0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

在高遷移率的GaAs量子阱上實現了低無序半導體AG

kus1_iawbs2016 ? 來源:未知 ? 作者:李倩 ? 2018-09-11 17:01 ? 次閱讀

多體效應在低維電子系統(tǒng)中發(fā)揮著重要作用,并且由于其與蜂窩拓撲結構之間相互作用而使其在石墨烯物理領域引起了極大的關注。雖然石墨烯中相互作用的理論處理通常假定系統(tǒng)均為清潔且可控的,但這些先決條件難以在天然材料中得到滿足。石墨烯中的二維(2D)鞍點激子(從M點處的鞍點奇點紅移)具有顯著的多體效應,但它們的光學響應遠低于器件應用的相關能量范圍。人造石墨烯(AG)是一種用于模擬2D晶體物理中量子行為的可控平臺,其所具有可調蜂窩晶格的AG系統(tǒng)適用于探索類石墨烯帶結構中多體效應的量子條件。

然而,目前固態(tài)AG中的電子-電子相互作用還未見報到,尤其是GaAs基的AG,主要是難以實現觀察這種效應的低無序性條件。

近日,哥倫比亞大學的Lingjie Du(通訊作者)等人在著名期刊Nature Communications上發(fā)表題為“Emerging many-body effects in semiconductor artificial graphene with low disorder”的研究論文,文中報道了在高遷移率的GaAs量子阱(QW)上實現了低無序半導體AG。

研究人員制備出了小周期三角形的反點晶格,用以顯著抑制加工擾動對電子的影響,從而在所生長的QWs上保持了高質量狀態(tài)。這一成就使觀察到受交換庫侖相互作用的集體鞍點自旋激子成為可能,所觀察到的庫侖交換相互作用能量與M點處狄拉克帶的能隙相當,這表明準粒子相互作用與AG勢能之間的相互影響。

在低無序的AG晶格中觀察集體鞍點自旋激子以及所出現的相對大的庫侖相互作用都表明在AG中是以電子-電子相互作用效應為主導的體系,這就可以探索一些在石墨烯中無法得到的多體效應。

圖一 三角形反點晶格中的低無序人造石墨烯

(a)在GaAs量子阱上刻印的帶有周期b的三角形反點晶格示意圖,白色圓圈代表半徑為r的刻蝕反點,黑色和灰色區(qū)域代表未刻蝕區(qū)域,黑色圓圈表示以周期a=b/√3的蜂窩圖案排列的有效點,在評估AG帶結構中,我們在單顆粒近似中使用具有費米能量的丸盒勢(紅色虛線),V0是刻蝕區(qū)域的潛在深度,每個反點都會產生一個有效的排斥勢V0(b)在三角形反點晶格中計算的電子密度,其中V0=6 meV、b=70 nm、a=40.4 nm以及r=20 nm,黃色箭頭強調了在最鄰近點之間的強化電子耦合,顏色條表示電子密度(c)b中帶參數AG的兩個最低狄拉克帶,EM表示M點附近的帶隙值

圖二 在三角形反點晶格中制備的人造石墨烯



(a)Zep 520抗蝕劑通過電子束暴露在80 kV的加速電壓下,之后,抗蝕劑演化成三角形反點圖案

(b)帶有圖案的抗蝕劑通過電子泛光暴露在3 kV加速電壓下,用以增強抗蝕劑的化學穩(wěn)定性

(c)將BCl3基干刻蝕劑以深度控制的方法將圖案轉移到襯底上

(d)除去殘余的抗蝕劑后的最終器件,QW位于表面下方80 nm處和Si的δ摻雜層的30 nm處,所生長的電子密度是2.1×1011cm-2,費米能級是7.5 meV,低溫遷移率是106cm2V-1s-1

(e)在0°傾斜(上面板,俯視圖)和40°傾斜(底面板,側視圖)中具有不同周期的AG晶格的掃描電鏡圖片,所有面板上的黃色標尺為50 nm

(f)AG樣品I(入射光子能量為1554.36 meV,藍色標識)的子帶間激發(fā)的RILS光譜與所生長的GaAs QW的子帶間激發(fā)(入射光子能量為1550.92 meV,黑色標識)之間的比較,對于不同的入射光子能量,樣品I的子帶間激發(fā)的峰寬幾乎是恒定的,光譜是在5 K時在交叉極化下拍攝的

圖三 三角形反點結構中低無序AG的狄拉克帶激發(fā)



(a)AG計算的能帶與樣品I的狄拉克躍遷圖,用不同顏色表示不同環(huán)境中的躍遷

(b)最低的曲線是a中躍遷的聯合態(tài)密度(JDOS),顏色區(qū)域表明不同環(huán)境下的躍遷,紅色標識是高斯擴展下的JDOS,寬度為γ=0.1 meV(其中,選擇的γ以適合接近EM的光譜線形狀),頂部的黃色跡線是樣品I中狄拉克帶激發(fā)的RILS光譜,其入射光子能量?ωi為1522.88 meV

(c)狄拉克帶激發(fā)的RILS光譜,除去了非RILS的背景,垂直虛線表示EM和EX的位置,插圖顯示了EM和EX的電平圖,在這個插圖中,黑色圓圈是c00帶的空穴,紅色圓圈是c01帶的電子

(d)頂部表示RILS光譜,?ωi為1523.06 meV,JDOS(紅色虛線,γ=0.1 meV)與由單粒子激發(fā)所引起的散射強度成正比,底部:上方的跡線表示減除單粒子JDOS強度后的光譜,其中?ωi為1523.06 meV(紫色),1523.01 meV(藍色)和1522.97 meV(綠色),示意圖顯示了M點處的自旋激子能和帶隙能,由于朗道阻尼,自旋激子模型寬度增加

圖四 在子帶間激發(fā)中探測庫侖交換能



(a)表示在子帶間自旋密度激發(fā)(SDE)的RILS的光躍遷,在具有入射光子能量?ωi的躍遷中,入射光子將一個電子從價帶(VB)上激發(fā)到c11/c10態(tài)上,在價帶上留下一個空穴;在具有散射光子能量?ωs的躍遷中,c10/c00態(tài)上的電子會與空穴重新復合,而發(fā)出散射光子;入射光子能量?ωi與散射光子能量?ωs通過能量守恒E=?ωi- ?ωs相關聯,這里的E是所研究的AG激發(fā)能,在SDE中,電子從較低填充的AG子帶激發(fā)到下一個較高子帶而不改變AG帶索引,紅(黑)線在較高(較低)?ωi下通過從c01和c11(從c00和c10)的自旋翻轉處理定義SDE激發(fā)電子態(tài),當c01帶高于費米能級時,由于我們實驗是在有限的溫度下存在載流子的熱激發(fā),因而它被填充(b)RILS光譜的顏色圖是在溫度T=5 K具有交叉極化中所測量的?ωi的函數,顏色條表示散射光的強度,虛線所標識的c01→c10和c00→c11表示將子帶間躍遷與量子阱子帶和AG帶索引之間變化所結合的能量,標有E10的虛線表示量子阱子帶間距的位置,黃色虛線表示SDE的位置,存在與c01→c10和c00→c11躍遷重疊的弱光致發(fā)光以及SDE(c)從(b)中提取的依賴于?ωi的交換能,垂直誤差棒代表從測量的光譜中測定E10和ESDE的估計不確定度

文中所實現的低無序AG揭示了在狀態(tài)密度M點的奇點處存在集體太赫茲鞍點自旋激子。低無序AG是一種可用于研究類石墨烯物理的高度可調的凝聚態(tài)系統(tǒng),其中電子相互作用與AG晶格的六方拓撲態(tài)之間的相互作用占主導地位。該研究發(fā)現可能為研究凝聚態(tài)系統(tǒng)中強相關量子態(tài)(鐵電性和非傳統(tǒng)超導性)開辟了新的方法,擴展了量子模擬的工具箱。鑒于鞍點激子處于太赫茲范圍并受可調參數的影響,低無序AG可為光電器件應用提供一種半導體平臺。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體
    +關注

    關注

    334

    文章

    26910

    瀏覽量

    214682
  • 光電器件
    +關注

    關注

    1

    文章

    176

    瀏覽量

    18471
  • 石墨烯
    +關注

    關注

    54

    文章

    1541

    瀏覽量

    79403

原文標題:哥倫比亞大學Nature子刊:低無序半導體人造石墨烯中的多體效應

文章出處:【微信號:iawbs2016,微信公眾號:寬禁帶半導體技術創(chuàng)新聯盟】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    絕對的好資料,Realization of inverted-HEMT

    使用RHEED density優(yōu)化的MBE growth conditions, 生長高遷移率GaAs/AlGaAs inverted-HEMT
    發(fā)表于 07-28 17:28

    第三代半導體材料盛行,GaN與SiC如何撬動新型功率器件

    。這就使得MOSFETSiC功率電子器件中具有重要的意義。2000年研制國內第一個SiCMOSFETt31。器件最大跨導為0.36mS/mm,溝道電子遷移率僅為14cm2/(V·s)。反型層
    發(fā)表于 06-16 10:37

    主流的射頻半導體制造工藝介紹

    1、GaAs半導體材料可以分為元素半導體和化合物半導體兩大類,元素半導體指硅、鍺單一元素形成的半導體
    發(fā)表于 07-29 07:16

    數字源表應用方案的半導體霍爾效應測試

    `一、系統(tǒng)背景測試半導體材料的霍爾效應是表征和分析半導體材料的重要手段。我們可以根據霍爾系數的符號來判斷半導體材料的導電類型,是N型還是P型;霍爾效應從本質講是運動的帶電粒子
    發(fā)表于 06-08 17:04

    《炬豐科技-半導體工藝》GaN 半導體材料與器件手冊

    和 AlGaN。AlGaN 材料對于紫外 (UV) 發(fā)射器和高電子遷移率晶體管 (HEMT) 結構很重要,因此已經整個 Al 成分范圍內研究 AlGaN 光學特性。InGaN材料(In含量< 50
    發(fā)表于 07-08 13:08

    載流子遷移率測量方法總結

    載流子遷移率測量方法總結 0 引言    遷移率是衡量半導體導電性能的重要參數,它決定半導體材料的電導,影
    發(fā)表于 11-03 10:44 ?1.5w次閱讀
    載流子<b class='flag-5'>遷移率</b>測量方法總結

    改進用霍爾傳感器制作的納米特斯拉磁力計的電子接口

    量子設計非常適合這種應用因為它能夠充分利用量子中產生的高遷移率載流子,并提供比Bulk半導體
    發(fā)表于 08-23 17:48 ?4次下載

    高遷移率二維半導體Bi2O2Se的紫外光輔助插層氧化方法

    然而,將高遷移率二維半導體與高介電常數的柵介質有效集成并極限微縮是電子學領域的一個重要挑戰(zhàn)。目前,商用硅基集成電路中所用的柵介質為原子層沉積法(ALD)制備的氧化鉿(HfO2)
    的頭像 發(fā)表于 09-26 10:04 ?1859次閱讀

    氮化鎵與其他半導體的比較(FOM) 氮化鎵晶體管的應用

    了解氮化鎵 -寬帶隙半導體:為什么? -氮化鎵與其他半導體的比較(FOM) -如何獲得高片電荷和高遷移率?
    發(fā)表于 01-15 14:54 ?1285次閱讀

    第四代寬禁帶半導體材料——氮化鎵

    第一代半導體指硅(Si)、鍺(Ge)等元素半導體材料;第二代半導體指砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等具有較高遷移率
    發(fā)表于 02-23 14:57 ?4029次閱讀

    什么是寬禁帶半導體?

    )為主的寬禁帶半導體材料,具有高擊穿電場、高飽和電子速度、高熱導率、高電子密度、高遷移率、可承受大功率等特點。
    的頭像 發(fā)表于 05-05 17:46 ?1w次閱讀
    什么是寬禁帶<b class='flag-5'>半導體</b>?

    MXene范德華接觸氮化鎵高電子遷移率晶體管中的應用

    摘要:柵極控制能力是決定氮化鎵高電子遷移率晶體管性能的關鍵因素。然而在金屬-氮化鎵界面,金屬和半導體的直接接觸會導致界面缺陷和固定電荷,這會降低氮化鎵高電子遷移率晶體管柵控能力。本項
    的頭像 發(fā)表于 05-25 16:11 ?968次閱讀
    MXene范德華接觸<b class='flag-5'>在</b>氮化鎵高電子<b class='flag-5'>遷移率</b>晶體管中的應用

    半導體材料方阻電阻、霍爾遷移率非接觸式測量技術

    半導體材料wafer、光伏硅片的電阻非接觸式測量、霍爾遷移率測試儀
    的頭像 發(fā)表于 06-15 14:12 ?1718次閱讀
    <b class='flag-5'>半導體</b>材料方阻電阻<b class='flag-5'>率</b>、霍爾<b class='flag-5'>遷移率</b>非接觸式測量技術

    什么是寬禁帶半導體

    (SiC)、氮化鎵(GaN)為主的寬禁帶半導體材料,具有高擊穿電場、高飽和電子速度、高熱導率、高電子密度、高遷移率、可承受大功率等特點。什么是寬禁帶?物質的導電需要
    的頭像 發(fā)表于 05-06 10:31 ?3860次閱讀
    什么是寬禁帶<b class='flag-5'>半導體</b>?

    如何通過霍爾效應測量半導體中電子和空穴的遷移率?

    半導體中,除了能帶寬度外,一個重要的物理量是電荷載流子(電子和空穴)的遷移率。本教程中,我們將研究霍爾效應,這使我們能夠實驗性地確定半導體
    的頭像 發(fā)表于 10-21 12:00 ?199次閱讀
    如何通過霍爾效應測量<b class='flag-5'>半導體</b>中電子和空穴的<b class='flag-5'>遷移率</b>?