0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

在被超60億美元收購后,日本光刻膠巨頭JSR尋求擴(kuò)大規(guī)模

冬至配餃子 ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-04-29 14:37 ? 次閱讀

在被超60億美元收購后,日本光刻膠巨頭JSR積極尋求擴(kuò)大規(guī)模,以適應(yīng)全球芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展。

此次收購由日本政府支持的投資公司(JIC)主導(dǎo),旨在通過整合行業(yè)資源,推動JSR在光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,并進(jìn)一步擴(kuò)大其市場份額。

JSR作為全球光刻膠市場的領(lǐng)軍企業(yè),擁有強(qiáng)大的技術(shù)實力和市場份額。然而,面對日益激烈的競爭和不斷變化的市場需求,公司意識到只有不斷擴(kuò)大規(guī)模,才能保持領(lǐng)先地位并實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。因此,在被收購后,JSR制定了明確的擴(kuò)張戰(zhàn)略,包括加大研發(fā)投入、擴(kuò)大生產(chǎn)線、優(yōu)化供應(yīng)鏈管理等方面。

收購資金的注入為JSR的擴(kuò)張計劃提供了有力保障。公司計劃利用這筆資金引進(jìn)先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。同時,JSR還將加強(qiáng)與全球客戶的合作,拓展新的應(yīng)用領(lǐng)域和市場,以進(jìn)一步提升其市場競爭力。

此外,JSR還注重通過收購獲取新技術(shù)和擴(kuò)大市場份額。在整合行業(yè)資源的過程中,公司積極尋求與其他優(yōu)秀企業(yè)的合作,通過并購或戰(zhàn)略合作等方式,獲取更多的技術(shù)優(yōu)勢和市場份額。這種策略不僅有助于加速JSR的擴(kuò)張進(jìn)程,還能提升其在全球光刻膠市場的整體競爭力。

展望未來,隨著全球芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展和市場需求的不斷增長,JSR有望通過此次收購和擴(kuò)張計劃,進(jìn)一步鞏固其在光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位,并為全球芯片制造行業(yè)的進(jìn)步做出更大貢獻(xiàn)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片制造
    +關(guān)注

    關(guān)注

    9

    文章

    597

    瀏覽量

    28684
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    301

    瀏覽量

    29979
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    控SU-8光刻膠烘烤:軟烘、曝光烘烤和硬烘 在整個SU-8模具制備的過程中,微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次,每一次烘烤都有不同的作用。 第一次光刻膠烘烤叫做軟烘,是SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?82次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    非常緩慢,因此通常只有在更換新批次的光刻膠時才會被注意到。 污染 光刻膠與水或不適合的溶劑(如異丙醇)接觸,或經(jīng)冷凍的抗蝕劑可能會改變其顏色。在這種情況下,光刻膠的變質(zhì)是不可避免的。
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?272次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?278次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    評價一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?313次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    一般光刻過程文章中簡單介紹過后烘工藝但是比較簡單,本文就以下一些應(yīng)用場景下介紹后烘的過程和作用。 化學(xué)放大正 機(jī)理 當(dāng)使用“正?!闭?b class='flag-5'>膠時,曝光完成光反應(yīng)也就完成了,但是化學(xué)放大的
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?559次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?291次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?437次閱讀

    JSR尋求升級芯片材料制造技術(shù),收購JIC推動

    對于未來發(fā)展,JSR強(qiáng)調(diào)通過并購獲取新技術(shù)及擴(kuò)大規(guī)模是實現(xiàn)成功的關(guān)鍵。作為全球最大的光刻膠生產(chǎn)商之一,JSR在半導(dǎo)體晶圓電路形成領(lǐng)域占據(jù)了27%的市場份額,然而在這個相對較小的市場中,
    的頭像 發(fā)表于 04-18 17:01 ?562次閱讀

    關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 03-20 11:36 ?1748次閱讀
    關(guān)于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關(guān)鍵參數(shù)介紹

    光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?2938次閱讀

    光刻膠分類與市場結(jié)構(gòu)

    光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場景。
    發(fā)表于 01-03 18:12 ?986次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結(jié)構(gòu)

    速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

    光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們在勻時,是如何確定勻速度呢?它影響
    的頭像 發(fā)表于 12-15 09:35 ?1426次閱讀
    勻<b class='flag-5'>膠</b>速度影響<b class='flag-5'>光刻膠</b>的哪些性質(zhì)?

    光刻膠價格上漲,韓國半導(dǎo)體公司壓力增大

    光刻膠類別的多樣化,此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護(hù)用品,也是未來各地廠家的競爭焦點。當(dāng)前市場中,光刻膠主要由東京大賀工業(yè)、杜邦、JSR、信越化學(xué)、住友化學(xué)及東進(jìn)半導(dǎo)體等大型制造
    的頭像 發(fā)表于 12-14 15:20 ?920次閱讀

    韓國SKMP開發(fā)出高厚度KrF光刻膠,可助力3D NAND閃存制造

     據(jù)悉,skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米,與東進(jìn)半導(dǎo)體(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)品厚度只有10微米。
    的頭像 發(fā)表于 11-29 10:02 ?712次閱讀

    光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

    光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠
    發(fā)表于 11-13 18:14 ?1243次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>黏度如何測量?<b class='flag-5'>光刻膠</b>需要稀釋嗎?