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TCL科技集團(tuán)股份有限公司獲薄膜制備和LED專利

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-04-29 09:26 ? 次閱讀

天眼查信息揭示,TCL科技集團(tuán)近日成功獲得“薄膜制備及LED應(yīng)用技術(shù)”專利,該專利編號(hào)為CN114203941B,授權(quán)日期定格在2024年4月23日,申請(qǐng)時(shí)間為2020年9月17日。

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此專利主要涉及顯示技術(shù)范疇,所要解決的問題是關(guān)于薄膜制作以及與LED技術(shù)結(jié)合的問題。具體來說,該專利提出了一套完整的薄膜制備方案,包括準(zhǔn)備分散液、基質(zhì)和第一惰性氣體氛圍等步驟。其中,分散液中含有p型半導(dǎo)體材料,而第一惰性氣體氛圍則摻雜有芳香族化合物,這種化合物能夠有效地分散或溶解p型半導(dǎo)體材料。接著,在第一惰性氣體氛圍下,將分散液在基質(zhì)上進(jìn)行成膜處理,最終得到表面平整且致密的薄膜。

當(dāng)將這種薄膜應(yīng)用到LED的空穴功能層時(shí),可以顯著改善其薄膜形態(tài),降低界面電阻,從而提升器件的空穴傳輸效率,實(shí)現(xiàn)器件的空穴傳輸效率和電子傳輸效率的有效平衡,進(jìn)一步提高器件的光電性能和使用壽命。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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