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標(biāo)簽 > 晶片
晶片是LED最主要的原物料之一,是LED的發(fā)光部件,LED最核心的部分,晶片的好壞將直接決定LED的性能。晶片是由是由Ⅲ和Ⅴ族復(fù)合半導(dǎo)體物質(zhì)構(gòu)成。在LED封裝時,晶片來料呈整齊排列在晶片膜上。
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新的微電子產(chǎn)品要求硅(Si)晶片變薄到厚度小于150 μm。機械研磨仍然會在晶片表面產(chǎn)生殘余缺陷,導(dǎo)致晶片破裂,表面粗糙。因此,化學(xué)蝕刻方法主要用于生產(chǎn)...
半導(dǎo)體器件的制造工程已使光電儀器、激光二極管和無線通信設(shè)備以及許多其他現(xiàn)代設(shè)備成為可能。從巴丁、布里泰因和肖克利1947年在貝爾實驗室發(fā)明晶體管,到大約...
本文展示了一種使用連續(xù)濕法化學(xué)表面活化(即SPM→RCAl清洗)結(jié)合硅和石英玻璃晶片的鍵合方法。經(jīng)過200 ℃的多步后退火,獲得了無空洞或微裂紋的牢固結(jié)...
本文報道了這種化學(xué)鎳的形成,包括在100pm以下的模具,通過掃描電鏡檢查,研究了各種預(yù)處理刻蝕過程和鋅酸鹽活化對最終化學(xué)鎳碰撞質(zhì)量的影響,以幫助詳細(xì)了解...
退火后對結(jié)特性的剝離和清潔對于實現(xiàn)預(yù)期和一致的器件性能至關(guān)重要,發(fā)現(xiàn)光致抗蝕劑剝離和清洗會導(dǎo)致:結(jié)蝕刻、摻雜劑漂白和結(jié)氧化,植入條件可以增強這些效應(yīng),令...
半導(dǎo)體晶片干燥場非內(nèi)部和晶片周圍的流動特性
本研究利用CFD模擬分析了半導(dǎo)體晶片干燥場非內(nèi)部和晶片周圍的流動特性,并根據(jù)分析Case和晶片位置觀察了設(shè)計因子變化時的速度變化。
使用晶片處理技術(shù)在硅中產(chǎn)生溝槽結(jié)構(gòu)
本文討論了一種使用容易獲得的晶片處理技術(shù)在硅中產(chǎn)生溝槽結(jié)構(gòu)的簡單技術(shù),通過使用(110)Si的取向相關(guān)蝕刻,可能在硅中產(chǎn)生具有垂直側(cè)壁的溝槽,與該技術(shù)一...
利用異丙醇(IPA)和氮載氣開發(fā)創(chuàng)新了一種晶片干燥系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)的非環(huán)保晶片干燥系統(tǒng)。研究b了IPA濃度是運行該系統(tǒng)的最重要因素,為了防止IPA和熱量...
2022-04-29 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片干燥系統(tǒng) 704 0
半導(dǎo)體工藝 臭氧化去離子水去除最終拋光晶片上的顆粒
摘要 本研究開發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機蠟?zāi)ず皖w粒。僅經(jīng)過商業(yè)脫蠟處理后,仍殘留有厚度超過200...
半導(dǎo)體工藝中化學(xué)機械拋光后刷洗的理論分析
摘要 化學(xué)機械平面化后的葉片清洗,特別是刷子擦洗,是半導(dǎo)體器件制造的一個關(guān)鍵步驟,尚未得到充分了解。臨界粒子雷諾數(shù)方法用于評估在刷擦洗過程中去除晶圓表面...
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