在印制電路板制造技術(shù)中,雖關(guān)鍵的就是化深沉銅工序。它主要的作用就是使雙面和多層印制電路板的非金屬孔,通過(guò)氧化還原反應(yīng)在孔壁上沉積一層均勻的導(dǎo)電層,再經(jīng)過(guò)電鍍加厚鍍銅,達(dá)到回路的目的。但孔壁鍍層的空洞是PCB孔金屬化常見(jiàn)的缺陷之一,也是易引起印制電路板批量報(bào)廢的項(xiàng)目之一,因此解決印制電路板鍍層空洞問(wèn)題是印制板廠家重點(diǎn)控制的一項(xiàng)內(nèi)容。
一:沉銅前的處理:
1.去毛刺:沉銅前基板經(jīng)過(guò)鉆孔工序,此工序雖容易產(chǎn)生毛刺,它是造成劣質(zhì)孔金屬化的最重要的隱患。必須采用去毛刺工藝方法加以解決。通常采用機(jī)械方式,使孔邊和內(nèi)孔壁無(wú)倒刺或堵孔的現(xiàn)象產(chǎn)生.
2.除油污
3.粗化處理:主要保證金屬鍍層與基體之間良好的結(jié)合強(qiáng)度。
4.活化處理:主要形成“引發(fā)中心”,使銅沉積均勻一致。
二:孔壁鍍層的空洞產(chǎn)生的原因:
1、PTH造成的孔壁鍍層空洞
(1)沉銅缸銅含量、氫氧化鈉與甲醛的濃度
(2)槽液的溫度
(3)活化液的控制
(4)清洗的溫度
(5)整孔劑的使用溫度、濃度與時(shí)間
(6)還原劑的使用溫度、濃度與時(shí)間
(7)震蕩器和搖擺
2、圖形轉(zhuǎn)移造成的孔壁鍍層空洞
(1)前處理刷板
(2)孔口殘膠
(3)前處理微蝕
3、圖形電鍍?cè)斐傻目妆阱儗涌斩?/p>
(1)圖形電鍍微蝕
(2)鍍錫(鉛錫)分散性差
造成鍍層空洞的因素很多,最常見(jiàn)的是PTH鍍層空洞,通過(guò)控制藥水的相關(guān)工藝參數(shù)能有效的減少PTH鍍層空洞的產(chǎn)生。但其它因素也不能忽視,只有通過(guò)細(xì)致的觀察,了解到產(chǎn)生鍍層空洞的原因及缺陷的特點(diǎn),才能及時(shí)有效的解決問(wèn)題,維護(hù)產(chǎn)品的品質(zhì)。
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