摘 要:通過對(duì)聲表面波濾波器晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu)的探討,針對(duì)在模組封裝時(shí)器件塌陷成因進(jìn)行了有限元仿真模型研究,模擬了不同模壓量對(duì)器件中腔體最大的塌陷量位置。經(jīng)過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,提出了一種新的金屬加強(qiáng)結(jié)構(gòu),在3 MPa較高模壓量時(shí)塌陷量幾乎為0,解決了聲表面波濾波器晶圓級(jí)封裝芯片灌封壓力導(dǎo)致的塌陷問題,降低了器件及模組失效風(fēng)險(xiǎn),是一種聲表面波濾波器晶圓級(jí)封裝的新技術(shù)。
0 引言
聲表面波(SAW)濾波器作為一種無源的濾波器,廣泛用于無線通訊領(lǐng)域,隨著5G時(shí)代的到來,因通訊頻段的增加,故需在一個(gè)手機(jī)內(nèi)放入大量的濾波器,芯片及封裝向著更小、更薄的方向發(fā)展。從傳統(tǒng)的打線表面貼裝(SMD)發(fā)展到金球倒裝焊接的芯片尺寸封裝(CSP),封裝面積比例從SMD(3 mm×3 mm)的27%增加到CSP(1.1 mm×0.9 mm)的48%[1]。最新的晶圓級(jí)封裝(WLP)利用一種貼膜設(shè)備可以在晶圓表面貼上兩層A公司生產(chǎn)的聚酰亞胺膜,形成一個(gè)空腔,將工作區(qū)域保護(hù)起來,同時(shí)使用電鍍等工藝將芯片外圍的焊盤引出至器件的表面,從而完成器件的封裝。按此方式制作的SAW濾波器體積小,尺寸與芯片尺寸一致,封裝面積比在90%以上,適合模組的集成操作,且滿足移動(dòng)終端對(duì)尺寸的要求。
WLP封裝工藝的成功應(yīng)用,使SAW濾波器從單體濾波器組合逐步向模組集成方向發(fā)展。但由于SAW濾波器設(shè)計(jì)的原因,很多腔體的尺寸過大(達(dá)到300 μm×400 μm)。在射頻前端模組封裝時(shí),由于灌封時(shí)的高溫導(dǎo)致該封裝材料的機(jī)械強(qiáng)度下降,而無法抵御灌封時(shí)的高壓力;同時(shí),SAW濾波器的芯片變形塌陷,SAW濾波器中的叉指換能器(IDT)接觸到頂膜材料,這樣整個(gè)SAW濾波器無法工作,從而導(dǎo)致整個(gè)模組失效[2]。
1 結(jié)構(gòu)探討
1.1 WLP工藝制作流程
圖1為SAW濾波器WLP的工藝流程。
圖1 SAW濾波器的WLP制作流程
1.2 塌陷的形成及有限元仿真
SAW濾波器的設(shè)計(jì)需遵循最基本的公式:
v=λ×f
(1)
(2)
(3)
式中:v為材料聲速,一般為定值;λ為SAW波長(zhǎng);f為聲表濾波器頻率;a為金屬指條寬度。
由式(1)~(3)可知,f越低,a越寬。再加上通帶外抑制的需要,整個(gè)指條數(shù)量相對(duì)較多,這導(dǎo)致在低頻段的一些設(shè)計(jì)中不可避免地存在相對(duì)大的指條區(qū)域,則必須要大的空腔,其尺寸可達(dá)300 μm×400 μm。
在一定壓力下,膜的變形量可按照如下的關(guān)系推理:
m∝(p·s)/(h·E)
(4)
式中:m為形變量;p為灌封壓力;s為腔體接受壓力的面積;h為頂層材料的厚度;E為彈性模量。
在同一灌封壓力的前提下,為了提高膜的耐模壓能力,我們需要提高頂膜的厚度及其彈性模量,同時(shí)需要降低空腔面積。當(dāng)然,我們也可在腔體中間加入起支撐作用的結(jié)構(gòu),如圖2所示。將左側(cè)的一個(gè)大腔體分為幾個(gè)小腔體,這樣能提高器件的抗模壓能力。
圖2 分腔示意圖
對(duì)于那些無法分腔的器件,只能采用其他辦法來保證腔體不塌陷。通過有限元分析軟件模擬這些灌封的形變,可從一個(gè)定性的角度來討論形變量的大小。為了對(duì)塌陷情況進(jìn)行研究,我們采用的模型如圖3所示,其中一個(gè)腔體大小為 297 μm×525 μm。相關(guān)材料參數(shù)如表1所示,其中泊松比為廠家推薦值。
圖3 模壓試驗(yàn)結(jié)構(gòu)
表1 有限元仿真模擬量列表
按照3 MPa、5 MPa的正壓力(實(shí)際灌封壓力應(yīng)小于該壓力)定性地進(jìn)行模壓仿真分析,如圖4、5所示。
圖4 3 MPa下在最大腔體處出現(xiàn)了塌陷
圖5 5 MPa灌封壓力下器件腔體的最大塌陷量
由圖4可見,最大的塌陷位置出現(xiàn)在一個(gè)約300 μm×400 μm的腔體位置,塌陷量約為3.71 μm,而空腔結(jié)構(gòu)中空氣腔厚為10~15 μm,并未塌陷到底部,器件可以正常工作。由圖5可見,器件中腔體最大的位置塌陷量為6.18 μm。
2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果及優(yōu)化
根據(jù)模擬結(jié)果進(jìn)行了實(shí)際器件的測(cè)試,整個(gè)器件的腔體設(shè)計(jì)與軟件模擬的各項(xiàng)尺寸一致。在實(shí)際模壓灌封時(shí)分為兩步:
1) 采用3 MPa壓力觀察塌陷情況,若無塌陷,則進(jìn)行下一步。
2) 繼續(xù)增加壓力至5 MPa,觀察塌陷情況。
2.1 實(shí)驗(yàn)結(jié)果
當(dāng)壓力為3 MPa,溫度為180 ℃,時(shí)間為90 s時(shí),空腔剩余量為2.24 μm,即塌陷量約為10 μm,實(shí)測(cè)結(jié)果與仿真結(jié)果差距較大,如圖6所示。在實(shí)際灌封時(shí)還存在如基板翹曲、器件到灌封口的遠(yuǎn)近等因素,這無法在仿真軟件中進(jìn)行模擬,仿真結(jié)果僅作為方向性等[3]。
圖6 3 MPa模壓下的實(shí)測(cè)結(jié)果
2.2 優(yōu)化方案
通過在最大腔體位置處增加一層金屬來加強(qiáng)該結(jié)構(gòu),從而保證腔體的完整性,如圖7所示。
圖7 金屬加強(qiáng)層位置
設(shè)壓力為3 MPa,溫度為180 ℃,時(shí)間為90 s,對(duì)該結(jié)構(gòu)的抗模壓能力進(jìn)行有限元模擬,結(jié)果如圖8所示。
圖8 金屬加強(qiáng)層3 MPa下塌陷量模擬結(jié)果
由圖8可見,金屬層可以減少模壓的塌陷量(由3.71 μm減少到約2 μm)。我們對(duì)此器件的實(shí)物進(jìn)行模壓灌封實(shí)驗(yàn),設(shè)壓力為3 MPa,溫度為180 ℃,時(shí)間為90 s,進(jìn)行多個(gè)器件的模壓,再進(jìn)行磨片分析。實(shí)物測(cè)試照片如圖9、10所示。
圖9 帶金屬加強(qiáng)層模壓實(shí)測(cè)結(jié)果(3 MPa)
圖10 模壓實(shí)測(cè)細(xì)節(jié)
由圖9、10可知,金屬層結(jié)構(gòu)起到了支撐作用,整個(gè)腔體幾乎無塌陷(約為1 μm),這樣的結(jié)構(gòu)能滿足實(shí)際模組封裝的需要。
更進(jìn)一步,我們將頂層膜的厚度從40 μm降低到25 μm,采用同樣的結(jié)構(gòu)進(jìn)行多次試驗(yàn)均發(fā)現(xiàn),整個(gè)腔體能夠抵御3 MPa模壓的壓力,只出現(xiàn)了輕微變形,如圖11所示。
圖11 模壓實(shí)測(cè)結(jié)果
此加強(qiáng)結(jié)構(gòu)對(duì)于采用一種最簡(jiǎn)易的金屬材料,其加強(qiáng)的效果明顯,能夠很好地抵御模組封裝中的壓力,保證器件的正常工作。但該結(jié)構(gòu)也有兩個(gè)地方需要進(jìn)一步研究,即:
1) 該結(jié)構(gòu)對(duì)于性能是否有影響[4]。
2) 該結(jié)構(gòu)金屬與灌封材料的粘附性如何。
3 其他問題
3.1 性能影響
由于該結(jié)構(gòu)在聲表模組里使用,還需考慮此結(jié)構(gòu)對(duì)于器件性能的影響,這種金屬結(jié)構(gòu)在一定程度上成為了一個(gè)天線或電感的結(jié)構(gòu)[5]。為此,我們進(jìn)行了相關(guān)的性能測(cè)試工作,按照這個(gè)結(jié)構(gòu)中芯片的頻率,對(duì)有無金屬層器件在性能方面進(jìn)行了實(shí)際的測(cè)試工作,如圖12所示。
圖12 實(shí)測(cè)曲線
由圖12可知,在這個(gè)頻段上,加入金屬層與未加入金屬層的測(cè)試曲線基本重合,這說明金屬層的加入對(duì)器件性能的影響不大。
3.2 模組可靠性
由于模組用灌封樹脂和金屬的結(jié)合力不及頂膜的結(jié)合力,因此考慮到整個(gè)模組的長(zhǎng)期可靠性,設(shè)計(jì)了其他圖形結(jié)構(gòu),如圖13所示。
圖13 其他加強(qiáng)結(jié)構(gòu)示意
4 結(jié)束語
本文采用有限元仿真模型模擬3 MPa、5 MPa不同模壓量對(duì)器件中腔體最大的位置塌陷量。經(jīng)試驗(yàn)驗(yàn)證及金屬加強(qiáng)結(jié)構(gòu)的優(yōu)化,獲得3 MPa模壓量時(shí)仍能保持空腔高度的方法,解決了聲表面波濾波器晶圓級(jí)封裝芯片灌封壓力導(dǎo)致的塌陷問題,有利于降低器件及模組的失效風(fēng)險(xiǎn)。
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原文標(biāo)題:SAW濾波器WLP封裝中腔體抗模壓塌陷研究
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