當(dāng)與電子器件相結(jié)合時(shí),紅外光可以在分子水平上使傳感、成像及信號(hào)傳輸設(shè)備實(shí)現(xiàn)小型化和加快速度。為了充分利用紅外光的優(yōu)勢(shì),用于紅外光學(xué)和光電應(yīng)用的材料需要達(dá)到無(wú)缺陷結(jié)晶度。
為了制造與紅外光強(qiáng)烈共振的高質(zhì)量晶體,美國(guó)斯坦福大學(xué)(Stanford University)與勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室(LBNL)共同合作,開(kāi)發(fā)利用自上而下、自組裝的方法來(lái)合成的具有與塊狀單晶相一致的晶體質(zhì)量納米結(jié)構(gòu)。超薄納米結(jié)構(gòu)作為紅外波段晶格振動(dòng)的超高質(zhì)量納米級(jí)諧振器,可為紅外應(yīng)用提供高性能且低損耗的平臺(tái)。
為了制造納米級(jí)諧振器,研究人員利用范德華(vdW)納米材料。范德華材料支持紅外光子和晶格振動(dòng)(即聲子)之間的強(qiáng)烈共振,并形成混合光子-聲子準(zhǔn)粒子,稱為聲子極化激元(phonon polaritons)。
圖1 原子力顯微鏡(AFM)尖端將X射線束的紅外光聚焦到微小的光斑上,實(shí)現(xiàn)探測(cè)超薄帶狀納米晶體(黃色)的晶格振動(dòng)
研究人員利用一種快速、經(jīng)濟(jì)且可擴(kuò)展的工藝(即火焰蒸氣沉積(FVD))來(lái)合成聲子極化范德華材料。研究人員表示,F(xiàn)VD是對(duì)當(dāng)前機(jī)械剝離方法的重大進(jìn)步,當(dāng)前的方法多是勞動(dòng)密集型和非系統(tǒng)的。此外,氣相沉積技術(shù)速度較慢,成本較高,需要光刻處理,還可能會(huì)損壞晶體。
研究人員利用FVD生長(zhǎng)出氧化鉬(MoO?)納米帶,這是一種范德華聲子極化材料,具有將共振調(diào)諧到紅外波段的潛力。研究人員可以通過(guò)改變溫度、鉬濃度和時(shí)間,來(lái)控制合成的MoO?納米結(jié)構(gòu)的大小和形狀。
通過(guò)FVD方法制備的MoOv納米帶具有光滑、平行的邊緣,可以用作反射面,因此可以作為紅外聲子極化激元駐波的諧振腔。
為了測(cè)量紅外納米諧振器的質(zhì)量,研究人員利用LBNL的先進(jìn)光源(ALS)中的同步紅外納米光譜(SINS)探測(cè)了諧振器。
圖2 (上圖)利用FVD法合成MoO?的納米結(jié)構(gòu);(下圖)在不同F(xiàn)VD條件下制備的MoO?樣品(微板、納米帶和納米線)的掃描電子顯微鏡圖像
利用ALS Beamline 2.4的寬帶紅外光,研究人員能夠繪制橫跨中遠(yuǎn)紅外波長(zhǎng)的聲子極化激元共振,覆蓋發(fā)生共振的四個(gè)不同波段。此外,研究人員還使用了Beamline 5.4,可覆蓋中紅外范圍,其光譜分辨率比傳統(tǒng)商業(yè)系統(tǒng)高得多。
SINS利用AFM的尖端將紅外光束從同步輻射聚焦到小于紅外光波長(zhǎng)的光斑尺寸。研究人員將MoO?結(jié)構(gòu)干轉(zhuǎn)印到靶襯底上,并利用AFM尖端聚焦的紅外光表征其結(jié)構(gòu)。
所得到的共振圖首次完全表征了具有高空間和光譜分辨率的FVD合成MoO?納米帶的寬帶紅外響應(yīng),可探測(cè)超過(guò)十階的共振模式。與其他方法制備的納米結(jié)構(gòu)相比,該方法的共振更強(qiáng)、更易辨別。通過(guò)FVD得到的品質(zhì)因子(Q因子)是聲子極化激元諧振器中較高水平,證明了該納米晶體的高質(zhì)量。
自下而上合成的范德華納米結(jié)構(gòu)是紅外波段晶格振動(dòng)的超高質(zhì)量納米諧振器,并可作為紅外光學(xué)和光電應(yīng)用的高性能、低損耗平臺(tái),其潛在應(yīng)用包括亞波長(zhǎng)成像、熱發(fā)射和分子傳感系統(tǒng)等。以上研究成果已發(fā)表于ACS Nano期刊。
審核編輯:彭菁
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原文標(biāo)題:利用范德華納米材料制備高質(zhì)量紅外偏振諧振器
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