PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝與區(qū)別解讀
在手機蓋板領域，PVD鍍膜裝飾工藝的應用越來越廣，無論在金屬、玻璃、陶瓷及復合材料后蓋上，都需要PVD鍍膜，來提升手機蓋板的顏值及逼格，那么如何通過鍍膜來提升產(chǎn)品的靚麗與品位呢？有哪些主流的工藝？今天我們來了解一下。
一、手機非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位？
1. 玻璃內(nèi)表面鍍反光膜
2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜，增加手感，內(nèi)表面鍍顏色膜
3. 復合板材鍍反藍光（冰焰藍）
3.氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜
二、PVD鍍膜蒸發(fā)鍍與濺射鍍膜區(qū)別
PVD鍍膜主要分為蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。今天，我們主要來比較一下蒸發(fā)鍍與濺射鍍。
蒸發(fā)鍍膜，是將膜料加熱蒸發(fā)為氣相后沉積到襯底表面，此種成膜方式?jīng)Q定了蒸發(fā)出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子動能太低，填充密度太低。
電子束蒸發(fā)的不穩(wěn)定性及其內(nèi)在機理：
| 影響種類 | 問題點 | 內(nèi)在機理 |
| 溫度 | 成膜溫度影響產(chǎn)品顏色 | 溫度高填充密度高，漂移少 |
| 真空室氧化能力的影響 | 大清洗前波長偏長，之后偏短 |
*水蒸氣可以認為就是氧氣。 *鍍膜速度直接影響氧化能力， 即膜層中金屬或低價氧化物的比例。 *從坩堝里蒸發(fā)出來的物質(zhì)是高價氧化物、 低價氧化物和金屬單體的混合物，更多的金屬 單體或低價氧化物在充大氣后會俘獲更多的 氧原子，使膜層致密。 |
| 空氣濕度大時膜層顏色不好控制 | ||
| 開爐時間長波長偏長 | ||
| 鍍膜慢波長偏長 | ||
| 膜料分解狀況的影響 | 貌似電子槍光斑大小有影響 |
*光斑位置影響光斑大小。 *燈絲變形也會帶來光斑大小的變化。 *掃描足夠快時是面蒸發(fā)，慢時依舊點蒸發(fā)， 這當然也相當于“光斑大小”問題。 *光斑小，蒸發(fā)區(qū)域溫度高，材料分解嚴重， 金屬單體和低價氧化物比例更高。 |
| 貌似光斑位置也有影響 | ||
| 貌似燈絲變形也有影響 | ||
| 貌似掃描快慢也有影響 | ||
| ……… |
磁控濺射鍍膜，通過在靶材與真空室壁之間施加電場，使氬氣電離，并使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出并以數(shù)十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面并沉積在基底表面，原子動能較蒸發(fā)高出兩個數(shù)量級，填充密度高達98%，折射率高且穩(wěn)定。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
PVD
+關(guān)注
關(guān)注
4文章
48瀏覽量
16891 -
鍍膜
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
27瀏覽量
10608
原文標題：3D玻璃、陶瓷及復合材料表面裝飾都需要它：PVD磁控濺射
文章出處：【微信號：gh_e972c3f5bf0d，微信公眾號：艾邦加工展】歡迎添加關(guān)注！文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
正面金屬化工藝高CP值選擇-化學鍍
`濺鍍制程需經(jīng)過高真空濺鍍、黃光制程、蝕刻多道工藝，是一套成熟穩(wěn)定、可靠性極佳的工藝，許多車用電子廠商與高端應用制造商均使用此工藝。而較為成
發(fā)表于 06-26 13:45
CVD與PVD的區(qū)別及比較
CVD與PVD的區(qū)別及比較
(一)選材： 化學蒸鍍－裝飾品、超硬合金、陶瓷 物理蒸鍍－高溫回火之工、模
發(fā)表于 03-06 17:17
?2.4w次閱讀
電刷鍍技術(shù)的特點及用途分析
電刷鍍又稱金屬筆鍍或快速電鍍。借助電化學方法，以浸滿鍍液的鍍筆為陽極，使金屬離子在負極（工件）表面上放電結(jié)晶，形成金屬覆蓋層的工藝過程。
點鍍盲孔填充工藝流程簡介
不同的HDI PCB客戶有不同的設計要求，必須遵循合理的生產(chǎn)工藝流程控制成本，確保質(zhì)量。本文將通過分析不同類型的HDI板來展示和討論HDI PCB的一些類型的工藝流程。點鍍盲孔填充工藝
物理氣相沉積及濺射工藝（PVD and Sputtering）
物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition， PVD)工藝是指采用物理方法，如真空蒸發(fā)、濺射 （Sputtering）鍍膜
OLED蒸鍍工藝下的高世代線難題 OLED大尺寸技術(shù)將革新
蒸鍍工藝屬于一種介于網(wǎng)板印刷和低壓低溫傳輸鍍的綜合工藝，因此同時兼有網(wǎng)板印刷的低開口率、低功能純凈率，以低壓低溫傳輸鍍的鍍層疏松、性能穩(wěn)定差
發(fā)表于 12-08 11:53
?974次閱讀
基于PVD 薄膜沉積工藝
PVD篇 PVD是通過濺射或蒸發(fā)靶材材料來產(chǎn)生金屬蒸汽，然后將金屬蒸汽冷凝在晶圓表面上的過程。應用材料公司在 PVD 技術(shù)開發(fā)方面擁有 25
連接器鍍霧錫與鍍亮錫有何區(qū)別
類型。兩者工藝雖然只有一字之差，但在實際應用中卻有著明顯的區(qū)別： 一：鍍霧錫的產(chǎn)品表面暗沉啞光，無光澤。鍍亮錫的產(chǎn)品表面光亮美觀。 二：霧錫電鍍結(jié)晶較粗糙。亮錫添加了亮光劑使結(jié)晶較細膩
光學鍍膜是如何工作的？
上海伯東提供適用于光學鍍膜機的離子源和真空系統(tǒng) 光的干涉在薄膜光學中應用廣泛. 光學薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜. 光學鍍膜是光學器件上的單個或多個材料沉
光纖傳感器在磁控濺射鍍膜溫度的監(jiān)測
磁控濺射（Magnetron Sputtering）是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝，具有速度快、溫度低、損傷小等優(yōu)點，其關(guān)鍵特點是使用一個磁場來控制并增強濺射過程。已發(fā)展成
半導體制造之薄膜工藝講解
薄膜沉積技術(shù)主要分為CVD和PVD兩個方向。 PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類，目前的主流工藝為
工商網(wǎng)監(jiān)
評論