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摘要:研究了幾種腐蝕液對半導(dǎo)體激光器陣列外延材料的腐蝕過程,其中HF(40%)/CrO3(33wt%)腐蝕液比較適合,用掃描電子顯微鏡(SEM)對其腐蝕情況進(jìn)行了分析,并給出了利用這種腐蝕液進(jìn)行腐蝕的半導(dǎo)體激光器陣列隔離槽的圖像.通過調(diào)節(jié)HF/CrO3腐蝕液的體積比(從0102到012),確定了AlxGa1-xAs組分漸變材料的腐蝕條件(室溫23℃,腐蝕時(shí)間4min)以及最佳配比(體積比為011).利用這種腐蝕液得到的腐蝕圖形可以滿足激光器陣列的要求.
關(guān)鍵詞:化學(xué)濕法腐蝕;半導(dǎo)體激光器陣列;掃描電子顯微鏡
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