韓國將選派半導(dǎo)體人才赴荷蘭接受EUV曝光技術(shù)培訓(xùn)

韓國領(lǐng)銜未來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的研究生們即將在荷蘭接受尖端半導(dǎo)體技能培訓(xùn)。韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部宣布，自19日起至23日，將在荷蘭埃因霍溫理工大學(xué)舉行為期5天的“韓國-荷蘭先進(jìn)半導(dǎo)體學(xué)院”。

該學(xué)院由尹錫悅總統(tǒng)于去年12月對(duì)荷蘭進(jìn)行國事訪問時(shí)提議創(chuàng)辦，旨在培養(yǎng)下一代半導(dǎo)體英才。精選的碩士及博士研究生，以及半導(dǎo)體行業(yè)科研人員將受邀前往荷蘭與韓兩國參與密集式實(shí)務(wù)培訓(xùn)課程。本次培訓(xùn)首次邀請(qǐng)了60位學(xué)員參與，分別來自韓國的50人與荷蘭的10人。

半導(dǎo)體學(xué)院預(yù)計(jì)在EUV曝光技術(shù)、超精細(xì)電路圖案制造等方面提供培訓(xùn)，同時(shí)也將開發(fā)原子層沉積技術(shù)并探討晶圓表面特性控制策略。此次培訓(xùn)特聘ASML及歐洲IMEC兩家公司的高級(jí)官員擔(dān)任。自首屆活動(dòng)起，兩國計(jì)劃在未來五年聯(lián)合培育500名半導(dǎo)體專才。

對(duì)于半導(dǎo)體差異性的問題，產(chǎn)業(yè)通商資源部官員Lee Yong-pil指出，“優(yōu)秀人才決定技術(shù)差距”。他強(qiáng)調(diào)，韓國政府承諾繼續(xù)每年舉辦半導(dǎo)體學(xué)院，積極推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)研究，推進(jìn)尖端半導(dǎo)體的研發(fā)合作。