 根據(jù)以上分析如何舉一反三,設(shè)計(jì)一款耐壓結(jié)構(gòu)的bandgap、mux等電路?
③ power down時(shí)如何不存在耐壓問題?應(yīng)該加何種電路以輔助實(shí)現(xiàn)power down。
④ 當(dāng)電路規(guī)模龐大時(shí),如何check網(wǎng)表中所有device是否存在耐壓問題(正常工作、power down以及上下電過程中都不要有耐壓風(fēng)險(xiǎn))?
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