在逆變器、電機(jī)驅(qū)動器和電池充電器等應(yīng)用中,碳化硅(SiC)器件具有更高的功率密度、更低的冷卻要求和更低的整體系統(tǒng)成本等優(yōu)勢。
盡管碳化硅器件的成本高于硅器件,但系統(tǒng)級器件的優(yōu)勢,特別是在1,200V電壓下,足以彌補(bǔ)較高的器件成本。與硅相比,在600V或低于600V時,其優(yōu)勢微乎其微。碳化硅芯片需要專門設(shè)計的封裝和柵極驅(qū)動器才能獲得優(yōu)勢。
碳化硅相對于硅的優(yōu)勢
通常,碳化硅在反向恢復(fù)階段損失的能量僅為硅損失能量的1%。由于實(shí)際上沒有尾電流,因此可以更快地關(guān)斷并顯著降低損耗。由于耗散的能量較少,因此SiC器件可以在更高的頻率下切換并提高效率。
碳化硅的效率更高、尺寸更小、重量更輕,可以創(chuàng)建更高額定值的解決方案或更小的設(shè)計,同時降低冷卻要求。
硅的性能在較高的溫度下會變差,而碳化硅則更穩(wěn)定。硅器件通常在室溫下過高規(guī)格,以在較高溫度下保持規(guī)格。通常,額定電流為一半的SiC器件將執(zhí)行與硅IGBT相同的工作,因?yàn)镾iC在較高溫度下更加穩(wěn)定,并且不需要顯著降額。
碳化硅的工作電壓高于10kV,大大高于目前可以使用的電壓。提供額定電壓為1,200V和1,700V的SiC器件。由于電弧、爬電距離和電氣間隙等問題,封裝已成為限制因素,而不是半導(dǎo)體技術(shù)。
更低的損耗
碳化硅模塊中能量損耗的主要來源是傳導(dǎo)損耗。作為一種寬禁帶材料,SiC具有低柵極電荷,這意味著SiC需要更少的能量來使器件開關(guān)。
由于反向恢復(fù)能量和尾電流的顯著改善,二極管開關(guān)損耗幾乎被消除。開關(guān)導(dǎo)通損耗是電阻性的,因此在兩種技術(shù)中是相似的。下一代碳化硅工藝有望進(jìn)一步改進(jìn)。
更高的頻率意味著磁性的尺寸和重量減小,因?yàn)樽儔浩鱈C濾波器中的元件值會明顯降低。
SiC的平均失效時間(MTTF)是硅的10倍,對輻射和單粒子失效的敏感度降低30倍。然而,SiC具有較低的短路容限,因此需要一個快速作用的柵極驅(qū)動器。
對于低速應(yīng)用來說,較高頻率的開關(guān)通常不是一個優(yōu)勢。在這種情況下,SiC器件的成本溢價和額外的設(shè)計考慮是不合理的,這使得硅IGBT成為更合乎邏輯的解決方案。
碳化硅的供應(yīng)也有限。在600V/650V時,SiC器件的可用性很低,而且大多是分立元件。
硅IGBT在設(shè)計過程中對RFI問題的緩解要求較少。在發(fā)生短路時,不需要高性能柵極驅(qū)動器來管理關(guān)斷或快速反應(yīng)以保護(hù)器件。
柵極驅(qū)動器
碳化硅器件需要專門設(shè)計的柵極驅(qū)動器。專為驅(qū)動硅IGBT而設(shè)計的IGBT將不支持SiC器件的開關(guān)速度,也不支持在發(fā)生短路時保護(hù)SiC器件所需的快速故障響應(yīng)時間。
它們還需要與硅IGBT對應(yīng)物不同的驅(qū)動電壓。電壓軌通常是不對稱的,通常需要幾伏的負(fù)電壓軌才能使器件完全關(guān)斷。
另一個考慮因素是SiC模塊需要增強(qiáng)關(guān)斷。更高的頻率/更硬的開關(guān)與較低的內(nèi)部損耗相結(jié)合,會導(dǎo)致電流尖峰和振鈴問題。
增強(qiáng)型或“軟”關(guān)斷使用中間電壓階躍來管理突然電流變化的影響并減輕振鈴。由于內(nèi)部損耗的阻尼作用,硅器件受到的影響較小。
包裝問題
由于碳化硅的性能改進(jìn),封裝技術(shù)現(xiàn)在已成為主要制約因素,即使對于碳化硅優(yōu)化封裝也是如此。SanRex(如圖)、英飛凌和Wolfspeed已經(jīng)開發(fā)出了專有的SiC封裝。
與硅相比,碳化硅封裝通常更小、更扁平、熱效率更高,盡管它們必須采用對稱布局設(shè)計,以最大限度地降低環(huán)路電感。碳化硅的優(yōu)勢沒有得到實(shí)現(xiàn),因?yàn)樾酒惭b在傳統(tǒng)封裝中,設(shè)計用于在較低頻率下進(jìn)行開關(guān),具有更寬松的上升和下降時間要求。由于波傳播效應(yīng),非對稱設(shè)計在較高頻率下表現(xiàn)不佳。
如果要實(shí)現(xiàn)該技術(shù)的優(yōu)勢,則必須使用SiC專用封裝和柵極驅(qū)動器,這使得SiC成為新系統(tǒng)設(shè)計的理想選擇。
無錫國晶微半導(dǎo)體技術(shù)有限公司是寬禁帶第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC功率器件、氮化鎵GaN光電器件以及常規(guī)集成電路研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化的高科技創(chuàng)新型企業(yè),從事碳化硅場效應(yīng)管,碳化硅肖特基二極管、GaN光電光耦繼電器、單片機(jī)集成電路等產(chǎn)品芯片設(shè)計、生產(chǎn)與銷售并提供相關(guān)產(chǎn)品整體方案設(shè)計配套服務(wù),總部位于江蘇省無錫市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi),并在杭州、深圳和香港設(shè)有研發(fā)中心和銷售服務(wù)支持中心及辦事處。
公司具有國內(nèi)領(lǐng)先的研發(fā)實(shí)力,專注于為客戶提供高效能、低功耗、低阻值、品質(zhì)穩(wěn)定的碳化硅高低功率器件及光電集成電路產(chǎn)品,同時提供一站式的應(yīng)用解決方案和現(xiàn)場技術(shù)支持服務(wù),使客戶的系統(tǒng)性能優(yōu)異、靈活可靠,并具有成本競爭力。
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原文標(biāo)題:碳化硅的優(yōu)缺點(diǎn)
文章出處:【微信號:國晶微第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC,微信公眾號:國晶微第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
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