資料介紹
在當(dāng)今這個(gè)競(jìng)爭(zhēng)激烈的時(shí)代,產(chǎn)品設(shè)計(jì)人員面臨的挑戰(zhàn)是:不僅要緊跟同行步伐,而且要保持領(lǐng)先群雄的地位。這就對(duì)那些欲借助差異化產(chǎn)品進(jìn)行創(chuàng)新的系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員提出了更高的要求。
創(chuàng)新的一種重要方法是使用高密度設(shè)計(jì)。為推出占位面積更小的解決方案,電源系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員現(xiàn)在正集中研究功率密度(一個(gè)功率轉(zhuǎn)換器電路每單位面積或體積的輸出功率)的問(wèn)題。
高密度直流/直流(dcdc)轉(zhuǎn)換器印刷電路板(pcb)布局最引人矚目的范例涉及功率級(jí)組件的放置和布線。精心的布局可同時(shí)提高開(kāi)關(guān)性能、降低組件溫度并減少電磁干擾(EMI)信號(hào)。
請(qǐng)細(xì)看圖1中的功率級(jí)布局和原理圖。
圖1:四開(kāi)關(guān)降壓-升壓型轉(zhuǎn)換器功率級(jí)布局和原理圖
由此看來(lái),這些都是設(shè)計(jì)高密度dcdc轉(zhuǎn)換器時(shí)所面臨的挑戰(zhàn):
組件技術(shù)
組件技術(shù)的進(jìn)步是降低整體功耗的關(guān)鍵,尤其在較高的開(kāi)關(guān)頻率下對(duì)濾波器無(wú)源組件的尺寸減小更是至關(guān)重要。
例如,功率金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)已見(jiàn)證了硅芯片和封裝方面的一致進(jìn)展,其中最值得注意的是采用了極少出現(xiàn)寄生現(xiàn)象的氮化鎵(GaN)功率器件。
與此同時(shí),磁性組件的性能也得到了單獨(dú)提升,雖然其速度可能落后于功率半導(dǎo)體組件的性能提升速度。
憑借控制集成電路(IC)的謹(jǐn)慎布局(集成式自適應(yīng)柵極驅(qū)動(dòng)器靠近MOSFET),在很多情況下無(wú)需再用功率耗散緩沖器或柵極電阻器組件進(jìn)行開(kāi)關(guān)節(jié)點(diǎn)電壓轉(zhuǎn)換速率的調(diào)整。
散熱設(shè)計(jì)
雖然高密度布局一般有利于提升轉(zhuǎn)換效率,但它可能會(huì)形成一個(gè)散熱性能瓶頸。要在更小的占位空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)相同功耗的想法變得站不住腳。
組件溫度攀升會(huì)使較高的故障率和可靠性問(wèn)題更嚴(yán)重。把外形較纖薄的功率MOSFET放置在pcb頂部(不會(huì)被電感器和電解電容器等較厚的組件遮蔽氣流)有助于通過(guò)對(duì)流氣流提高散熱性能。
就圖1中的轉(zhuǎn)換器而言,電感器和電解電容器被特意放在了多層pcb的底部,因?yàn)槿绻糜陧敳?,它們?huì)妨礙熱傳遞。
抗EMI性能
EMI合規(guī)性是產(chǎn)品設(shè)計(jì)周期中的一個(gè)重要里程碑。高密度設(shè)計(jì)通常沒(méi)有多少可用于EMI濾波的空間。但嚴(yán)密的布局可改善輻射發(fā)射狀況,并對(duì)傳送進(jìn)來(lái)的干擾產(chǎn)生更強(qiáng)的抵御能力。
兩個(gè)基本步驟是:最大限度地減少載有大di/dt電流的環(huán)路面積(見(jiàn)圖1中的白色電流路徑),并縮減具有高dv/dt電壓的表面積(見(jiàn)圖1中的覆銅多邊形SW1和SW2)。
高密度pcb設(shè)計(jì)流程
顯然,對(duì)電源系統(tǒng)設(shè)計(jì)人員來(lái)說(shuō),培養(yǎng)和磨礪自己的pcb設(shè)計(jì)技能非常重要。盡管布局的職責(zé)往往會(huì)委托給布局專家,但工程師仍承擔(dān)著審查設(shè)計(jì)并且非正式批準(zhǔn)它的最終責(zé)任。
DC/DC 轉(zhuǎn)換器pcb設(shè)計(jì)流程的基本步驟:
1. 選擇pcb結(jié)構(gòu)和層疊規(guī)范。
2. 從原理圖中找出大di/dt電流環(huán)路和高dv/dt電壓節(jié)點(diǎn)。
3. 進(jìn)行功率級(jí)組件的布局和放置。
4. 放置控制IC并完成控制部分布局。
5. 進(jìn)行關(guān)鍵的跟蹤布線,包括MOSFET柵極驅(qū)動(dòng)、電流檢測(cè)和輸出電壓反饋。
6. 設(shè)計(jì)電源和接地(GND)層。
在電路板上具有戰(zhàn)略意義的位置靈活部署轉(zhuǎn)換器的能力也很重要 —— 以大電流負(fù)載點(diǎn)(POL)模塊為例,處于鄰近負(fù)載的最佳位置可降低導(dǎo)通壓降并改善負(fù)載瞬態(tài)性能。
請(qǐng)細(xì)看圖2中外形微縮的降壓型轉(zhuǎn)換器的功率級(jí)布局。作為一個(gè)嵌入式POL模塊實(shí)施方案,它采用了一個(gè)全陶瓷電容器設(shè)計(jì)、一個(gè)高效屏蔽式電感器、若干垂直堆疊的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)、一個(gè)電壓模式控制器以及一個(gè)具有2盎司覆銅的六層pcb。
圖2:25A同步降壓型轉(zhuǎn)換器pcb布局和實(shí)施方案
本設(shè)計(jì)的主要原則是實(shí)現(xiàn)高功率密度和低材料清單(BOM)成本。它總共占用的pcb面積為2.2cm2(0.34in2),每單位面積產(chǎn)生的有效電流密度為11.3A/cm2(75A/in2)。3.3V輸出時(shí)每單位體積的功率密度為57W/in2(930W/in3)。
為達(dá)到高功率密度,通常的做法是增加開(kāi)關(guān)頻率。相比之下,您可通過(guò)具有戰(zhàn)略意義的組件選擇來(lái)實(shí)現(xiàn)小型化,同時(shí)保持300kHz的較低開(kāi)關(guān)頻率,旨在減少M(fèi)OSFET開(kāi)關(guān)損耗和電感器磁芯損耗等與頻率成比例的損失。表1列出了本設(shè)計(jì)的基本組件。
表1:POL模塊組件、封裝大小和推薦的焊盤(pán)尺寸?
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