12月8日,據(jù)上海證券交易所發(fā)布公告,深圳市龍圖光罩股份有限公司(簡稱龍圖光罩)將于12月15日參加科創(chuàng)板首次公開會(huì)議。
龍圖光罩的主要經(jīng)營業(yè)務(wù)是半導(dǎo)體掩模版的研究、開發(fā)、生產(chǎn)和銷售,是國內(nèi)罕見的獨(dú)立的第三方半導(dǎo)體掩模版制造企業(yè)。公司是國內(nèi)半導(dǎo)體特性工程的發(fā)展路線繼續(xù)按照技術(shù)難題及產(chǎn)品進(jìn)行反復(fù),半導(dǎo)體掩模版的下方工程節(jié)點(diǎn)在1μm 逐漸上升,到130nm1,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、MEMS 傳感器、IC 封裝、模擬 IC 等特色工藝半導(dǎo)體領(lǐng)域,終端應(yīng)用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子、工業(yè)控制、無線通信、物聯(lián)網(wǎng)、消費(fèi)電子等場(chǎng)景。
目前,龍圖光罩掌握了130納米以上節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體口罩制作的核心技術(shù),形成了包括cam、光刻、檢測(cè)等全過程的核心技術(shù)體系。在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域,公司的工程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)滿足了全球電力半導(dǎo)體主流制造工程的需求。
龍圖光罩稱,公司以特色工藝半導(dǎo)體市場(chǎng)為切入點(diǎn),緊扣國內(nèi)半導(dǎo)體廠商的發(fā)展需求,不斷提升掩模版工藝技術(shù)水平和客制化服務(wù)能力,逐步進(jìn)入國內(nèi)多個(gè)大型特色工藝晶圓廠供應(yīng)商名錄,一定程度上推動(dòng)了我國半導(dǎo)體掩模版產(chǎn)業(yè)的國產(chǎn)化。
龍圖光罩的招股,公開信息顯示,公司的董事會(huì)成員包括柯漢奇、葉小龍、張道谷、常軍鋒、袁振超;監(jiān)事會(huì)成員包括:侯廣杰、何祥、崔嘉豪;高級(jí)管理人員包括:葉小龍、王棟、范強(qiáng)、鄧少華;核心技術(shù)人員包括柯漢奇、王棟、黃執(zhí)祥、肖寶鐸、何祥、白永智等。
但集微咨詢專利分析師對(duì)龍圖光罩有效專利發(fā)明人進(jìn)行分析后發(fā)現(xiàn),雖然史草沒有列入龍道光口罩認(rèn)定的同感庫和核心技術(shù)人員名單,但他貢獻(xiàn)的專利數(shù)量較多。光幻覺工程管理控制技術(shù),暴露精細(xì)化控制技術(shù),精密工藝配對(duì)技術(shù),顯影刻蝕控制技術(shù),高精密測(cè)定技術(shù),缺陷維修及異物去除技術(shù)等,幾乎涉及光幻覺及檢測(cè)的所有技術(shù)領(lǐng)域。另外,構(gòu)成龍圖光罩主要經(jīng)營業(yè)務(wù)的11項(xiàng)核心發(fā)明專利中,雖然參與了6項(xiàng)技術(shù)開發(fā),但卻沒有被列入公司核心技術(shù)人員名單。
與之形成對(duì)比的是,被龍圖光罩認(rèn)定為核心技術(shù)人員的白永智目前年僅26歲,在2020年10月才加入龍圖光罩,截至2022年底僅貢獻(xiàn)了1篇涉及缺陷修補(bǔ)與異物去除技術(shù)的發(fā)明專利,并且該專利也是與謝超等人合作研發(fā),對(duì)于公司的專利貢獻(xiàn)較小,收入在核心技術(shù)人員中也是最低。在軟件著作權(quán)方面,根據(jù)招股書披露的信息,龍圖光罩在2020年之后申請(qǐng)的軟件著作權(quán)涉及的技術(shù)領(lǐng)域高度集中于CAM版圖處理技術(shù)。而CAM部的經(jīng)理是肖寶鐸,白永智擔(dān)任的是工藝研發(fā)主管,因此白永智與CAM版圖處理技術(shù)少有交集,對(duì)于龍圖光罩軟件著作權(quán)的貢獻(xiàn)大概率也十分有限。
因此,科創(chuàng)板審核機(jī)構(gòu)有可能要求龍圖光罩說明謝超在公司的職位、是否同董監(jiān)高以及核心技術(shù)人員一樣簽署了保密協(xié)議和競(jìng)業(yè)限制協(xié)議、未將謝超納入核心技術(shù)人員的原因、以及將白永智納入核心技術(shù)人員的合理性。同時(shí)要求龍圖光罩進(jìn)一步披露相關(guān)人員在公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)中起到的作用,對(duì)公司的知識(shí)產(chǎn)權(quán)成果,包括專利、軟件著作權(quán)、商業(yè)秘密等的貢獻(xiàn)程度等信息。
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