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什么是溝道通孔?溝道通孔刻蝕需要考慮哪些方面?

中科院半導(dǎo)體所 ? 來源:Tom聊芯片智造 ? 2024-03-20 10:19 ? 次閱讀

什么是溝道通孔?

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溝道通孔(Channel Hole)指的是從頂層到底層垂直于晶圓表面,穿過多層存儲(chǔ)單元的細(xì)長(zhǎng)孔洞。這些通孔貫穿整個(gè)堆疊結(jié)構(gòu),并填充了導(dǎo)電材料,它們?cè)诿總€(gè)存儲(chǔ)層之間形成導(dǎo)電通道,從而使電子能夠在在存儲(chǔ)單元間移動(dòng),進(jìn)行讀取、寫入和擦除操作。

通孔的深度與控制柵的層數(shù)有關(guān),如果是400層以上,通孔的深度在10微米左右,而通孔的直徑僅為100nm,因此通孔蝕刻是一種高深寬比的蝕刻。

溝道通孔刻蝕工藝步驟

刻蝕分為三步:無定形碳膜的沉積;碳膜的刻蝕;通孔的刻蝕

為什么要沉積無定形碳膜?因?yàn)樘季哂泻芨叩哪臀g刻性能。在刻蝕高深寬比的通孔時(shí),碳掩模能夠抵抗刻蝕過程中的化學(xué)氣體,保護(hù)碳膜下面的疊層結(jié)構(gòu)不被蝕刻。

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無定形碳膜的刻蝕:該工序用ICP-RIE進(jìn)行刻蝕,刻蝕氣體以O(shè)2為主。

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通孔的刻蝕:該工序采用CCP-RIE進(jìn)行蝕刻,刻蝕氣體以含氟氣體為主。

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溝道通孔刻蝕需要考慮哪些方面?

通孔直徑的均勻性:所有通孔直徑要一致,防止存儲(chǔ)效率的不一致性。

側(cè)壁平滑度:通孔側(cè)壁的粗糙度會(huì)影響后續(xù)材料的填充質(zhì)量。

刻蝕深度控制:要求每個(gè)通孔都達(dá)到相同的深度,以確保每層存儲(chǔ)單元均勻可靠。

掩模侵蝕:硬掩模在刻蝕過程中的耐用性,以防在長(zhǎng)時(shí)間刻蝕過程中被侵蝕掉。

特征畸變:防止由于應(yīng)力而引起的通孔彎曲、扭曲和傾斜。

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清潔和去除殘留物:刻蝕過程中,需要及時(shí)排除通孔底部的刻蝕生成物。



審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:3D NAND的溝道通孔是怎么做出來的?

文章出處:【微信號(hào):bdtdsj,微信公眾號(hào):中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

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