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標簽 > 掩膜

掩膜

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掩膜技術(shù)

半導體掩膜版制造工藝及流程

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半導體掩膜版制造工藝及流程 掩膜版(Photomask)又稱光罩,是液晶顯示器、半導體等制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具。光掩膜基版是制作微細...

2024-08-19 標簽:半導體掩膜 382 0

光學光刻和EUV光刻中的掩膜與晶圓形貌效應(yīng)

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對先進光刻掩膜光衍射的精密EMF模擬已成為預知光刻模擬的必做工作。

2012-05-04 標簽:晶圓光刻EUV 6996 0

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掩膜資訊

光刻掩膜版制作流程

光刻掩膜版的制作是一個復雜且精密的過程,涉及到多個步驟和技術(shù)。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程: 1. 設(shè)計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前,首先需要...

2024-09-14 標簽:光刻掩膜 94 0

掩膜版的技術(shù)迭代

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掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年,是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢,下游運用廣泛且不同行業(yè)對掩膜版的性能、成本等要求不同,不同代別的產(chǎn)...

2024-09-10 標簽:芯片eda掩膜 105 0

掩膜版與光刻膠的功能和作用

掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...

2024-09-06 標簽:芯片光刻膠掩膜 191 0

鉻版掩膜版介紹及制作方法

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鉻版掩膜版在IC生產(chǎn)中會大量使用,現(xiàn)社會因為LCD生產(chǎn)的檔次提高了,也加大了生產(chǎn)量,鉻板也逐漸由IC行業(yè)給推薦至LCD行業(yè)。鉻板的優(yōu)點很多,比如:線條精...

2024-09-05 標簽:掩膜 100 0

芯片光刻掩膜的保存方法

光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...

2024-09-04 標簽:芯片光刻掩膜 99 0

如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光?

為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率,光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模和晶圓...

2024-08-23 標簽:微流控光刻膠掩膜 116 0

什么是光刻掩膜版保護膜?

什么是光刻掩膜版保護膜?

大家都知道掩膜版主要由基板、遮光層和保護膜組成,其中基板(主要采用玻璃基材,包括石英 和蘇打兩種材質(zhì))占直接原材料成本比重達90%。 那么什么是掩膜版保...

2024-08-16 標簽:芯片光刻保護膜 145 0

微流控光刻掩膜版的介紹及作用

微流控光刻掩膜版的介紹及作用

微流控光刻掩膜在微流控芯片制造中扮演著至關(guān)重要的角色。它的主要作用是通過曝光和顯影等工序,將掩膜上已設(shè)計好的圖案轉(zhuǎn)移到襯底的光刻膠上,進行圖像復制,從而...

2024-08-15 標簽:光刻微流控掩膜 221 0

微流控光刻掩膜制作

微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設(shè)計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計階段是制作掩膜版...

2024-08-08 標簽:光刻微流控掩膜 147 0

臺灣光罩40nm產(chǎn)品今下半年量產(chǎn),營收將逐季增長

臺灣光罩股份有限公司在5月27日宣布其40納米制程掩膜產(chǎn)品已獲得客戶認可,預計下半年開始批量生產(chǎn)。此舉將促使其全年掩模產(chǎn)品銷售額持續(xù)上升。

2024-05-28 標簽:納米掩膜 829 0

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