作為行業(yè)領(lǐng)先的現(xiàn)代機(jī)器視覺技術(shù)供應(yīng)商,MVTec Software GmbH公司宣布將于近日發(fā)布其標(biāo)準(zhǔn)機(jī)器視覺軟件產(chǎn)品HALCON的新版本:HALCON 19.05 Progress。下面帶您搶先了解HALCON 19.05 Progress版的新特性。
1增強(qiáng)版的深度學(xué)習(xí)目標(biāo)檢測(cè)
MVTec自HALCON 17.12 Progress版本就已加入深度學(xué)習(xí)分類功能,在后續(xù)版本中,HALCON又在原有分類功能基礎(chǔ)上增加了目標(biāo)檢測(cè)以及語義分割的功能。對(duì)于HALCON的目標(biāo)檢測(cè)來說,可以使用矩形框來定位和識(shí)別所訓(xùn)練過的物體類型。在新版本中,HALCON對(duì)該功能進(jìn)行了優(yōu)化增強(qiáng),可支持矩形框與物體方向平行對(duì)齊,這樣可以讓矩形框更加貼合物體的形狀,使得檢測(cè)結(jié)果更加準(zhǔn)確,特別是檢測(cè)細(xì)長(zhǎng)傾斜物體。
2支持ARM平臺(tái)下深度學(xué)習(xí)應(yīng)用程序部署
HALCON 19.05可以以“開箱即用”的方式在Arm?處理器上進(jìn)行深度學(xué)習(xí)推理,這使得在無需其它專用硬件的條件下,可直接在嵌入式設(shè)備上完成深度學(xué)習(xí)應(yīng)用程序部署。目前HALCON的三種深度學(xué)習(xí)技術(shù):圖像分類,目標(biāo)檢測(cè)和語義分割,都支持在基于Arm?處理器的嵌入式設(shè)備上推理。
3改進(jìn)的基于形狀的匹配技術(shù)
基于形狀的匹配是HALCON最重要的核心技術(shù)之一,MVTec不斷改進(jìn)該技術(shù)以拓寬其應(yīng)用領(lǐng)域,使用HALCON 19.05,可以專門指定所謂的“clutter”區(qū)域,該區(qū)域是指搜索模型中不應(yīng)包含任何輪廓的區(qū)域。在搜索模型中添加“clutter”區(qū)域可以獲取更穩(wěn)健的匹配結(jié)果,例如在具有重復(fù)結(jié)構(gòu)的圖像中。
4增強(qiáng)的基于表面的匹配技術(shù)
HALCON 19.05版本中,支持邊緣的表面匹配技術(shù)得到很大提升,尤其是在有點(diǎn)云噪聲的情況下也可以得到穩(wěn)健的匹配結(jié)果。用戶可以通過多個(gè)參數(shù)的最小得分(min-scores)來控制表面和邊緣信息的影響,另外,在沒有XYZ圖像可用時(shí),可以使用一個(gè)新參數(shù)完全關(guān)閉3D 邊緣對(duì)齊,這可以減少由于3D數(shù)據(jù)不足而對(duì)匹配結(jié)果造成的影響,同時(shí)保留有價(jià)值的二維信息用于曲面和二維邊緣對(duì)齊。
5速度提升
MVTec在HALCON每一個(gè)版本迭代中,都會(huì)花費(fèi)很多精力去提高算法的速度。在新版HALCON中,又有很多算子在速度上有了大幅的提升,比如在AVX2處理器上affine_trans_image的速度提高了230%,當(dāng)然這也取決于圖像的類型和設(shè)置。
6簡(jiǎn)單易用的深度學(xué)習(xí)標(biāo)注工具
MVTec將于6月或7月發(fā)布Deep Learning Tool Version 0.2,新版本的深度學(xué)習(xí)標(biāo)注工具將支持旋轉(zhuǎn)矩形標(biāo)注,并支持中文。對(duì)于支持語義分割的深度學(xué)習(xí)標(biāo)注工具將于2019年底發(fā)布。
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原文標(biāo)題:HALCON 19.05 Progress于2019年5月31日正式發(fā)布
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