用途：為半導(dǎo)體、光學(xué)鏡片、材料、3C消費(fèi)類電子、醫(yī)療、刀具等行業(yè)提供納米級(jí)別粗糙度、臺(tái)階高度、微觀形貌、三維形貌比對(duì)、高度、平面尺寸等要素測量。
特點(diǎn)：最高0.03nm精度，業(yè)內(nèi)最快速度，可客制化測量工具和在線測量。
--- 產(chǎn)品參數(shù) ---
- 像素 230萬
- 掃描原理 白光干涉
- 掃描范圍 5000um
- 最大掃描速度 400um/s
- 被測物反射率 0.02%~100%
- 顯示分辨率 0.001nm
- RMS重復(fù)性 0.005nm
--- 產(chǎn)品詳情 ---
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