安裝好光模塊后，測(cè)試其性能是必不可少的步驟。當(dāng)整個(gè)網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)中的光器件是由一個(gè)供應(yīng)商供應(yīng)時(shí)，如果網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)能夠正常工作，那么就不需要對(duì)系統(tǒng)的子組件分別進(jìn)行測(cè)試。但是，現(xiàn)在大部分網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)中的子部件都來
2022-04-14 20:46:41
本帖最后由 青島晶誠電子設(shè)備 于 2017-12-15 13:48 編輯
青島晶誠電子設(shè)備公司主營產(chǎn)品有：半導(dǎo)體設(shè)備（SemiconductorEquipment）：硅片清洗機(jī)/晶圓清洗
2017-12-15 13:41:58
鍍有析光膜層的光學(xué)表面，如xJ—16型金相顯微鏡的半反射鏡，由于膜層質(zhì)地較軟，清洗要特別謹(jǐn)慎小心，不能用常規(guī)方法清洗。若已發(fā)生輕度霉點(diǎn)，可浸入溶劑中，用毛筆或棉球，輕輕地浮著表面拂洗，在最后的清洗
2012-09-25 14:53:21
蘇州晶淼專業(yè)生產(chǎn)半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設(shè)備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設(shè)備。晶淼半導(dǎo)體為國內(nèi)專業(yè)微電子、半導(dǎo)體行業(yè)腐蝕清洗設(shè)備供應(yīng)商，歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理
2016-09-05 14:26:32
IMS抗紅外抗光傳感器智恒的IMS.E3JK抗紅外抗光傳感器具有良好的抗紅外抗光性能，E3JK抗紅外抗光傳感器有效抵抗外來紅外光干擾，可在室外強(qiáng)光下使用；E3JK抗紅外抗光傳感器可做到多個(gè)傳感器并排
2016-07-05 10:46:43
的新創(chuàng)企業(yè)。這種MLI-2027直寫光刻系統(tǒng)首次在業(yè)內(nèi)同時(shí)實(shí)現(xiàn)高精度、高生產(chǎn)效率和高成品率，並采用標(biāo)準(zhǔn)的“非激光直接成像（Non-LDI）” 抗蝕劑。Maskless公司還宣布Sanmina-SCI公司
2018-09-17 17:16:27
內(nèi)，清洗液必須與元器件、PCB表面、金屬鍍層、鋁鍍層、標(biāo)簽、字跡等材料兼容，特殊部件需考慮能否經(jīng)受清洗?！ ?b class="flag-6" style="color: red">清洗工藝流程為：入板→化學(xué)預(yù)洗→化學(xué)清洗→化學(xué)隔離→預(yù)漂洗→漂洗→噴淋→風(fēng)切干燥→烘干 2
2021-02-05 15:27:50
`請(qǐng)問PCBA設(shè)計(jì)缺陷對(duì)清洗的影響有哪些？`
2020-01-17 16:53:08
很多，如絲網(wǎng)印刷圖形轉(zhuǎn)移工藝、干膜圖形轉(zhuǎn)移工藝、液態(tài)光致抗蝕劑圖形轉(zhuǎn)移工藝、電沉積光致抗蝕劑(ED膜)制作工藝以及激光直接成像技術(shù)當(dāng)今能取而代之干膜圖形轉(zhuǎn)移工藝的首推液態(tài)光致抗蝕劑圖形轉(zhuǎn)移工藝，該工藝
2019-06-12 10:40:14
。光線穿過薄膜的透明部分，使下面的銅上的光致抗蝕劑硬化。繪圖儀的黑色墨水可防止光線到達(dá)不希望硬化的區(qū)域，因此將其清除?！ “鍦?zhǔn)備好后，用堿性溶液洗滌，以除去任何未硬化的光致抗蝕劑。最后的壓力清洗將去
2023-04-21 15:55:18
包裝→成品出廠。 貫通孔金屬化法制造多層板工藝流程→內(nèi)層覆銅板雙面開料→刷洗→鉆定位孔→貼光致抗蝕干膜或涂覆光致抗蝕劑→曝光→顯影→蝕刻與去膜→內(nèi)層粗化、去氧化→內(nèi)層檢查→（外層單面覆銅板線路制作
2018-11-26 10:56:40
水清洗技術(shù)是今后清洗技術(shù)的發(fā)展方向，須設(shè)置純凈水源和排放水處理車間。它以水作為清洗介質(zhì)，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑?？梢猿ニ軇┖头菢O性污染物。其清洗
2018-09-14 16:39:40
表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑?？梢猿ニ軇┖头菢O性污染物。其清洗工藝特點(diǎn)是： ?。?） 安全性好，不燃燒、不爆炸，基本無毒； ?。?） 清洗劑的配方組成自由度大，對(duì)極性
2018-09-13 15:47:25
`電路板廠家生產(chǎn)高密度多層板要用到等離子體切割機(jī)蝕孔及等離子體清洗機(jī).大致的生產(chǎn)工藝流程圖為:PCB芯板處理→涂覆形成敷層劑→貼壓涂樹脂銅箔→圖形轉(zhuǎn)移成等離子體蝕刻窗口→等離子體切割蝕刻導(dǎo)通孔→化學(xué)
2017-12-18 17:58:30
氨類蝕刻劑的抗蝕鍍層，而不需熱壓焊又要求鍍層光亮的PCB，通常采用光鎳/金鍍層。鎳鍍層厚度一般不低于2.5微米，通常采用4-5微米。PCB低應(yīng)力鎳的淀積層，通常是用改性型的瓦特鎳鍍液和具有降低應(yīng)力
2011-12-22 08:43:52
）蝕刻液PH值太高，堿性水溶干膜與油墨就很容易遭到破壞 ?。?）子液補(bǔ)給系統(tǒng)失控 ?。?）光致抗蝕劑本身的類型不正確，耐堿性能差 解決方法： ?。?）按照工藝規(guī)范確定的值進(jìn)行調(diào)整?！ 。?）檢測(cè)子液
2018-09-19 16:00:15
與硅相比，SiC有哪些優(yōu)勢(shì)？SiC器件與硅器件相比有哪些優(yōu)越的性能？碳化硅器件的缺點(diǎn)有哪些？
2021-07-12 08:07:35
表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑?？梢猿ニ軇┖头菢O性污染物。其清洗工藝特點(diǎn)是： 1） 安全性好，不燃燒、不爆炸，基本無毒； 2） 清洗劑的配方組成自由度大，對(duì)極性與非
2012-07-23 20:41:56
制造技術(shù)中，無論是采用干膜光致抗蝕劑（簡稱干膜）或液態(tài)光致抗蝕劑（科稱濕膜）工藝，都離不開照相底片；現(xiàn)行的傳統(tǒng)的印制電路照相制版及光成象工藝對(duì)印制電路板（簡稱PCB）的質(zhì)量有何影響，如何克服現(xiàn)行工藝中
2008-06-17 10:07:17
小于或等于250℃，參與大氣光化學(xué)反應(yīng)的有機(jī)化合物，或根據(jù)有關(guān)規(guī)定確定的有機(jī)化合物。清洗劑分類根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)，清洗劑分為以下三種：①水基清洗劑：以水、表面活性劑及助劑等成分組成的清洗劑。②半水基清洗劑：以水
2021-05-25 15:03:54
/ODM生產(chǎn)制造商，專注于光通信無源基礎(chǔ)光器件研發(fā)、制造、銷售與服務(wù)于一體。公司主要生產(chǎn)和銷售光纖連接器（數(shù)據(jù)中心高密度光連接產(chǎn)品），WDM波分復(fù)用器，PLC光分路器，MEMS光開關(guān)等核心光無源基礎(chǔ)器件，廣泛應(yīng)用于光纖到戶、4G/5G移動(dòng)通信、互聯(lián)網(wǎng)數(shù)據(jù)中心、國防通信等領(lǐng)域。`
2020-04-13 16:09:51
什么是SFP光模塊？SFP光模塊由哪些器件構(gòu)成？SFP光模塊有哪些分類？
2021-05-17 06:09:51
曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、針孔密度低和無毒性等優(yōu)點(diǎn)，適合于高集成度器件的生產(chǎn)。②負(fù)性光致抗蝕劑：受光照部分產(chǎn)生交鏈反應(yīng)而成為不溶物，非曝光部分
2012-01-12 10:51:59
，器件的電路性能受阻。 ④ 駐波效應(yīng)。駐波效應(yīng)是抗蝕劑在曝光過程中的寄生現(xiàn)象。光刻膠在曝光過程中由于其折射率和基體材料折射率不匹配，在基體表面產(chǎn)生的反射光和入射光相互干涉而形成駐波。光強(qiáng)的駐波分布使
2018-08-23 11:56:31
光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被
2019-11-07 09:00:18
光子學(xué)是什么？納米光子學(xué)又是什么？光子器件與電子器件的性能有哪些不同？
2021-08-31 06:37:56
后明顯的側(cè)蝕，但整面銅箔的剝離強(qiáng)度會(huì)很差。2、 銅箔與樹脂的適應(yīng)性不良：現(xiàn)在使用的某些特殊性能的層壓板，如HTg板料，因樹脂體系不一樣，所使用固化劑一般是PN樹脂，樹脂分子鏈結(jié)構(gòu)簡單，固化時(shí)交聯(lián)程度
2017-11-28 10:20:55
與樹脂的適應(yīng)性不良：現(xiàn)在使用的某些特殊性能的層壓板，如HTg板料，因樹脂體系不一樣，所使用固化劑一般是PN樹脂，樹脂分子鏈結(jié)構(gòu)簡單，固化時(shí)交聯(lián)程度較低，勢(shì)必要使用特殊峰值的銅箔與其匹配。當(dāng)生產(chǎn)層壓板時(shí)使用銅箔與該樹脂體系不匹配，造成板料覆金屬箔剝離強(qiáng)度不夠，插件時(shí)也會(huì)出現(xiàn)銅線脫落不良。
2011-11-25 14:55:25
制冷劑有R12. R22. R134a. R152a. R600a. h-01. RH. H. R404. R401. R152a和R22混合制冷劑.常用制冷劑有R12. R22. R134a.
2011-01-14 10:41:32
蘇州晶淼專業(yè)生產(chǎn)半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)清洗腐蝕設(shè)備，可根據(jù)要求定制濕法腐蝕設(shè)備。晶淼半導(dǎo)體為國內(nèi)專業(yè)微電子、半導(dǎo)體行業(yè)腐蝕清洗設(shè)備供應(yīng)商，歡迎來電咨詢。電話：***，13771786452王經(jīng)理
2016-09-05 10:40:27
設(shè)備；硅片腐蝕臺(tái);濕臺(tái);全自動(dòng)RCA清洗設(shè)備;外延鐘罩清洗機(jī)（專利技術(shù)）；硅片電鍍臺(tái)；硅片清洗機(jī)；石英管清洗機(jī)；LED清洗腐蝕設(shè)備等。光伏太陽能：全自動(dòng)多晶硅塊料腐蝕設(shè)備；多晶硅硅芯硅棒腐蝕清洗
2011-04-13 13:23:10
。 ◎感光性 感光性包括感光速度、曝光時(shí)間寬容度和深度曝光性等。 感光速度是指光致抗蝕劑在紫外光照射下，光聚合單體產(chǎn)生聚合反應(yīng)形成具有一定抗蝕、 能力的聚合物所需光能量的多少。在光源強(qiáng)度及燈距固定的情況下
2010-03-09 16:12:32
及鋼的蝕刻劑。它適用于絲網(wǎng)漏印油墨、液體光致抗蝕劑和鍍金印制電路版電路圖形的蝕刻。用三氯化鐵為蝕刻劑的蝕刻工藝流程如下： 預(yù)蝕刻檢查→蝕刻→水洗→浸酸處理→水洗→干燥→去抗蝕層→熱水洗→水沖洗
2023-04-20 15:25:28
→檢驗(yàn)包裝→成品出廠?！ ∝炌捉饘倩ㄖ圃於鄬影骞に嚵鞒獭鷥?nèi)層覆銅板雙面開料→刷洗→鉆定位孔→貼光致抗蝕干膜或涂覆光致抗蝕劑→曝光→顯影→蝕刻與去膜→內(nèi)層粗化、去氧化→內(nèi)層檢查→（外層單面覆銅板線路
2018-09-13 16:13:34
時(shí)一般都不使用干膜，而使用液態(tài)光致抗蝕劑。涂布條件不同，涂布的厚度會(huì)有 所變化，如果涂布厚度5～15μm的液態(tài)光致抗蝕劑于5μm厚的銅箔上，實(shí)驗(yàn)室的水平能夠蝕刻1Oμm以下的線寬。 液態(tài)光致抗蝕劑，涂布
2019-01-14 03:42:28
孔雙面柔性印制板的通用制造工藝流程： 開料一鉆導(dǎo)通孔一孔金屬化一銅箔表面的清洗一抗蝕劑的涂布一導(dǎo)電圖形的形成一蝕刻、抗蝕劑的剝離一覆蓋膜的加工一端子表面電鍍一外形和孔加工一增強(qiáng)板的加工一檢查一包裝。`
2011-02-24 09:23:21
光致抗蝕劑，涂布之后必須進(jìn)行干燥和烘焙，由于這一熱處理會(huì)對(duì)抗蝕膜性能產(chǎn)生很大影響，所以必須嚴(yán)格控制干燥條件。`
2016-08-31 18:35:38
，一種是光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移。網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移比光 化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移成本低，在生產(chǎn)批量大的情況下更是如此，但是網(wǎng)印抗蝕印料通常只能制造大于 或等于o．25mm的印制導(dǎo)線，而光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移所用的光致抗蝕劑朗制造分辨率
2010-03-09 16:22:39
20%以上、細(xì)小管徑的熱交換器(列管直徑在12毫米以下)。 中央空調(diào)清洗過程一 殺菌：通過向循環(huán)系統(tǒng)加入殺菌藥劑，清除循環(huán)水中的各種細(xì)菌和藻類?！ ≈醒肟照{(diào)清洗二：加入剝離劑，將管道內(nèi)的生物粘泥剝離
2010-12-21 16:22:40
`工業(yè)相機(jī)是一種非常精密的產(chǎn)品，相比一般用相機(jī)，其造價(jià)要昂貴許多。同樣的，工業(yè)相機(jī)使用久了也會(huì)出現(xiàn)臟污灰塵，對(duì)相機(jī)的性能和壽命都會(huì)有所影響。因此，就需要定期對(duì)相機(jī)進(jìn)行清洗和保養(yǎng),以延長相機(jī)的使用壽命
2015-10-22 14:14:47
如何提高VMMK器件的性能？
2021-05-21 06:35:39
請(qǐng)問一下，有沒有抗輻射的瓷片電容？？或者在輻射環(huán)境下相對(duì)而言比較能夠抗輻射的，，，，，我們現(xiàn)在正準(zhǔn)備做一種能夠在輻射環(huán)境下使用的MSP430.。。。
2015-02-02 09:35:21
原 因解決辦法 1）干膜性能不良，超過有效期使用。 盡量在有效內(nèi)便用干膜。 2）基板清洗不干凈或粗化表面不良,干膜粘附不牢。 加強(qiáng)板面處理?！ ?）曝光過頭抗蝕劑發(fā)脆。 用光密度尺校正曝光量或
2018-11-22 16:06:32
使用。 盡量在有效內(nèi)便用干膜?！ ?）基板清洗不干凈或粗化表面不良,干膜粘附不牢。 加強(qiáng)板面處理。 4）曝光過頭抗蝕劑發(fā)脆。 用光密度尺校正曝光量或曝光時(shí)間。 5）曝光不足或顯影過頭造成抗蝕劑發(fā)毛，過
2013-11-06 11:13:52
，因?yàn)檩椛鋾?huì)使器件的性能參數(shù)發(fā)生退化，以至失效，從而影響衛(wèi)星的可靠運(yùn)行，縮短衛(wèi)星的使用壽命。輻射效應(yīng)對(duì)電子器件的影響很多，其中最主要的有總劑量效應(yīng)(TID)和單粒子效應(yīng)(S-EE)。SEE按產(chǎn)生的影響主要
2019-08-22 07:09:17
光傳感器及放大電路的現(xiàn)狀和特點(diǎn) 光傳感器放大電路設(shè)計(jì)研究一種實(shí)用的高性能光傳感器放大電路光傳感器放大電路的改進(jìn)
2021-03-08 08:11:15
情況可加大鼓氣，將液面泡沫及時(shí)清理干凈即可，棉芯應(yīng)用酸堿浸泡后，板面顏色發(fā)白或色澤不均：主要是光劑或維護(hù)問題，有時(shí)還可能是酸性除油后清洗問題，微蝕問題?！ °~缸光劑失調(diào)，有機(jī)污染嚴(yán)重，槽液溫度過高都可
2018-04-19 10:10:23
、分層封裝測(cè)試其中，刻蝕是CPU制作中的重要操作。波長很短的紫外光配合很大的鏡頭。短波長的光將透過這些遮罩的孔照在光敏抗蝕膜上，使之曝光。然后停止光照并移除遮罩，使用特定的化學(xué)溶液清洗被曝光的光敏抗蝕膜
2017-10-09 19:41:52
的問題(鉆孔涂污)可能造成產(chǎn)量的減少，換言之，就是增加了單位成本。如果這些問題不被控制，則可能導(dǎo)致鍍通孔故障。 大部分剛?cè)嵝韵到y(tǒng)使用丙烯酸粘結(jié)劑制造。基于此，大多數(shù)回蝕或孔清洗過程普遍
2018-09-10 16:50:04
求大佬分享能抗EMI性能的優(yōu)異接地檢測(cè)比較器
2021-06-16 07:37:27
求推薦 led芯片通過光蝕刻形成通孔和采用剝離工藝形成具有布線圖案的電極的相關(guān)書籍
2019-04-15 23:38:47
，避免了由于沉淀和結(jié)塊而產(chǎn)生的微粒增長，形成高密度的銀層。這種結(jié)構(gòu)緊密，厚度適中(6-12u”)的銀層不僅具有高的抗蝕性能，同時(shí)也具有非常良好的導(dǎo)電性能。沉銀液非常穩(wěn)定，有很長的使用周期,對(duì)光和微量鹵化物不敏感。AlphaSTAR的其他優(yōu)點(diǎn)如:大大縮短了停工期，低離子污染以及設(shè)備成本低。
2019-10-08 16:47:46
的電著光阻、干膜、油墨之圖案，或錫鉛鍍層等皆為抗蝕阻劑。 15、Hard Anodizing 硬陽極化 也稱為"硬陽極處理"，是指將純鋁或某些鋁合金，置于低溫陽極處理液之中(硫酸
2018-08-29 16:29:01
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí)，激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢(shì)更明顯，不用與材料接觸，就能進(jìn)行光蝕，因此更可靠，不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料（軟基，硬基均可）汪先生 ***
2016-06-27 13:25:29
TMM、Duorid和PTFE。在加工柔性基材和敏感基材時(shí)，激光直接成型技術(shù)優(yōu)勢(shì)更明顯，不用與材料接觸，就能進(jìn)行光蝕，因此更可靠，不會(huì)對(duì)基材產(chǎn)生損害。激光直接大面積剝離銅層不傷基底材料（軟基，硬基均可）汪先生 ***
2016-06-27 13:26:43
對(duì)CMOS SRAM抗單粒子翻轉(zhuǎn)性能的影響及原因。研究表明:隨著特征尺寸的減小,SRAM單元單粒子翻轉(zhuǎn)的臨界電荷減小,電荷收集效率由于寄生雙極晶體管效應(yīng)而增加,造成LETth隨特征尺寸縮小而迅速減小,CMOS
2010-04-22 11:50:00
電子元器件抗ESD技術(shù)講義
2012-08-17 15:16:23
有沒有誰知道抗輻射的電子元器件啊，主要是能夠代替瓷片電容的，，還有電阻，要用在msp430上，不勝感激~~~~
2015-02-02 09:46:22
`請(qǐng)問電解銅箔底蝕的原因是什么？`
2020-01-08 15:27:15
目前來說，電路板新一代清洗技術(shù)主要有以下四種： 1、半水清洗技術(shù) 半水清洗主要采用有機(jī)溶劑和去離子水，再加上一定量的活性劑、添加劑所組成的清洗劑。該類清洗介于溶劑清洗和水清洗之間。這些清洗劑都
2018-09-13 15:50:54
主要介紹了等離子清洗的原理、等離子清洗的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)以及等離子清洗在生產(chǎn)中的實(shí)際應(yīng)用效果。【關(guān)鍵詞】：等離子;;清洗;;應(yīng)用【DOI】：CNKI:SUN:JDYG.0.2010-01-006【正文快照
2010-06-02 10:07:40
銅、去除抗蝕劑。 ——半加成法：鉆孔、催化處理和增粘處理、化學(xué)鍍銅、成像（電鍍抗蝕劑）、圖形電鍍銅（負(fù)相）、去除抗蝕劑、差分蝕刻。 ——部分加成法：成像（抗蝕刻）、蝕刻銅（正相）、去除抗蝕層、全板涂覆電
2009-06-19 21:23:26
1斯1艾1姆1科1技全國1首家P|CB樣板打板 5． 印制電路制造的加成法工藝分為幾類？分別寫出其流程？ --全加成法：鉆孔、成像、增粘處理（負(fù)相）、化學(xué)鍍銅、去除抗蝕劑?！ ?-半加成法：鉆孔
2013-10-21 11:12:48
（負(fù)相）、化學(xué)鍍銅、去除抗蝕劑?！ ?-半加成法：鉆孔、催化處理和增粘處理、化學(xué)鍍銅、成像（電鍍抗蝕劑）、圖形電鍍銅（負(fù)相）、去除抗蝕劑、差分蝕刻?！ ?-部分加成法：成像（抗蝕刻）、蝕刻銅（正相
2018-09-07 16:33:49
的影響，甚至使其失效。針對(duì)各種輻射效應(yīng)，在器件的材料、電路設(shè)計(jì)、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、工藝制造及封裝等各個(gè)環(huán)節(jié)采取加固措施，使其具有一定的抗輻射性能。選擇抗輻射加固的器件應(yīng)用在空間輻射環(huán)境中，將能提高航天器
2019-07-02 07:10:06
TEL：***（微信同號(hào)）我公司研發(fā)的抗干擾防護(hù)劑——氟碳石墨烯防護(hù)劑，主要是在電路板上噴涂，得益于膠層含有大量的F-C鍵和SP雜化網(wǎng)結(jié)構(gòu)，膠層表面實(shí)現(xiàn)超強(qiáng)的化學(xué)穩(wěn)定性。主要性能：1、屏蔽吸收電磁波
2019-08-31 21:47:19
各位大神好小弟最近做了一款光幕,但是抗陽光干擾的效果太差了,請(qǐng)問壇子里做過光柵光幕的大神,在程序和電路上如何改進(jìn),可以增加光幕對(duì)陽光的抗干擾性能,不勝感激!!!
2019-05-24 23:10:36
之前，多次的焊接過程可能引起聚合作用。這些殘留更加難于清理，并且因?yàn)榫酆献饔眯纬筛叻肿又亓康奈镔|(zhì)，使污染物更難于去除，影響PCBA的電氣性能。使用PCB清洗劑來清洗和沖刷元件和裝配，去除焊錫膏，及助焊劑
2012-10-30 14:49:40
的清洗效果也非常均勻一致。超聲波清洗可根據(jù)不同的溶劑達(dá)到不同的效果，如 ：除油、除銹或磷化，配合清洗劑的使用，加速污染物的分離和溶解，可有效防止清洗液對(duì)工件的腐蝕。 2）、 清洗成本低 在所有清洗
2009-06-18 08:55:02
特殊性能的層壓板，如HTG板料，因樹脂體系不一樣，所使用固化劑一般是PN樹脂，樹脂分子鏈結(jié)構(gòu)簡單，固化時(shí)交聯(lián)程度較低，勢(shì)必要使用特殊峰值的銅箔與其匹配。當(dāng)生產(chǎn)層壓板時(shí)使用的銅箔與該樹脂體系不匹配，造成板料覆金屬箔剝離強(qiáng)度不夠，插件時(shí)也會(huì)出現(xiàn)銅線脫落不良。
2022-08-11 09:05:56
產(chǎn)電池過程中形成漿狀，以利于涂布。作為鋰離子電池的黏結(jié)劑，應(yīng)具有以下性能。①良好的耐熱性 在干燥和除水過程中，加熱溫度最高可以達(dá)到200℃，黏結(jié)劑必須能夠耐受這樣高的溫度。②耐溶劑性 鋰離子電池電解液
2013-05-16 10:35:02
食品級(jí)潤滑劑除了前述通用類型外，目前國際上發(fā)展比較快，性能優(yōu)良，應(yīng)用范圍日益廣泛的品種就是合成型的食品級(jí)潤滑劑了，它們的品質(zhì)和性能普遍比相同用途的深度精制礦物型潤滑劑高許多，在高溫、低溫領(lǐng)域，抗氧化
2018-04-16 17:32:45
用于晶圓制造過程中的封裝過程，因?yàn)椴捎脽o機(jī)堿性藥液，因此具有高濃度的化學(xué)物質(zhì)，存在粘度高、速度慢的問題。采用表面活性劑加入清洗堿液中，從而達(dá)到低粘度化，改善 潤濕性，效率提高。
2022-05-26 15:15:26
一、產(chǎn)品名稱：混凝土抗裂劑固含量快速測(cè)定儀二、發(fā)明專*號(hào)：201420090168.1三、產(chǎn)品型號(hào)：CSY-G2 四、固含量快速測(cè)定儀產(chǎn)品介紹：在外加劑固含量檢測(cè)領(lǐng)域，測(cè)量準(zhǔn)確性和測(cè)量速度
2022-05-27 16:48:30
PFA清洗槽一、產(chǎn)品介紹PFA清洗槽又叫PFA方槽、酸缸。是即四氟清洗桶后的升級(jí)款，專為半導(dǎo)體光伏光電等行業(yè)設(shè)計(jì)的，一體成型。主要用于浸泡、清洗帶芯片硅片電池片的花籃。由于PFA的特點(diǎn)抗清洗溶液
2022-09-01 13:25:23
手持激光清洗機(jī) 金屬除銹除漆除氧化層 工業(yè)級(jí)激光清洗機(jī)工作原理 所謂激光清洗是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、銹斑或涂層發(fā)生瞬間蒸發(fā)或剝離，高速有效地清除清潔對(duì)象
2023-07-03 10:58:40
簡介：蘇州鐳拓激光科技有限公司智能化一站式激光設(shè)備供應(yīng)商，多款手持式激光清洗機(jī)除銹劑可供選擇，咨詢1000W手持式激光除銹機(jī)多少錢，歡迎聯(lián)系蘇州鐳拓激光！產(chǎn)品描述：品名：手持激光清洗
2023-07-06 16:28:28
、墨層牢固度檢測(cè)裝置（如粘合劑或溶劑）等材料。將樣品表面清洗干凈，晾干后放置在圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)的工作臺(tái)上。 根據(jù)墨層的性質(zhì)和測(cè)試要求，設(shè)置圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)的測(cè)
2023-09-18 10:00:29
鋁箔剝離強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī) 90度剝離強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī)是一款用于測(cè)試材料90度剝離性能的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，適用于膏藥貼劑、軟包裝等產(chǎn)品的性能測(cè)試。該設(shè)備采用高精度的力值傳感器和可靠的傳動(dòng)系統(tǒng)，可以在一定速度下
2023-09-20 15:25:12
在制藥領(lǐng)域，注射劑的一致性密封質(zhì)量對(duì)于產(chǎn)品的安全性和質(zhì)量至關(guān)重要。為確保注射劑的密封性能符合預(yù)期，采用專業(yè)的注射劑一致性密封驗(yàn)證儀器進(jìn)行檢測(cè)是必不可少的。注射劑一致性密封驗(yàn)證儀器主要通過模擬實(shí)際使用過程中注射劑
2023-10-13 13:41:44
激光清洗機(jī) 激光除銹 除油 激光清洗設(shè)備基本介紹 所謂激光清洗技術(shù)是指利用高能激光束照射工件表面，使表面的污物、銹斑或涂層發(fā)生瞬間蒸發(fā)或剝離，高速有效地清除清潔對(duì)象表面附著物或表面涂層
2023-12-06 10:58:54
雜質(zhì)玷污對(duì)器件性能的影響
硅片表面雜質(zhì)玷污的來源
有機(jī)溶劑的去污作用
堿在化學(xué)清洗中的作用
。。。。。。
。。。。。。
2010-08-20 16:23:59
47 摘要：概述了激光清洗的機(jī)理和優(yōu)點(diǎn)，介紹了激光在脫漆、除銹、除表面污染物、去油污、除膠粘劑殘留物５個(gè)方面的初步應(yīng)用研究成果。關(guān)鍵詞：激光清洗 光剝離 光分解
2010-11-30 13:41:3225 激光，具有單色性、方向性好、亮度高等特點(diǎn)。在工業(yè)領(lǐng)域中，用激光作為能量源的常見應(yīng)用有：激光切割、激光焊接、激光打標(biāo)、激光清洗等技術(shù)。其中，激光清洗技術(shù)是利用激光能量使材料表面的涂層或污物發(fā)生加熱、氣化、燒蝕、剝離從而實(shí)現(xiàn)清洗的一種新型綠色清洗技術(shù)。
2022-03-14 11:55:59
705 本文一般涉及處理光掩模的領(lǐng)域，具體涉及用于從光掩模上剝離光致抗蝕劑和/或清洗集成電路制造中使用的光掩模的設(shè)備和方法。
2022-04-01 14:26:37610 
·剝離試驗(yàn)機(jī)，是一種材料力學(xué)性能測(cè)量與試驗(yàn)的設(shè)備，能對(duì)各種膠粘材料及制品進(jìn)行剝離、拉伸等項(xiàng)目的檢測(cè)、環(huán)形初粘性的檢測(cè)。
2022-08-11 11:34:192124 
作為一種為力學(xué)性能測(cè)量與試驗(yàn)的設(shè)備，剝離試驗(yàn)機(jī)能對(duì)各種膠黏材料以及相關(guān)膠黏制品進(jìn)行剝離、拉伸等項(xiàng)目的檢測(cè)、環(huán)形初粘性的檢測(cè)。
2022-08-30 08:51:251753 
超聲波清洗機(jī)的應(yīng)用越來越廣泛；在購買超聲波清洗設(shè)備前首先需要明確超聲波清洗機(jī)之所以能達(dá)到洗凈的目的是依靠超聲波的物理空化作用和超聲波清洗劑的化學(xué)分解剝離作用，其兩者作用結(jié)合達(dá)到洗凈的目的，所以
2023-02-09 22:32:061809 
電子剝離試驗(yàn)機(jī)適用于膠黏劑、膠粘帶、不干膠、復(fù)合膜、人造革、編織袋、薄膜、紙張、電子載帶等相關(guān)產(chǎn)品的剝離、剪切、拉斷等性能測(cè)試。電子剝離試驗(yàn)機(jī)有立式和臥式兩種結(jié)構(gòu)，顯示方面又可分為LCD數(shù)顯和電腦顯示兩種。
2023-04-19 10:25:42420 
激光清洗不僅可用于清洗有機(jī)污染物質(zhì)，還可以用來清洗無機(jī)化合物。激光清洗的原理是利用激光束的高能量密度，使污垢或涂層等物質(zhì)發(fā)生蒸發(fā)或剝離，從而清洗表面。這個(gè)過程并不依賴于物質(zhì)的化學(xué)性質(zhì)，因此激光清洗
2023-05-08 17:11:07571 
清洗工藝先要評(píng)估PCBA組件,包含尺寸大小結(jié)構(gòu)特征、基本功能、電子元器件等部件材料、零部件特別要求及清洗設(shè)備與清洗要求的兼容性。幾何尺寸與結(jié)構(gòu)會(huì)影響清洗空間,從而影響助焊劑殘余物清洗難度;體積小
2023-06-06 14:58:57906 
鉛免清洗錫膏是一種新型的錫膏。這種錫膏是一種無鉛、免清洗、低鹵焊膏和低鹵焊膏。采用特定回焊爐溫度曲線工藝窗口的設(shè)計(jì)，使相關(guān)無鉛釬焊問題殘留無色。適用于高溫錫膏溫度曲線；滿足手印、機(jī)印中速印刷的要求
2023-02-21 14:44:08819 
一、超聲波清洗機(jī)的4大清洗特點(diǎn)
1. 高效性：超聲波清洗機(jī)利用高頻振動(dòng)產(chǎn)生的微小氣泡在物體表面進(jìn)行沖擊和剝離，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)物體表面的高效清洗。相比傳統(tǒng)的手工清洗和機(jī)械清洗，超聲波清洗機(jī)具有更高的清洗
2024-03-04 09:45:59128 
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