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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>壓電納米運(yùn)動(dòng)產(chǎn)品在光刻機(jī)中的應(yīng)用

壓電納米運(yùn)動(dòng)產(chǎn)品在光刻機(jī)中的應(yīng)用

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2024-03-09 00:15:002912

光刻廠落地雄安?中國(guó)電子院否認(rèn)!真相是啥?

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繞開(kāi)EUV光刻,下一代納米壓印光刻技術(shù)從存儲(chǔ)領(lǐng)域開(kāi)始突圍

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2023-07-16 01:50:153008

光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4143

ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級(jí),未來(lái)目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn),德媒 ComputerBase 因此預(yù)測(cè) 3800E 有望支持 3~2
2024-03-14 08:42:346

ATA-4051高壓功率放大器非共振式壓電直線電機(jī)性能測(cè)試的應(yīng)用

  實(shí)驗(yàn)名稱(chēng):ATA-4051高壓功率放大器非共振式壓電直線電機(jī)性能測(cè)試的應(yīng)用   研究方向:壓電驅(qū)動(dòng)   實(shí)驗(yàn)內(nèi)容:基于壓電疊堆驅(qū)動(dòng)的非共振式壓電直線電機(jī)的性能測(cè)試,壓電直線電機(jī)結(jié)構(gòu)使用二級(jí)
2024-03-08 17:38:14

光刻機(jī)巨頭ASML要搬離荷蘭?

據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日?qǐng)?bào)道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)正計(jì)劃搬離荷蘭。
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近日,光刻機(jī)巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國(guó)的消息,這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉,荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故,已專(zhuān)門(mén)成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計(jì)劃”特別工作組。
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英特爾成為全球首家購(gòu)買(mǎi)3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的廠商

英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購(gòu)買(mǎi)世界上第一臺(tái)高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購(gòu)此類(lèi)光刻機(jī)的晶圓廠,據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
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一文解析半導(dǎo)體設(shè)計(jì)電路的“光刻工藝”

利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。
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安泰ATA-P1005壓電疊堆放大器在納米定位臺(tái)驅(qū)動(dòng)中的應(yīng)用

納米定位臺(tái)是一種高精度的微納米級(jí)定位設(shè)備,主要用于微納米加工、顯微鏡下的樣品定位、納米精度的測(cè)量和調(diào)試等領(lǐng)域。內(nèi)置高性能壓電陶瓷,運(yùn)動(dòng)范圍可達(dá)500μm,具有體積小、無(wú)摩擦、響應(yīng)速度快、高精度位移
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ASML光刻機(jī)技術(shù)的領(lǐng)航者,挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機(jī)技術(shù)和市場(chǎng)地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來(lái)說(shuō)都具有重要意義。
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光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
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電壓放大器壓電噴墨打印單元驅(qū)動(dòng)的應(yīng)用

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壓電疊堆功率放大器直升機(jī)機(jī)身振動(dòng)研究的應(yīng)用

到受控結(jié)構(gòu),通過(guò)數(shù)字信號(hào)處理器作為試驗(yàn)系統(tǒng)的控制器,整合搭建了壓電疊層作動(dòng)器驅(qū)動(dòng)的直升機(jī)機(jī)身多諧波多輸入多輸出振動(dòng)主動(dòng)控制試驗(yàn)系統(tǒng),并且離線測(cè)量了搭建好的試驗(yàn)系統(tǒng)的控制通道傳遞函數(shù)。   試驗(yàn)系統(tǒng)
2024-02-27 17:12:00

XD605.X90一維大負(fù)載電容傳感壓電納米定位臺(tái)及配套電容閉環(huán)控制器

新年伊始,萬(wàn)象更新。芯明天持續(xù)深挖行業(yè)需求,攻克技術(shù)壁壘,推陳出新,為客戶(hù)解決一個(gè)又一個(gè)精密定位技術(shù)的難題。 本次為大家介紹一款一維大負(fù)載電容傳感壓電納米定位臺(tái)-XD605.X90。產(chǎn)品外觀如下
2024-02-22 11:54:12103

佳能預(yù)計(jì)到2024年出貨納米壓印光刻機(jī)

來(lái)源:DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計(jì)其納米壓印光刻機(jī)將于今年出貨,與ASML的EVU設(shè)備競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng),因?yàn)槭澜绺鞯氐慕?jīng)濟(jì)體都熱衷于擴(kuò)大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270

光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359

ASML 2023年Q4 財(cái)報(bào)發(fā)布,光刻機(jī)訂單大增

來(lái)源:AIot工業(yè)檢測(cè),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長(zhǎng),芯片制造商正加大采購(gòu)晶圓廠設(shè)備的力度,以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機(jī)制造商,ASML受益于這一趨勢(shì),其2023
2024-01-26 09:20:12409

狂加工一年!ASML把欠中國(guó)的600億光刻機(jī),成功交付了

關(guān)于光刻機(jī),大家還記得美國(guó)荷蘭日本的三方協(xié)議嗎?來(lái)回憶一下。 隨著芯片在各個(gè)領(lǐng)域的重要性不斷提升,人們對(duì)芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜,不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計(jì),還需要通過(guò)
2024-01-17 17:56:59292

自供電氣體傳感器未來(lái)發(fā)展機(jī)遇與挑戰(zhàn)

在自供電氣體傳感器中,最普遍使用的能量采集器包括摩擦電納米發(fā)電機(jī)(TENG)、壓電納米發(fā)電機(jī)(PENG)、熱電發(fā)電機(jī)(TEG)和太陽(yáng)能電池。
2024-01-08 09:26:20184

荷蘭政府撤銷(xiāo)ASML光刻機(jī)出口許可 中方回應(yīng)美停止對(duì)華供光刻機(jī)

在10-11月份中國(guó)進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后,美國(guó)官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示,出口許可證是根據(jù)荷蘭國(guó)家安全逐案評(píng)估的。
2024-01-03 15:22:24553

今日看點(diǎn)丨ASML聲明:2050及2100光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷(xiāo);小鵬 X9 純電 MPV 上市:售價(jià) 35.98 萬(wàn)元起

1. ASML 聲明:2050 及2100 光刻機(jī)出口許可證已被部分撤銷(xiāo) ? ASML日前發(fā)表聲明,稱(chēng)荷蘭政府最近部分撤銷(xiāo)了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機(jī)在2023
2024-01-02 11:20:33934

英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷(xiāo)售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406

全面解析***結(jié)構(gòu)及工作原理

光刻光刻機(jī) ?對(duì)準(zhǔn)和曝光在光刻機(jī)(Lithography Tool)內(nèi)進(jìn)行。 ?其它工藝在涂膠顯影機(jī)(Track)上進(jìn)行。 光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理 ?光刻機(jī)簡(jiǎn)介 ?光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及工作原理
2023-12-19 09:28:00245

芯明天P12A壓電納米掃描臺(tái)在飛秒激光刻蝕中的應(yīng)用

利用電子學(xué)方法所獲得的最短脈沖要短幾千倍。飛秒激光技術(shù)是近年來(lái)發(fā)展迅速的一種先進(jìn)加工技術(shù),具有極高的加工精度和速度,可以在各種材料表面進(jìn)行微米至納米級(jí)別的刻蝕和加工。
2023-12-14 11:01:12227

光刻各環(huán)節(jié)對(duì)應(yīng)的不同模型種類(lèi)

光學(xué)模型是基于霍普金斯(Hopkins)光學(xué)成像理論,預(yù)先計(jì)算出透射相交系數(shù)(TCCs),從而描述光刻機(jī)的光學(xué)成像。光學(xué)模型中,經(jīng)過(guò)優(yōu)化的光源,通過(guò)光刻機(jī)的照明系統(tǒng),照射在掩模上。如果在實(shí)際光刻
2023-12-11 11:35:32288

Z向運(yùn)動(dòng)大承載壓電掃描臺(tái) - P70.Z200系列

納米級(jí)精度的Z向升降運(yùn)動(dòng),行程可達(dá)到200μm,承載可達(dá)500g。其內(nèi)置傳感器通過(guò)全橋方式連接,無(wú)漂移,可以實(shí)現(xiàn)在納米范圍內(nèi)精確定位,閉環(huán)分辨率6nm,重復(fù)定位精度達(dá)0.02%F.S.。產(chǎn)品在顯微成像、光學(xué)檢測(cè)、生物科技、圖像處理等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用
2023-12-07 14:42:51348

基于液-固摩擦電納米發(fā)電機(jī)的微流控芯片,用于微液滴參數(shù)的無(wú)創(chuàng)自動(dòng)力監(jiān)測(cè)

本研究提出了一種基于液-固摩擦電納米發(fā)電機(jī)的微液滴監(jiān)測(cè)方法算法,它可以實(shí)現(xiàn)對(duì)微液滴參數(shù)的無(wú)創(chuàng)和自動(dòng)力監(jiān)測(cè)??梢酝ㄟ^(guò)電信號(hào)的脈沖頻率和t得到微液滴的頻率、長(zhǎng)度和速度。
2023-12-05 15:23:38312

半導(dǎo)體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241335

可繞過(guò)EUV量產(chǎn)5nm!佳能CEO:納米壓印設(shè)備無(wú)法賣(mài)到中國(guó)!

雖然目前在光刻機(jī)市場(chǎng),還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商,但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場(chǎng)份額僅有10%左右,ASML一家占據(jù)了90%的市場(chǎng)份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機(jī)的供應(yīng)。
2023-11-23 16:14:45485

中國(guó)半導(dǎo)體制造設(shè)備進(jìn)口額大漲93%:來(lái)自荷蘭進(jìn)口額暴漲超6倍

就國(guó)別來(lái)看,來(lái)自荷蘭的進(jìn)口額暴漲了超過(guò)6倍。預(yù)估其中大部分為荷蘭光刻機(jī)龍頭艾ASML的光刻機(jī)產(chǎn)品。來(lái)自日本的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口額成長(zhǎng)約40%、來(lái)自美國(guó)的進(jìn)口額則僅增長(zhǎng)20%。
2023-11-22 17:09:02419

禁運(yùn)不斷加碼,ASML***中國(guó)銷(xiāo)量卻在飆升

光刻是芯片制造的重要環(huán)節(jié)。以光源波長(zhǎng)劃分,光刻機(jī)分為UV(紫外線)、DUV(深紫外線)、EUV(極紫外線),理論上7納米及以下的先進(jìn)芯片制程工藝只能通過(guò)EUV實(shí)現(xiàn)。
2023-11-12 11:33:14627

納米探針式輪廓儀

圖儀器SJ5730系列納米探針式輪廓儀采用超高精度納米衍射光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)、超高直線度研磨級(jí)摩擦導(dǎo)軌、高性能直流伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、高性能計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)技術(shù),分辨率高達(dá)0.1nm,系統(tǒng)殘差小于3nm
2023-11-09 09:14:22

顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招!

顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日,日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來(lái),或?qū)⑻娲鶤SML光刻機(jī) 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道,半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟(jì)的核心,在中國(guó)
2023-11-08 15:57:14200

俄羅斯:2024年將制造350nm***,2026年生產(chǎn)130nm***

目前,俄羅斯雖然擁有利用外國(guó)制造設(shè)備的65納米技術(shù),但不能生產(chǎn)光刻機(jī)。在現(xiàn)代光刻設(shè)備的情況下,外國(guó)企業(yè)被禁止出口之后,俄羅斯正在忙于自身的生產(chǎn)設(shè)備開(kāi)發(fā)。
2023-11-06 11:38:55473

石器時(shí)代?俄計(jì)劃生產(chǎn)350納米***

在國(guó)際制裁的陰影下,俄羅斯正邁向自主研發(fā)生產(chǎn)芯片的新時(shí)代,接下來(lái),俄羅斯計(jì)劃采用土法煉鋼研發(fā)生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)。俄羅斯工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)Vasily Shpak宣布,支持350納米制程的光刻機(jī)將于
2023-11-06 11:26:29212

美國(guó)對(duì)ASML出售***的政策變化一覽

2020年時(shí),ASML總裁還聲稱(chēng)中國(guó)即使拿到設(shè)計(jì)圖紙也無(wú)法自制光刻機(jī)。但2021年開(kāi)始,其態(tài)度出現(xiàn)變化,承認(rèn)中國(guó)有可能獨(dú)立制造光刻機(jī)系統(tǒng)。2022年甚至主動(dòng)表示要繼續(xù)向中國(guó)出售光刻機(jī)。2023年上半年,ASML開(kāi)始大量向中國(guó)傾銷(xiāo)光刻機(jī)。
2023-10-30 16:18:101124

各種光刻技術(shù)你都了解嗎?

當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí),DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿(mǎn)足量產(chǎn)需求了,EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了,沒(méi)有它,很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片,即使不用EUV能制造出一些5nm芯片,其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低,無(wú)法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834

因信披問(wèn)題,蘇大維格被證監(jiān)會(huì)立案調(diào)查

但是最近在回復(fù)證監(jiān)會(huì)問(wèn)候時(shí)蘇大維格回答他是公司從2001年左右,研發(fā)各種光刻設(shè)備,包括激光一直使用光刻機(jī),納米磁設(shè)備等上述設(shè)備主要是麥克風(fēng),光學(xué)儀器和衍射光學(xué)配件制造公司所生產(chǎn)的照片設(shè)備現(xiàn)在集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)提到過(guò)。
2023-10-12 10:41:10520

納米級(jí)測(cè)量?jī)x器:窺探微觀世界的利器

納米科技的迅猛發(fā)展將我們的視野拓展到了微觀世界,而測(cè)量納米級(jí)尺寸的物體和現(xiàn)象則成為了時(shí)下熱門(mén)的研究領(lǐng)域。納米級(jí)測(cè)量?jī)x器作為一種重要的工具,扮演著重要的角色。那么,如何才能準(zhǔn)確測(cè)量納米級(jí)物體呢?
2023-10-11 14:37:46

單片機(jī)的穩(wěn)壓電源怎么設(shè)計(jì)?

單片機(jī)的穩(wěn)壓電源怎么設(shè)計(jì)?求助各位大佬
2023-10-08 08:29:03

使用Arduino矩陣模擬LED的物理運(yùn)動(dòng)

使用Arduino矩陣模擬了LED的物理運(yùn)動(dòng),效果自然又有趣!
2023-09-27 07:18:45

SMT鐳雕機(jī)_自動(dòng)在線激光刻印_全自動(dòng)翻板鐳雕機(jī)

SMT鐳雕機(jī)_自動(dòng)在線激光刻印_全自動(dòng)翻板鐳雕機(jī)PCB在線激光鐳雕機(jī),選用國(guó)際領(lǐng)先工業(yè)級(jí)激光器,加工速度快,使用壽命長(zhǎng), 可刻印漢字,英文、數(shù)字、圖表、流水號(hào)、LOGO、條形碼、二維碼等內(nèi)容
2023-09-23 10:16:45

仔細(xì)剖析一下五種UV***的區(qū)別及應(yīng)用場(chǎng)景

UV光刻機(jī)一般可以分為5種,即:接觸式光刻機(jī),接近式光刻機(jī),掃描投影式光刻機(jī)
2023-09-19 11:32:521305

中國(guó)即將突破ASML***技術(shù)!

早在2015年,中國(guó)的長(zhǎng)春光機(jī)所就成功研發(fā)出了EUV(極紫外光刻光刻機(jī)的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米,達(dá)到了EUV級(jí)光刻機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)。這個(gè)成就在國(guó)際上已經(jīng)堪稱(chēng)頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826

生產(chǎn)2納米的利器!成本高達(dá)3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !

ASML是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商,主導(dǎo)全球光刻機(jī)設(shè)備市場(chǎng),光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟,但高數(shù)值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難,導(dǎo)致延誤。但即便如此,第一批產(chǎn)品仍會(huì)在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713

具有鐵芯的P系列高推力直接驅(qū)動(dòng)直線伺服電機(jī)

平臺(tái)如雙XY橋臺(tái)、雙驅(qū)動(dòng)龍門(mén)臺(tái)、空流平臺(tái)等。這些線性運(yùn)動(dòng)平臺(tái)也將用于光刻機(jī)、面板處理、測(cè)試機(jī)、印刷電路板鉆并機(jī)、高精度激光處理設(shè)備、基因序列儀、腦細(xì)胞成像儀和其他醫(yī)療設(shè)備。 高動(dòng)態(tài)響應(yīng) 低安裝高度 UL與CE認(rèn)證 持續(xù)推力范圍103N至 瞬間推力范圍289N至 安裝高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38

香蕉派BPI-FSM1819D 伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器

香蕉派BPI-FSM8191D伺服電機(jī)控制器是香蕉派開(kāi)源社區(qū)與峰岹科技合作打造的一款工業(yè)級(jí)伺服電機(jī)控制產(chǎn)品。是一款應(yīng)用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)伺服電機(jī),直線伺服電機(jī)以及力矩電機(jī)的伺服模塊,實(shí)際應(yīng)用,由主控板
2023-09-04 09:16:12

EUV光刻:縮小的藝術(shù),制程的新篇章

制程工藝EUV光刻機(jī)
北京中科同志科技股份有限公司發(fā)布于 2023-09-02 09:32:27

浸沒(méi)式光刻,拯救摩爾定律

2000年代初,芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬(ArF)光源光刻技術(shù)過(guò)渡到157納米氟(F 2 )光源光刻技術(shù)。
2023-08-23 10:33:46798

ASML如何能干掉兩個(gè)行業(yè)巨頭,進(jìn)而成為壟斷EUV領(lǐng)域的光刻巨人

光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱(chēng),是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一(一臺(tái)光刻機(jī)有10萬(wàn)個(gè)組件)。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷(中低端產(chǎn)品美國(guó)、日本和中國(guó)均能生產(chǎn)),而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國(guó)控制。
2023-08-21 16:09:33472

一文看懂壓電納米定位臺(tái)的工作原理及應(yīng)用范圍

壓電納米位移臺(tái)的結(jié)構(gòu) 壓電納米定位臺(tái)具有移動(dòng)面,是通過(guò)帶有柔性鉸鏈的機(jī)械結(jié)構(gòu)將壓電陶瓷產(chǎn)生的位移及出力等進(jìn)行輸出,分直驅(qū)與放大兩種結(jié)構(gòu)。以壓電陶瓷作為驅(qū)動(dòng)源,結(jié)合柔性鉸鏈機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)X軸、Z軸、XY
2023-08-02 16:14:422434

EUV光刻DDR5內(nèi)存狂飆 單條1TB不是夢(mèng)

隨著制程工藝的進(jìn)步,DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題,解決辦法就是上EUV光刻機(jī),但是設(shè)備實(shí)在太貴,現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴,DDR5內(nèi)存有望實(shí)現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875

運(yùn)動(dòng)粘度測(cè)試儀

 產(chǎn)品概述運(yùn)動(dòng)粘度儀,符合GB/T265-1988《石油產(chǎn)品運(yùn)動(dòng)粘度測(cè)定法和動(dòng)力粘度計(jì)算法》,適用于測(cè)定液體石油產(chǎn)品(牛頓液體)的運(yùn)動(dòng)粘度,該方法是指在某一恒定溫度下,測(cè)定一定體積的液體
2023-07-31 10:53:29

吉時(shí)利6517A/B的高阻測(cè)試及體電阻率測(cè)試

? ? ? ? ? ? 納米發(fā)電機(jī),是基于規(guī)則的氧化鋅納米線,在納米范圍內(nèi)將機(jī)械能轉(zhuǎn)化成電能,是世界上最小的發(fā)電機(jī)。目前納米發(fā)電機(jī)可以分為三類(lèi): 第一類(lèi)是壓電納米發(fā)電機(jī); 第二類(lèi)是摩擦納米發(fā)電機(jī)
2023-07-27 16:22:18199

ATA-P系列壓電疊堆功率放大器

ATA-P系列壓電疊堆功率放大器ATA-P系列是一款理想的可放大交直流信號(hào)的單通道功率放大器。最大輸出功率可達(dá)1300Wp,可以驅(qū)動(dòng)壓電陶瓷片、疊堆型壓電陶瓷、開(kāi)環(huán)封裝壓電陶瓷以及納米定位工作臺(tái)等壓電
2023-07-27 11:30:501

數(shù)控機(jī)床機(jī)測(cè)量系統(tǒng)

CHOTEST圖儀器PO系列數(shù)控機(jī)床機(jī)測(cè)量系統(tǒng)也就是機(jī)床測(cè)頭,可以用于精密測(cè)量和檢測(cè)應(yīng)用。比如,汽車(chē)零部件加工,可以使用測(cè)頭對(duì)發(fā)動(dòng)機(jī)曲軸箱等關(guān)鍵部位進(jìn)行精密測(cè)量和檢測(cè),以確保其質(zhì)量和可靠性
2023-07-26 13:29:40

EUV***市場(chǎng):增長(zhǎng)趨勢(shì)、競(jìng)爭(zhēng)格局與前景展望

(通常為13.5納米),相比傳統(tǒng)的光刻技術(shù),EUV技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)更小的芯片尺寸和更高的集成度。 EUV光刻機(jī)的工作原理是通過(guò)將極端紫外光投影到硅片上,在光敏材料上形成圖案,從而實(shí)現(xiàn)芯片的精密圖案化。與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比,EUV技術(shù)的短波長(zhǎng)可以顯著提高曝光的分辨率
2023-07-24 18:19:471095

深紫外光刻復(fù)雜照明光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

摘要 :隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,我國(guó)迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長(zhǎng)為193nm的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢(shì)已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
2023-07-17 11:02:38592

ASML:沒(méi)向中國(guó)推出特別版***

特別版的光刻機(jī)。 荷蘭政府的限制先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口新規(guī)將于9月1日生效。這一事件引發(fā)了市場(chǎng)猜測(cè)ASML可能會(huì)發(fā)布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的調(diào)整版,以減輕對(duì)中國(guó)芯片制造商的影響,并滿(mǎn)足荷蘭禁止向中國(guó)客戶(hù)出口28納米以下工藝制造的要求。 目前全球絕大
2023-07-07 12:32:371112

光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀

GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù),通過(guò)將光線通過(guò)
2023-07-07 11:46:07

ASML 將向中國(guó)推出“特供版”DUV ***;英偉達(dá)或?qū)⒉糠諥I GPU訂單外包三星

半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。 消息稱(chēng)該特別版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而 1980Di 是 10?年前推出
2023-07-06 16:45:01924

***技術(shù)有多難搞?我國(guó)***發(fā)展現(xiàn)狀

光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神,但只有這種精神是不夠的!光刻機(jī)畢竟不是核彈,光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī),需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn),這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
2023-06-27 15:50:0810752

一文了解光刻的歷史

如今,光刻技術(shù)已成為一項(xiàng)容錯(cuò)率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴(lài)于世界上最平坦的鏡子、最強(qiáng)大的商用激光器之一以及比太陽(yáng)表面爆炸還高的熱度,在硅上刻出微小的形狀,尺寸僅為幾納米。
2023-06-26 16:59:16569

光刻中承上啟下的半導(dǎo)體掩膜版

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中,除了光刻機(jī)等設(shè)備外,光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來(lái)說(shuō),這個(gè)承載設(shè)計(jì)圖形的材料,經(jīng)過(guò)曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001984

ASML無(wú)視美國(guó)禁令出貨400臺(tái)***

因此光刻機(jī)對(duì)芯片制造非常重要,它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素??v觀全球光刻機(jī)市場(chǎng),荷蘭ASML公司一家獨(dú)大,占據(jù)全球80%的光刻機(jī)市場(chǎng)份額,高端EUV光刻機(jī)的市占比更是達(dá)到100%。
2023-06-20 11:42:271258

超級(jí)全面!一文看懂***:MEMS傳感器及芯片制造的最核心設(shè)備

文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié),大陸自給率亟待提升 ·光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備,市場(chǎng)規(guī)模全球第二 ·一超兩強(qiáng)壟斷市場(chǎng),大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機(jī):多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)的組合,核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008367

ASML***發(fā)展歷程 ***核心系統(tǒng)設(shè)計(jì)流程

光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-15 11:14:533429

運(yùn)動(dòng)ECI系列運(yùn)動(dòng)控制卡產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

1、無(wú)需安裝PCI驅(qū)動(dòng),一根網(wǎng)線解決問(wèn)題; 2、無(wú)論軸數(shù)多少,所有產(chǎn)品調(diào)用一套API函數(shù)庫(kù); 3、無(wú)需PCI的轉(zhuǎn)接線和接線板,接線方便,排查問(wèn)題更容易; 4、無(wú)需依賴(lài)工控機(jī),可以降低PC的配置要求
2023-06-13 09:44:20

芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857

極紫外光刻隨機(jī)效應(yīng)的表現(xiàn)及產(chǎn)生原因

  極紫外光刻的制約因素   耗電量高極紫外線波長(zhǎng)更短,但易被吸收,可利用率極低,需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機(jī),250W的功率,每天耗電達(dá)到三萬(wàn)度。   生產(chǎn)效率仍不
2023-06-08 15:56:42283

氦質(zhì)譜檢漏儀電子束***檢漏

上海伯東客戶(hù)某光刻機(jī)生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機(jī) Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492

首個(gè)量子芯片生產(chǎn)線獲“超視力”

由于美國(guó)的干涉,asml的極紫外線光刻機(jī)無(wú)法出口到中國(guó),甚至深度紫外線光刻機(jī)也受到了限制。很明顯,美國(guó)不會(huì)放松對(duì) EUV光刻機(jī)的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552

【安泰租賃】吉時(shí)利6517A/B的高阻測(cè)試及體電阻率測(cè)試

安泰儀器租賃服務(wù) 納米發(fā)電機(jī),是基于規(guī)則的氧化鋅納米線,在納米范圍內(nèi)將機(jī)械能轉(zhuǎn)化成電能,是世界上最小的發(fā)電機(jī)。目前納米發(fā)電機(jī)可以分為三類(lèi): 第一類(lèi)是壓電納米發(fā)電機(jī);? 第二類(lèi)是摩擦納米發(fā)電機(jī)
2023-05-26 08:43:24271

芯明天壓電鏡架選型

芯明天壓電鏡架是一種利用壓電效應(yīng)來(lái)控制鏡片位置的光學(xué)機(jī)械。壓電效應(yīng)是指在某些晶體中,如壓電陶瓷,當(dāng)施加電場(chǎng)時(shí),壓電陶瓷會(huì)發(fā)生形變,通過(guò)機(jī)械結(jié)構(gòu)將這種形變轉(zhuǎn)換為直線毫米級(jí)行程,該運(yùn)動(dòng)對(duì)鏡架進(jìn)行角度偏轉(zhuǎn)
2023-05-25 10:27:45350

樂(lè)趣探索不一樣的計(jì)算光刻

之前的小講堂有介紹過(guò),光刻過(guò)程就好比用照相機(jī)拍照,將掩模版上的芯片設(shè)計(jì)版圖曝光到晶圓上,從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機(jī)的鏡片組使用極其精密的加工手段制造,使得最終像差被控制在納米級(jí)別,才能穩(wěn)定地通過(guò)曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497

什么是EUV***?

需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比,EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別,從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985

機(jī)床機(jī)測(cè)量系統(tǒng)

的偏置量,使同樣的機(jī)床能加工出更高精度的零件。 圖儀器PO40機(jī)床機(jī)測(cè)量系統(tǒng)是一款具有 3 維 5 向探測(cè)功能的紅外觸發(fā)機(jī)床測(cè)頭,具有體積小、精度高、
2023-05-17 14:41:23

空間擾動(dòng)模擬的壓電納米運(yùn)動(dòng)解決方案!

的應(yīng)用。 空間擾動(dòng)模擬是一種模擬空間中物體運(yùn)動(dòng)時(shí)受到的擾動(dòng)影響的方法,是一種模擬技術(shù),用于預(yù)測(cè)和評(píng)估空間光學(xué)有效載荷在運(yùn)行過(guò)程中所受到的力擾動(dòng)。擾動(dòng)力一般為空間微振動(dòng),是指在空間環(huán)境下,由于各種因素(如太陽(yáng)輻射
2023-05-17 13:58:39338

一文講透光刻膠及芯片制造關(guān)鍵技術(shù)

在集成電路制造領(lǐng)域,如果說(shuō)光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”,光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381122

新品推薦|XD770.300S大負(fù)載壓電納米定位臺(tái)

壓電納米定位臺(tái)在精密定位領(lǐng)域中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,可集成于各類(lèi)高精密裝備,為其提供納米級(jí)運(yùn)動(dòng)控制,且應(yīng)用非常廣泛,例如顯微掃描、光路調(diào)整、納米操控技術(shù)、激光干涉、納米光刻、生物科技、光通信、納米
2023-05-11 08:56:02347

2023年中國(guó)***現(xiàn)狀

2023年中國(guó)光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢?自從2018年以來(lái),我國(guó)開(kāi)始被美國(guó)各種手段制裁,光刻機(jī)被卡脖子,美國(guó)不讓荷蘭賣(mài)先進(jìn)的光刻機(jī)給我們,這也讓這些年來(lái)無(wú)數(shù)國(guó)人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
2023-05-10 16:24:1521221

上海光機(jī)所在光學(xué)操控二維納米運(yùn)動(dòng)方面獲得進(jìn)展

研究團(tuán)隊(duì)利用傳統(tǒng)的機(jī)械剝離法在藍(lán)寶石襯底上制備了二維金屬納米片,利用光學(xué)顯微鏡將飛秒脈沖激光垂直輻射在納米片上:當(dāng)脈沖激光照射時(shí),二維納米片開(kāi)始運(yùn)動(dòng),并在均勻光照區(qū)域內(nèi)持續(xù)運(yùn)動(dòng),通過(guò)激光的移動(dòng)來(lái)改變輻照區(qū)域
2023-04-28 10:35:17483

壓電納米定位臺(tái)在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)中的應(yīng)用!

極高的運(yùn)動(dòng)定位精度和穩(wěn)定性,在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)中具有著非常廣泛的應(yīng)用。在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的領(lǐng)域,通常需要壓電納米定位臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)納米甚至亞納米級(jí)別的運(yùn)動(dòng)控制精度。 壓電納米定位臺(tái)用于讀寫(xiě)頭的高精度調(diào)節(jié) 壓電納米定位臺(tái)可以在光盤(pán)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
2023-04-26 16:23:02431

光刻技術(shù)的原理及發(fā)展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來(lái)。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見(jiàn)光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260

中國(guó)最先進(jìn)的***是多少納米

中國(guó)在芯片制造領(lǐng)域一直在追趕先進(jìn)的技術(shù),雖然在一些關(guān)鍵技術(shù)方面還存在一定差距,但近年來(lái)中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了一些進(jìn)展,下面將詳細(xì)介紹中國(guó)目前最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少納米。
2023-04-24 15:10:0159466

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開(kāi)口底部都會(huì)有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52

壓電納米運(yùn)動(dòng)產(chǎn)品應(yīng)用于激光器!

什么是激光器? 激光器是一種能夠發(fā)射激光的裝置,它的工作原理是通過(guò)把一個(gè)束流物質(zhì)(如氣體、固體或液體)激發(fā)到一個(gè)激發(fā)能級(jí),然后利用光反饋?zhàn)饔?,在這個(gè)物質(zhì)中形成一束高度一致的、集中的、單色的激光光束。激光器的應(yīng)用范圍很廣,包括科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)、工業(yè)、軍事和娛樂(lè)等領(lǐng)域。 激光器的基本結(jié)構(gòu) 激光器的種類(lèi) 激光器根據(jù)不同的物理原理、應(yīng)用領(lǐng)域和波長(zhǎng)范圍可以分為多種類(lèi)型,主要包括以下幾類(lèi): 1.氣體激光器:使用氣體作為工作介質(zhì)
2023-04-12 15:01:08577

7805穩(wěn)壓電的濾波電阻proteus怎么找到?

你好,我想問(wèn)您一下,7805穩(wěn)壓電的濾波電阻proteus怎么找到?謝謝
2023-04-12 11:22:28

XYZ三維運(yùn)動(dòng)、電容閉環(huán)、無(wú)磁壓電納米定位臺(tái)與控制器!

本次介紹一款XYZ三維運(yùn)動(dòng)、電容傳感器閉環(huán)的壓電納米定位臺(tái)及相應(yīng)控制器,該電容運(yùn)動(dòng)臺(tái)的型號(hào)為P12.XYZ100C,控制器型號(hào)為E00.D11AL。 P12.XYZ100C壓電納米定位
2023-04-08 08:53:381024

中國(guó)能不能造出頂級(jí)***

光刻機(jī)是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的設(shè)備,用于在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中將芯片圖形化。由于光刻機(jī)的精度和性能要求非常高,其制造難度也相對(duì)較大,目前市場(chǎng)上僅有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)出頂級(jí)光刻機(jī)。那么,中國(guó)能否造出頂級(jí)光刻機(jī)呢?
2023-04-07 13:35:244597

音圈電機(jī)模組在主流光刻掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一,也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇耍商m光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對(duì)光刻機(jī)有所耳聞,但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
2023-04-06 08:56:49679

壓電致動(dòng)器與粘滑原理仿真

  為什么一個(gè)物體放在紙上,可以快速抽出將紙抽出?  紙片與物體之間發(fā)生抽取的瞬間,產(chǎn)生的摩擦力使物體的加速度大于零,但作用時(shí)間短,不足以使得物體產(chǎn)生足夠可見(jiàn)的位移,因此物體的位移運(yùn)動(dòng)也就終止了
2023-03-27 17:25:52

GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載,每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫(kù)利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻,可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥,以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377489

為什么直流穩(wěn)壓電不選可控硅降壓電路呢?

為什么直流穩(wěn)壓電,不選可控硅降壓電路,而選擇降壓變壓器呢?
2023-03-23 09:48:42

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