0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

EUV光刻機(jī):ASML 2018年總銷量18臺(tái),計(jì)劃明年30臺(tái)

漁翁先生 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:尹志堅(jiān) ? 2019-01-25 14:50 ? 次閱讀

根據(jù)ASML財(cái)報(bào)顯示, 2018年Q4季EUV***設(shè)備完成5臺(tái)交付,全年EUV***設(shè)備總銷量達(dá)到18臺(tái),并計(jì)劃2019年將完成30臺(tái)的交付量。


圖1:ASML 2014~2018財(cái)年?duì)I收對(duì)照分析

1月23日,ASML Holding N.V(ASML)發(fā)布公告稱,2018年Q4季營收創(chuàng)下了全年的新紀(jì)錄,達(dá)到31億歐元,凈收7.88億歐元,毛利率44.3%,同比增長19%,環(huán)比增長11%。ASML表示,Q4季斬獲了5份EUV訂單。

同時(shí),根據(jù)ASML2018全年財(cái)報(bào)顯示,2018年ASML實(shí)現(xiàn)總營收109億歐元,凈收26億歐元,毛利率46%,EUV總出貨量18臺(tái),ArFi共86臺(tái),ArFdry共16臺(tái),KrF共78臺(tái),I-line共26臺(tái)。其中涉及客戶有英特爾Intel)、三星、臺(tái)積電、格芯、長江存儲(chǔ)、上海華虹半導(dǎo)體、中芯國際等。


圖2:2018財(cái)年ASML設(shè)備營收、用途、區(qū)域、數(shù)量占比情況分析

在2018年全年,ASML的ArF系列設(shè)備出貨量占總收入的58%,EUV占總收入的23%,KrF占總收入的11%,I-line占總收入的1%。其中,購買設(shè)備的廠商中有45%是用于邏輯芯片的生產(chǎn),55%是用于存儲(chǔ)器;美國、韓國、中國大陸及***為其主要消費(fèi)客戶,分別占比16%、35%、19%、19%。


圖3:2014年~2018年ASML設(shè)備營收來源分析。

半導(dǎo)體界人士認(rèn)為,2018年三星、臺(tái)積電創(chuàng)新推出7nm節(jié)點(diǎn)工藝,進(jìn)一步推動(dòng)EUV和沉浸式***的需求。ASML作為I-line,KrF,ArF,ArFi及EUV等設(shè)備的主要提供商,在EUV***上,幾乎是一家獨(dú)占,193nm浸沒式***占比達(dá)到90%以上,DUV***占比超50%,僅I-line由ASML、尼康、佳能均分,而目前國內(nèi)半導(dǎo)體晶圓廠生產(chǎn)設(shè)備主要仍需進(jìn)口。

ASML總裁兼說首席執(zhí)行官Peter Wennink表示,“ASML有望在客戶最先進(jìn)節(jié)點(diǎn)的技術(shù)轉(zhuǎn)型和生產(chǎn)能力方面進(jìn)行大力投資,推動(dòng)EUV和沉浸式***設(shè)備的需求。此外,我們繼續(xù)看到對(duì)中國出口的強(qiáng)勁需求??偟膩碚f,2019年是ASML的另一個(gè)銷售增長年,下半年與上半年相比將顯著增強(qiáng)?!?/p>

預(yù)計(jì)2019年Q1季度ASML預(yù)計(jì)營收約為21億歐元,毛利率約為40%。研發(fā)費(fèi)用約為4.8億歐元,SG&A費(fèi)用約為1.3億歐元。ASML表示,由于電子元件和模塊供應(yīng)商發(fā)生火災(zāi),預(yù)計(jì)ASML的第一季度銷售將受到約3億歐元的負(fù)面影響,預(yù)計(jì)其將在第二季度大幅復(fù)蘇,其余部分預(yù)計(jì)將在第二季度恢復(fù)2019年的一半。

總體而言,ASML對(duì)2019年業(yè)績趨向樂觀,預(yù)計(jì)全年將向邏輯芯片和存儲(chǔ)器客戶輸送總計(jì)30臺(tái)EUV***設(shè)備,其中NXE:3400C生產(chǎn)率大幅提高超170wph(每小時(shí)生產(chǎn)超170片晶圓),計(jì)劃2019年下半年開始出貨。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    452

    文章

    50206

    瀏覽量

    420881
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    52

    文章

    4815

    瀏覽量

    127670
  • ASML
    +關(guān)注

    關(guān)注

    7

    文章

    715

    瀏覽量

    41137
  • EUV光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    128

    瀏覽量

    15080
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2612次閱讀

    ASML擬于2030推出Hyper-NA EUV光刻機(jī),將芯片密度限制再縮小

    ASML再度宣布新光刻機(jī)計(jì)劃。據(jù)報(bào)道,ASML預(yù)計(jì)2030推出的Hyper-NA極紫外光機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 06-18 09:57 ?420次閱讀

    臺(tái)積電都嫌貴的光刻機(jī),大力推玻璃基板,英特爾代工的野心和危機(jī)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)此前,臺(tái)積電高級(jí)副總裁張曉強(qiáng)在技術(shù)研討會(huì)上表示,“ASML最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)(high-NA EUV)價(jià)格實(shí)在太高了,
    的頭像 發(fā)表于 05-27 07:54 ?2429次閱讀

    后門!ASML可遠(yuǎn)程鎖光刻機(jī)!

    來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門,可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報(bào)》報(bào)道,荷蘭
    的頭像 發(fā)表于 05-24 09:35 ?486次閱讀

    荷蘭阿斯麥稱可遠(yuǎn)程癱瘓臺(tái)積電光刻機(jī)

    disable)臺(tái)積電相應(yīng)機(jī)器,而且還可以包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)EUV)。 這就意味著阿斯麥(ASML)留了后門,隨時(shí)有能力去遠(yuǎn)程癱瘓制造芯片的
    的頭像 發(fā)表于 05-22 11:29 ?5710次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?869次閱讀

    臺(tái)積電張曉強(qiáng):ASML High-NA EUV成本效益是關(guān)鍵

    據(jù)今年2月份報(bào)道,荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備巨頭ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻機(jī)的售價(jià),高達(dá)3.5億歐元(約合27.16億元人民幣)。而現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的價(jià)格則為1
    的頭像 發(fā)表于 05-15 14:42 ?580次閱讀

    ASML發(fā)貨第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),已成功印刷10nm線寬圖案

    ASML公司近日宣布發(fā)貨了第二臺(tái)High NA EUV光刻機(jī),并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標(biāo)志著半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的技術(shù)革新向前邁進(jìn)了一大步。
    的頭像 發(fā)表于 04-29 10:44 ?752次閱讀

    英特爾突破技術(shù)壁壘:首臺(tái)商用High NA EUV光刻機(jī)成功組裝

    英特爾的研發(fā)團(tuán)隊(duì)正致力于對(duì)這臺(tái)先進(jìn)的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行細(xì)致的校準(zhǔn)工作,以確保其能夠順利融入未來的生產(chǎn)線。
    的頭像 發(fā)表于 04-22 15:52 ?850次閱讀

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML公司一季度訂單下滑

    光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 ASML公司一季度訂單下滑 光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷了,阿斯麥(ASML)在4月17日披露的一季度訂單遠(yuǎn)低于市場(chǎng)預(yù)期,這使得阿斯麥(
    的頭像 發(fā)表于 04-18 16:43 ?1160次閱讀

    阿斯麥(ASML)公司首臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)突破性成果

    )光刻機(jī),并已經(jīng)成功印刷出首批圖案。這一重要成就,不僅標(biāo)志著ASML公司技術(shù)創(chuàng)新的新高度,也為全球半導(dǎo)體制造行業(yè)的發(fā)展帶來了新的契機(jī)。目前,全球僅有兩臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV
    的頭像 發(fā)表于 04-18 11:50 ?804次閱讀
    阿斯麥(<b class='flag-5'>ASML</b>)公司首臺(tái)高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>實(shí)現(xiàn)突破性成果

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    3 月 13 日消息,光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機(jī)型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?495次閱讀
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首臺(tái)新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

    據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
    的頭像 發(fā)表于 03-08 14:02 ?1100次閱讀

    三星清空ASML股份,11盈利超16倍

    根據(jù)資料顯示,在2012,為了支持ASML EUV光刻機(jī)的研發(fā)與商用,并獲得EUV光刻機(jī)的優(yōu)先
    的頭像 發(fā)表于 02-23 17:27 ?950次閱讀

    三星希望進(jìn)口更多ASML EUV***,5內(nèi)新增50臺(tái)

    EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜,因此ASML每年只能制造約60臺(tái),而全球5
    的頭像 發(fā)表于 11-22 16:46 ?695次閱讀