0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

SOI晶圓目前的發(fā)展現(xiàn)況與未來規(guī)劃

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來源:工程師吳畏 ? 2019-06-19 16:35 ? 次閱讀

由現(xiàn)行SOI(Silicon on Insulator)晶圓與代工制造情形,可大致了解SOI變化趨勢及重點(diǎn)地區(qū),并借此探討目前的發(fā)展現(xiàn)況與未來規(guī)劃。

以SOI晶圓供應(yīng)商為例,著重于歐洲、日本與***地區(qū)等廠商,其投入大量資源并對(duì)該晶圓生成技術(shù)著墨已久。

另外,SOI代工廠商則以歐洲、韓國及中國大陸等地區(qū)為主,在SOI晶圓制造發(fā)展上已導(dǎo)入較多研發(fā)費(fèi)用及廠房設(shè)備進(jìn)行生產(chǎn)。

整體而言,后續(xù)SOI晶圓生成及代工制造,較看好RF-SOI相關(guān)制程技術(shù)的發(fā)展。

法國SOITEC為最大SOI晶圓供應(yīng)商,但目前FD-SOI晶圓需求仍不明顯

根據(jù)SOI晶圓供應(yīng)商區(qū)域及技術(shù)分布圖,現(xiàn)行SOI晶圓供應(yīng)商有法國SOITEC、日本信越(Shin-Etsu)、臺(tái)系環(huán)球晶、陸系上海新傲、芬蘭Okmetic、日本勝高(SUMCO)與新創(chuàng)廠商臺(tái)系華硅創(chuàng)新,其中SOI晶圓應(yīng)用以RF-SOI、Power-SOI及FD-SOI為主,并以6~12寸的SOI晶圓為生產(chǎn)尺寸。

SOI晶圓生成技術(shù)雖集中于歐洲、日本與***地區(qū)等,SOI生成技術(shù)龍頭卻由法國SOITEC拿下,囊括SOI晶圓生成總產(chǎn)量70%以上市占率,所以對(duì)于此生成技術(shù)的應(yīng)用及發(fā)展,法國SOITEC擁有極高話語權(quán),目前已針對(duì)FD-SOI、RF-SOI及Power-SOI等晶圓生成技術(shù)為主要。

至于其他晶圓廠,現(xiàn)階段嘗試取代線寬較大之FinFET元件所開發(fā)的FD-SOI晶圓技術(shù)則有日本信越、芬蘭Okmetic及臺(tái)系環(huán)球晶等廠商,且相繼投入晶圓生產(chǎn)開發(fā)上;盡管已有許多廠商投入晶圓開發(fā),但若以市場需求觀察,則可發(fā)現(xiàn)元件發(fā)展現(xiàn)況似乎受阻,由于未有明顯的元件需求,F(xiàn)D-SOI晶圓供貨量可能趨緩。

另外,各廠在龍頭大廠法國SOITEC帶領(lǐng)下,提高對(duì)射頻前端元件的發(fā)展興趣,逐漸朝RF-SOI晶圓生成技術(shù)發(fā)展,后續(xù)將搭配5G通訊發(fā)展,使該生成技術(shù)逐漸受到重視。

格芯為最大SOI代工制造商,搭配5G通訊RF-SOI元件后續(xù)看好

再由SOI主要代工廠商區(qū)域及技術(shù)分布圖可知,SOI代工廠商發(fā)展主要以美國格芯、韓國Samsung、瑞士STM、***地區(qū)聯(lián)電、以色列TowerJazz、大陸地區(qū)華虹宏力與中芯國際等,以6~12寸SOI晶圓進(jìn)行加工,且制程技術(shù)將著重于FD-SOI與RF-SOI等代工上。

現(xiàn)行SOI代工廠商發(fā)展以歐洲、韓國及中國等地區(qū)最顯著;其中,SOI晶圓代工廠霸主為美國格芯,其制程工廠大多集中于德國及新加坡等地區(qū),目前已有FD-SOI、RF-SOI晶圓等先進(jìn)制程技術(shù),但由于格芯內(nèi)部營運(yùn)問題與FD-SOI元件需求量較不顯著,因此其成都廠預(yù)計(jì)將導(dǎo)入22nm之FD-SOI制程技術(shù),并于2018年底傳出停工,后續(xù)發(fā)展還有待觀察。

另一方面,RF-SOI元件在射頻前端元件應(yīng)用上集中于Switch(開關(guān))、LNA(功率放大器)等元件,除了龍頭美國格芯已投入該領(lǐng)域研發(fā)外,現(xiàn)階段各廠大多有其相對(duì)應(yīng)的技術(shù)發(fā)展。整體來說,2021~2022年5G通訊市場將蓬勃發(fā)展,由于5G頻寬大量增加,手機(jī)內(nèi)部需有更多的射頻前端元件支援,帶動(dòng)整體需求量,驅(qū)使RF-SOI元件產(chǎn)量逐步增長、營收上揚(yáng)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    52

    文章

    4743

    瀏覽量

    127280
  • SOI
    SOI
    +關(guān)注

    關(guān)注

    4

    文章

    67

    瀏覽量

    17541
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    國產(chǎn)SOI技術(shù)迎來突破性進(jìn)展,SOI賽道大有可為

    的意思,原理就是在硅晶體管之間,加入絕緣體物質(zhì),可使兩者之間的寄生電容比原來的少上一倍。 ? SOI制程工藝自出現(xiàn)以來就因?yàn)槠洫?dú)特的優(yōu)勢吸引了業(yè)界關(guān)注,就在不久前,中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)所官方公眾號(hào)日前發(fā)布消息,稱魏星研究員團(tuán)隊(duì)在300 mm SOI
    的頭像 發(fā)表于 10-29 06:28 ?2913次閱讀

    碳化硅和硅的區(qū)別是什么

    以下是關(guān)于碳化硅和硅的區(qū)別的分析: 材料特性: 碳化硅(SiC)是一種寬禁帶半導(dǎo)體材料,具有比硅(Si)更高的熱導(dǎo)率、電子遷移率和擊穿電場。這使得碳化硅
    的頭像 發(fā)表于 08-08 10:13 ?483次閱讀

    北方華創(chuàng)微電子:清洗設(shè)備及定位裝置專利

    該發(fā)明涉及一種清洗設(shè)備及定位裝置、定位方法。其中,定位裝置主要用于帶有定位部的
    的頭像 發(fā)表于 05-28 09:58 ?236次閱讀
    北方華創(chuàng)微電子:<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>清洗設(shè)備及<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>定位裝置專利

    英特爾二季度酷睿 Ultra供應(yīng)受限,級(jí)封裝為瓶頸

    然而,英特爾目前面臨的問題在于,后端級(jí)封裝環(huán)節(jié)的供應(yīng)瓶頸。級(jí)封裝是指在
    的頭像 發(fā)表于 04-29 11:39 ?326次閱讀

    FD-SOI與PD-SOI他們的區(qū)別在哪?

    本文簡單介紹了兩種常用的SOI——FD-SOI與PD-SOI。
    的頭像 發(fā)表于 03-17 10:10 ?1119次閱讀
    FD-<b class='flag-5'>SOI</b>與PD-<b class='flag-5'>SOI</b>他們的區(qū)別在哪?

    TC WAFER 測溫系統(tǒng) 儀表化溫度測量

    “TC WAFER 測溫系統(tǒng)”似乎是一種用于測量(半導(dǎo)體制造中的基礎(chǔ)材料)溫度的系統(tǒng)。在半導(dǎo)體制造過程中,
    的頭像 發(fā)表于 03-08 17:58 ?773次閱讀
    TC WAFER   <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>測溫系統(tǒng) 儀表化<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>溫度測量

    一文看懂級(jí)封裝

    共讀好書 在本文中,我們將重點(diǎn)介紹半導(dǎo)體封裝的另一種主要方法——級(jí)封裝(WLP)。本文將探討級(jí)封裝的五項(xiàng)基本工藝,包括:光刻(Photolithography)工藝、濺射
    的頭像 發(fā)表于 03-05 08:42 ?1020次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>級(jí)封裝

    鍵合設(shè)備及工藝

    隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展,鍵合設(shè)備及工藝在微電子制造領(lǐng)域扮演著越來越重要的角色。鍵合技術(shù)是一種將兩個(gè)或多個(gè)
    的頭像 發(fā)表于 12-27 10:56 ?1114次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>鍵合設(shè)備及工藝

    靜電對(duì)有哪些影響?怎么消除?

    靜電對(duì)有哪些影響?怎么消除? 靜電是指由于物體帶電而產(chǎn)生的現(xiàn)象,它對(duì)產(chǎn)生的影響主要包括制備過程中的
    的頭像 發(fā)表于 12-20 14:13 ?776次閱讀

    AI為代工產(chǎn)業(yè)將帶來什么的未來?

    在12英寸產(chǎn)能利用率上,位于頭部的代工企業(yè)的產(chǎn)能利用率大致也能達(dá)到80%左右。不過可以發(fā)現(xiàn),三星在先進(jìn)工藝上名列前茅,但產(chǎn)能利用率處于比較末尾的位置,對(duì)比臺(tái)積電仍差距較大,這與
    的頭像 發(fā)表于 12-13 10:39 ?959次閱讀
    AI為<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>代工產(chǎn)業(yè)將帶來什么的<b class='flag-5'>未來</b>?

    國內(nèi)第一片300mm射頻(RF)SOI的關(guān)鍵技術(shù)

    多晶硅層用作電荷俘獲層是RF-SOI中提高器件射頻性能的關(guān)鍵技術(shù),晶粒大小、取向、界分布、多晶硅電阻率等參數(shù)與電荷俘獲性能有密切的關(guān)系;此外,由于多晶硅/硅的復(fù)合結(jié)構(gòu),使得硅應(yīng)力
    的頭像 發(fā)表于 11-21 15:22 ?920次閱讀

    級(jí)封裝的基本流程

    介紹了級(jí)封裝的基本流程。本篇文章將側(cè)重介紹不同級(jí)封裝方法所涉及的各項(xiàng)工藝。級(jí)封裝可分
    的頭像 發(fā)表于 11-08 09:20 ?8089次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>級(jí)封裝的基本流程

    鍵合的種類和應(yīng)用

    鍵合技術(shù)是將兩片不同結(jié)構(gòu)/不同材質(zhì)的,通過一定的物理方式結(jié)合的技術(shù)。鍵合技術(shù)已經(jīng)大量
    發(fā)表于 10-24 12:43 ?1218次閱讀
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>鍵合的種類和應(yīng)用

    上海微系統(tǒng)所在300mm RF-SOI制造技術(shù)方面實(shí)現(xiàn)突破

    近日,上海微系統(tǒng)所魏星研究員團(tuán)隊(duì)在300mm SOI制造技術(shù)方面取得突破性進(jìn)展,制備出了國內(nèi)第一片300mm 射頻(RF)SOI
    的頭像 發(fā)表于 10-23 09:16 ?861次閱讀
    上海微系統(tǒng)所在300mm RF-<b class='flag-5'>SOI</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圓</b>制造技術(shù)方面實(shí)現(xiàn)突破

    智測電子 ——測溫系統(tǒng),tc wafer半導(dǎo)體測溫?zé)犭娕?/a>

    測溫系統(tǒng),tc wafer半導(dǎo)體測溫?zé)犭娕?測溫系統(tǒng),也就是tc wafer半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 10-11 16:09 ?765次閱讀