電子發(fā)燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。而眾所周知，EUV光刻機產能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產高端芯片的技術和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2909 電子發(fā)燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153007 
制造集成電路的大多數工藝區(qū)域要求100級（空氣中每立方米內直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數不超過約3500）潔凈室，在光刻區(qū)域，潔凈室要求10級或更高。
2024-03-20 12:36:0056 
英偉達與臺積電、 Synopsys 已做出決策，將在其軟件環(huán)境、制造工藝以及系統(tǒng)上整合英偉達的 cuLitho 計算光刻平臺。此舉旨在大幅提升芯片制造速率，并為英偉達即將推出的 Blackwell 架構 GPU 鋪平道路。
2024-03-19 11:41:53112 基于HarmonyOS NEXT鴻蒙原生應用開發(fā)。目前，作為網易首款鴻蒙原生游戲，《倩女幽魂》不但完成了鴻蒙原生應用開發(fā)，且商業(yè)化版本已就緒，將在HarmonyOS NEXT發(fā)布的第一時間與用戶見面。 《倩女幽魂》作為仙俠類標桿手游，新增用戶已突破億級，活躍用戶
2024-03-13 11:37:24218 美國半導體設備制造商應用材料公司在印度班加羅爾開設了一個驗證中心，標志著印度首家能夠加工300mm晶圓的商業(yè)設施誕生。
2024-03-12 10:03:03227 ，用于支持所謂“安全飛地（secure enclave）”的計劃。計劃的資金來自總金額390億美元的《芯片和科學法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓勵芯片制造商在美國生產半導體，目前已有600多家公司表明希望獲得補助。2023年11月有報道稱，英特爾正協(xié)商就“安全
2024-03-07 10:50:06731 近期的演示會上，美光詳細闡述了其針對納米印刷與DRAM制造之間的具體工作模式。他們提出，DRAM工藝的每一個節(jié)點以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程變得愈發(fā)復雜。
2024-03-05 16:18:24190 ASML在半導體產業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 全球領先的連接和電源解決方案供應商Qorvo?（納斯達克代碼：QRVO）近日宣布已就收購Anokiwave達成最終協(xié)議。
2024-02-20 17:32:23394 Takeishi向英國《金融時報》表示，公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C，并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
佳能近日表示，計劃年內或明年上市使用納米壓印技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。對比已商業(yè)化的EUV光刻技術，雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢，但由于制程簡化，耗電僅為EUV的十分之一，且投資額也僅為EUV設備的四成。
2024-01-31 16:51:18551 光刻機是微電子制造的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中，光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
納米技術是一種高度前沿的技術，利用控制和操縱物質的尺寸在納米級別來創(chuàng)造新的材料和應用。納米技術的特點主要包括以下幾個方面：高比表面積、尺寸效應、量子效應和可調控性。 首先，納米技術的一個重要特點是
2024-01-19 14:06:424311 和光通信領域的客戶制造高精度微型光學元件。制造商是位于德國耶拿的電子束技術專家Vistec Electron Beam GmbH。該系統(tǒng)將于2025年初交付。 以最高精度創(chuàng)建最小的結構 這種類型的電子束光刻系統(tǒng)可以在直徑達300毫米的襯底上以10納米范圍（約為頭發(fā)絲的1/2,000）精度
2024-01-15 17:33:16176 光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21346 
使用13.5nm波長的光進行成像的EUV光刻技術已被簡歷。先進的邏輯產品依賴于它，DRAM制造商已經開始大批量生產。
2023-12-29 15:22:31172 據可靠消息來源透露，聯(lián)電已就12納米工藝授權與英特爾進行多輪接觸且近期將達成協(xié)議。主要原因在于聯(lián)電的12納米 ARM架構技術和主攻 x86 架構的英特爾形成了很好的互補效應，根據計劃，聯(lián)電將在今后一段時間內收授高達數百億新臺幣的專利費。
2023-12-28 14:46:00197 對于納米壓印技術，佳能半導體設備業(yè)務部巖本和德介紹道，它是通過將刻有半導體電路圖的掩膜壓制于晶圓之上完成二維或三維電路成型的過程。巖本進一步補充道，若對掩膜進行改良，將有可能實現2nm級別的電路線條寬度。
2023-12-25 14:51:51316 在過去的幾年里，200mm設備在市場上一直供不應求，但現在整個300mm供應鏈也出現了問題。傳統(tǒng)上，300毫米設備的交貨時間為三到六個月，而特定系統(tǒng)的交貨時間更長。然而，如今，采購極紫外(EUV)光刻掃描儀可能需要一年或更長時間。沉積、蝕刻和其他系統(tǒng)的交付周期也很長。
2023-12-20 13:31:32172 
來源：Silicon Semiconductor 紅外激光切割技術能夠以納米精度從硅襯底上進行超薄層轉移，徹底改變了先進封裝和晶體管縮放的3D集成。 EV集團（EVG）推出了EVG?850
2023-12-13 17:26:46489 
“半導體研發(fā)機構 imec 的項目經理塞德里克-羅林（Cedric Rolin）說：”納米壓印技術很難在質量上與 EUV 相媲美?！?他說，納米壓印的缺陷率“相當高”。
2023-12-06 15:54:42314 某造紙公司出現了鍵槽磨損，鍵槽磨損1-1.5mm公司選擇索雷碳納米聚合物材料技術來進行修復。
2023-12-04 09:42:59
0 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產中。
2023-11-29 10:28:50283 
的轉型升級，一站式數字化電子供應鏈應愈發(fā)重要，數字化智能制造的全鏈條中電子設計與制造的問題也越來越受到重視。
在此背景下，華秋聯(lián)合新一代產業(yè)園主辦的《2023電子設計與制造技術研討會》于11月23
2023-11-24 16:50:33
的轉型升級，一站式數字化電子供應鏈應愈發(fā)重要，數字化智能制造的全鏈條中電子設計與制造的問題也越來越受到重視。
在此背景下，華秋聯(lián)合新一代產業(yè)園主辦的《2023電子設計與制造技術研討會》于11月23
2023-11-24 16:47:41
雖然目前在光刻機市場，還有尼康和佳能這兩大供應商，但是這兩家廠商的產品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市場份額僅有10%左右，ASML一家占據了90%的市場份額，并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。
2023-11-23 16:14:45485 
在電子和電氣制造業(yè)中，光刻技術是制造無源/有源器件的重要步驟。
2023-11-20 09:30:05405 
就緒狀態(tài)和等待狀態(tài)是計算機領域中一對常用的術語，用于描述進程或線程在執(zhí)行時的不同狀況。下面我將詳細解釋就緒狀態(tài)和等待狀態(tài)的區(qū)別。 就緒狀態(tài)（Ready State）是指進程或線程已經滿足了執(zhí)行的條件
2023-11-17 11:29:55754 第六屆進博會于近日在上海國家會展中心正式收官，ASML2023進博之旅也圓滿落幕! 今年，ASML繼續(xù)以“光刻未來，攜手同行”為主題，攜全景光刻解決方案驚艷亮相，還創(chuàng)新性地帶來了“芯”意滿滿的沉浸
2023-11-11 15:23:53595 
據DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引進佳能納米壓印設備，正在進行測試與研發(fā)，目標在2025年左右將該設備用于3D NAND量產。有業(yè)內人士表示：“與EUV相比，納米壓印技術形成圖案
2023-11-10 16:25:06434 
中圖儀器SJ5730系列納米探針式輪廓儀采用超高精度納米衍射光學測量系統(tǒng)、超高直線度研磨級摩擦導軌、高性能直流伺服驅動系統(tǒng)、高性能計算機控制系統(tǒng)技術，分辨率高達0.1nm，系統(tǒng)殘差小于3nm
2023-11-09 09:14:22
顛覆性技術!半導體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導體制造設備 未來，或將替代ASML光刻機 成為更低成本的芯片制造設備! 要知道，半導體是目前全球經濟的核心，在中國
2023-11-08 15:57:14199 
納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌?b class="flag-6" style="color: red">光刻工藝，是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機，進行了大規(guī)模生產，并取得了不錯的效果。
2023-11-08 14:34:02550 目前，俄羅斯雖然擁有利用外國制造設備的65納米技術，但不能生產光刻機。在現代光刻設備的情況下，外國企業(yè)被禁止出口之后，俄羅斯正在忙于自身的生產設備開發(fā)。
2023-11-06 11:38:55473 2024年亮相，而支持130納米制程的設備將于2026年投入生產。 在全球范圍內，只有荷蘭ASML和日本Nikon兩家公司生產光刻機，這使得俄羅斯面臨技術及設備的供應難題。然而，在國際制裁的背景下，俄羅斯決定走上了自研自產的道路，旨在建設本土半導體產業(yè)鏈。
2023-11-06 11:26:29212 據悉，asml是唯一的極紫外光刻工具供應商，極紫外線刻印工具是世界上最先進的芯片制造機器，每臺價值數億美元。euv設備是數十年研究和投資的產物，是大規(guī)模生產最快、能源效率最高的芯片所必需的。
2023-11-06 09:29:32377 月 5 日 - 10 日 地點：國家會展中心（上海市）4.1 館集成電路專區(qū) A1 - 01 德州儀器展位 目前，德州儀器的展臺搭建工作已全部準備就緒，300 平米進博會展區(qū)，涵蓋可再生能源、汽車電子與機器人三大領域技術與解決方案，為您打造沉浸式科技“芯”旅程！ 你是
2023-11-05 13:02:11315 光刻是半導體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關鍵耗材，其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
2023-10-26 15:10:24359 
為了制備蜂窩狀紋理的絨面結構，研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的工藝鏈可以分為以下四步。
2023-10-25 09:31:36253 
光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
近日，上海微系統(tǒng)所魏星研究員團隊在300mm SOI晶圓制造技術方面取得突破性進展，制備出了國內第一片300mm 射頻（RF）SOI晶圓。
2023-10-23 09:16:45498 
為制備適用于300 mm RF-SOI的低氧高阻襯底，團隊自主開發(fā)了耦合橫向磁場的三維晶體生長傳熱傳質模型，并首次揭示了晶體感應電流對硅熔體內對流和傳熱傳質的影響機制以及結晶界面附近氧雜質的輸運機制，相關成果分別發(fā)表在晶體學領域的頂級期刊《Crystal growth & design》
2023-10-20 14:30:45358 
來源：中國半導體論壇 編輯：感知芯視界 Link 10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻設備：FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備！ 受此消息影響，納米壓印概念股午后走高，匯創(chuàng)達午后
2023-10-17 11:07:23230 據佳能介紹，傳統(tǒng)的光刻設備將電路圖案投射到涂有防腐劑的晶片上，而新產品就像郵票一樣，在晶片上印上印有電路圖案的掩模來實現這一目標。由于電路圖案的傳遞過程不經過光學結構，因此可以在晶片上準確再現掩模的細微電路圖案。
2023-10-16 11:40:29701 當制程節(jié)點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術的組合也難以滿足量產需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個生產線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產。
2023-10-13 14:45:03834 
璞璘科技成立于2017年，致力于納米壓印設備及材料的生產和開發(fā)。據璞璘科技官方消息，公司是目前國內市場上唯一一家集納米壓印設備、材料、技術于一體的納米壓印尖端微納米制造企業(yè)。
2023-10-13 10:03:231622 納米科技的迅猛發(fā)展將我們的視野拓展到了微觀世界，而測量納米級尺寸的物體和現象則成為了時下熱門的研究領域。納米級測量儀器作為一種重要的工具，扮演著重要的角色。那么，如何才能準確測量納米級物體呢？在
2023-10-11 14:37:46
從技術發(fā)展的角度看，芯片線寬越來越小，各種光學效應、系統(tǒng)誤差和工藝條件偏差等變得越來越精細。計算光刻可以通過算法建模、仿真計算、數據分析和結果優(yōu)化等手段解決半導體制造過程中的納米級掩模修復、芯片設計、制造缺陷檢測與矯正
2023-10-10 16:42:24486 這個復合體由兩種設施組成。第一個裝置是為“無掩模納米光刻”設計的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設備位于第一種設備制造的基板圖案上，利用蝕刻形成納米結構。
2023-10-10 14:27:04436 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業(yè)的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674 
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產生這種光的主要來源是使用強大激光器產生的熱錫等離子體。激光參數被調整以產生大多數在13.5納米附近發(fā)射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264 
線路板的光刻技術
2023-09-21 10:20:34607 
該制造商為SHELLBACK 300毫米生產線訂購的eaglei 300 caster檢查系統(tǒng)，為驗證300毫米foup及fosb的重要大小，在清潔前和清潔后，通過準確的、可編程的多點晶圓載具檢查，以確保只有在公差范圍內的載具才能重新進入生產，從而提高晶圓廠產量。
2023-09-20 11:54:10558 玻璃瓶軸偏差測定儀 在玻璃制造業(yè)中，瓶子的設計和制造不僅需要美觀，更要求高度的實用性和精密度。其中，玻璃瓶的垂直軸偏差是評價其質量的重要指標之一。為了確保玻璃瓶垂直軸的偏差在規(guī)定范圍內
2023-09-19 14:31:35
納米級[1] 。傳統(tǒng)的平面化技術如基于淀積技術的選擇淀積、濺射玻璃 SOG、低壓 CVD、等離子體增強 CVD、偏壓濺射和屬于結構的濺射后回腐蝕、熱回流、淀積 —腐蝕 —淀積等 , 這些技術在 IC
2023-09-19 07:23:03
公開的資料顯示，蘇大維格他致力于微納關鍵技術，柔性智能制造、柔性光電子材料的創(chuàng)新應用，涉及微納光學印材、納米印刷、3D成像材料、平板顯示（大尺寸電容觸控屏，超薄導光板）、高端智能微納裝備（納米壓印、微納直寫光刻、3D光場打印等）的開發(fā)和技術產業(yè)化
2023-09-11 11:45:593530 制造企業(yè)形成新的要求，企業(yè)紛紛尋求降本升效的手段。 在光伏玻璃產線中，投料、熔化、成型、退火、切割、制品是一個完整的生產流程，其中生產過程的溫濕度、壓力等工藝參數對生產效率至關重要，通過將產線上溫濕度傳感器、
2023-08-24 14:07:04253 
半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221 
2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術。
2023-08-23 10:33:46798 
光刻是一種圖像復制技術，是集成電路工藝中至關重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531479 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02396 據新維度公司總經理羅鋼博士介紹，新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術系統(tǒng)，是世界主要納米壓印技術路線之一。
2023-07-20 10:58:361179 新的300晶圓廠將于2023年啟動，提供動力晶體管、先進邏輯、oem服務。將于2023年開業(yè)的13個300mm 晶圓廠中有5個是非ic產品生產，其中3個在中國，2個在日本。今年新成立的300mm晶圓廠的三分之二正在進行預定型生產，其中4家完全致力于委托其他公司制造半導體。
2023-07-20 09:25:50587 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-30 10:06:02261 
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:17327 
在之前的文章里，我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發(fā)展史?，F在，讓我們繼續(xù)了解光刻工藝，通過該過程將電子電路圖形轉移到晶圓上。光刻過程與使用膠片相機拍照非常相似。但是具體是怎么實現的呢？
2023-06-28 10:07:472427 
如今，光刻技術已成為一項容錯率極低的大產業(yè)。全球領先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強大的商用激光器之一以及比太陽表面爆炸還高的熱度，在硅上刻出微小的形狀，尺寸僅為幾納米。
2023-06-26 16:59:16569 非光刻圖案化方法可以從圖案設計的自由度上分為三大類，第一類能夠自由形成任意圖案，主要包括掃描探針刻?。⊿PL）和噴墨打??；第二類需要在模板或預圖案化基材的輔助下形成復雜的圖案，包括區(qū)域選擇性沉積（ASD）、納米壓印（NIL）、微接觸印刷（mCP）
2023-06-21 15:49:50522 
近日，湖南大學段輝高教授團隊通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉印”技術的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
芯片前道制造可以劃分為七個環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯東客戶某光刻機生產商, 生產的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
中國在半導體芯片制造方面仍落后于美國。早在上世紀60年代，美國就開始占據世界半導體市場的絕對主導地位。隨著技術的不斷發(fā)展，半導體芯片的制造越來越精細化。從最初的65納米工程到現在的7納米技術開發(fā)，美國一直處于領先地位。
2023-06-01 10:12:43583 納米壓印技術，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術轉移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949 
EUV光刻技術仍被認為是實現半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發(fā)展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041790 
目前，用于制造具有復雜形狀的納米級物體的最精確的3D打印技術可能是雙光子光刻。這種方法依賴于液態(tài)樹脂，只有當它們同時吸收兩個光子而不是一個光子時，它們才會固化。這使得能夠精確制造具有體素（相當于像素的3D）的物體，尺寸只有幾十納米。
2023-05-17 09:59:22661 
在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
壓電納米定位臺在精密定位領域中發(fā)揮著至關重要的作用，可集成于各類高精密裝備，為其提供納米級運動控制，且應用非常廣泛，例如顯微掃描、光路調整、納米操控技術、激光干涉、納米光刻、生物科技、光通信、納米
2023-05-11 08:56:02347 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 一、PCB制造基本工藝及目前的制造水平
PCB設計最好不要超越目前廠家批量生產時所能達到的技術水平，否則無法加工或成本過高。
1.1層壓多層板工藝
層壓多層板工藝是目前廣泛
2023-04-25 17:00:25
浮法玻璃是一種常見的玻璃制造工藝，其生產過程中將玻璃原料（例如硅砂、碳酸鈉、石灰石等）融化后，從玻璃熔浴上方均勻地流出，經冷卻固化成薄片狀玻璃。這種技術可以制造出高質量、均勻厚度的玻璃，用途廣泛。
2023-04-25 11:18:471260 根據維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331242 
光刻技術簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
光刻技術是將掩模中的幾何形狀的圖案轉移到覆蓋在半導體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:131057 
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
中國在芯片制造領域一直在追趕先進的技術，雖然在一些關鍵技術方面還存在一定差距，但近年來中國在光刻機領域取得了一些進展，下面將詳細介紹中國目前最先進的光刻機是多少納米。
2023-04-24 15:10:0159466 核心材料是環(huán)氧樹脂和玻璃纖維，也被稱為基材。層壓板是接收構成PCB的銅的理想主體?；宀牧蠟镻CB提供了堅固且防塵的起點。銅在兩面都預先粘合在一起。該過程涉及消磨銅，以揭示薄膜中的設計?！ ?b class="flag-6" style="color: red">在PCB
2023-04-21 15:55:18
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
大家好，我正在將 FCB-EV9500M 與 imx8mm 接口。我面臨的問題是 FCB-EV9500M 是 visca 協(xié)議及其 mipi 傳感器。FCB-EV9500 不是i2c 通訊協(xié)議。有誰知道如何將這個 mipi 相機與 imx8mm 接口？
2023-04-03 08:45:06
我在 MF3D(H)x3 數據表（MIFARE DESFire EV3 非接觸式多應用 IC (nxp.com)）中讀到 DESFire EV2 EV3 的設計是為了保持向后兼容性。我想知道這是由于
2023-03-31 08:49:45
美國加州時間2023年3月27日，SEMI在《300mm晶圓廠展望報告-至2026年》（300mm Fab Outlook to 2026）中指出，全球半導體制造商預計2026年將增加300mm
2023-03-29 16:47:442044 
數十年來，為制造工藝制作掩模一直是半導體制造中的重要環(huán)節(jié)。隨著我們轉向采用5nm、3nm甚至2nm等更先進的工藝節(jié)點，縮短計算光刻耗時可幫助半導體制造公司高效地制造芯片。作為該領域的先鋒企業(yè)，新思科
2023-03-25 16:40:01495 GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術提速40倍。這對于半導體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377488 
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