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晶片

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晶片是LED最主要的原物料之一,是LED的發(fā)光部件,LED最核心的部分,晶片的好壞將直接決定LED的性能。晶片是由是由Ⅲ和Ⅴ族復(fù)合半導(dǎo)體物質(zhì)構(gòu)成。在LED封裝時(shí),晶片來(lái)料呈整齊排列在晶片膜上。

文章:359個(gè) 瀏覽:31368 帖子:27個(gè)

晶片資訊

晶圓代工成熟制程降價(jià)潮持續(xù) 何時(shí)止跌“沒(méi)人敢打包票”

據(jù)業(yè)界統(tǒng)計(jì),除臺(tái)積電以外,12英寸成熟的晶片加工價(jià)格在傳染病大品種期間上漲了70 ~ 80%。但去年啟動(dòng)庫(kù)存修改風(fēng)波后,累計(jì)跌幅達(dá)2030%,相當(dāng)于前兩...

2023-09-04 標(biāo)簽:臺(tái)積電晶圓代工晶片 398 0

關(guān)于臭氧化去離子水去除最終拋光晶片上的顆粒的研究報(bào)告

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摘要 本研究開(kāi)發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず皖w粒。僅經(jīng)過(guò)商業(yè)脫蠟處理后,仍殘留有厚度超過(guò)200...

2022-01-26 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片清洗工藝 392 0

標(biāo)準(zhǔn)清洗槽中的質(zhì)量參數(shù)的監(jiān)控方法

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高效的硅片清洗需要最佳的工藝控制,以確保在不增加額外缺陷的情況下提高產(chǎn)品產(chǎn)量,同時(shí)提高生產(chǎn)率和盈利能力。

2022-03-09 標(biāo)簽:晶圓晶片儀器 390 0

使用脈動(dòng)流清洗毯式和圖案化晶片的工藝研究

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表面和亞微米深溝槽的清洗在半導(dǎo)體制造中是一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。在這項(xiàng)工作中,使用物理數(shù)值模擬研究了使用脈動(dòng)流清洗毯式和圖案化晶片。毯式晶片清洗工藝的初步結(jié)果與...

2022-06-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片清洗 388 0

微芯科技預(yù)計(jì)第三財(cái)季營(yíng)收降幅將超預(yù)期,經(jīng)濟(jì)因素影響較大

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2024-01-09 標(biāo)簽:晶片智能駕駛微芯科技 384 0

臺(tái)積電回應(yīng)美國(guó)工會(huì)擋赴美工人簽證:會(huì)持續(xù)溝通

臺(tái)積電重申,據(jù)中央電視臺(tái)報(bào)道,迄今為止在中國(guó)臺(tái)灣調(diào)派到亞利桑那的人數(shù)還未確定,但人數(shù)相當(dāng)有限,他們也只會(huì)支持特定任務(wù)短期滯留在亞利桑那,不影響目前的1....

2023-08-09 標(biāo)簽:臺(tái)積電晶圓代工晶片 383 0

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據(jù)“金龍湖發(fā)布”公眾號(hào)消息,目前,江蘇天科合達(dá)碳化硅晶片二期擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目機(jī)電安裝工作已進(jìn)入后期收尾階段。相關(guān)負(fù)責(zé)人稱,后續(xù)重要工作將是吊頂完成,各系統(tǒng)的追位...

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濕蝕刻在硅片晶薄中的作用

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江蘇魯汶儀器股份有限公司揭示原子層刻蝕新方法

本專利主要涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域,涉及的是一種高效原子層刻痕解決方案。工藝具體為主體步驟分為兩個(gè)階段:首先采取等離子處理方式將氯元素引入晶片表面,進(jìn)而形...

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實(shí)驗(yàn)和數(shù)值研究了間歇式300mm直徑硅片濕法清洗槽出口對(duì)水運(yùn)動(dòng)的影響,以快速去除槽中的污染物。設(shè)計(jì)并評(píng)估了由靠近水槽側(cè)壁頂部邊緣的針孔陣列組成的出口以及...

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來(lái)源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志文章 近幾十年來(lái),半導(dǎo)體行業(yè)取得了巨大進(jìn)步,在我們的現(xiàn)代世界中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。濕法工藝設(shè)備是生產(chǎn)高質(zhì)量半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵部...

2024-06-24 標(biāo)簽:半導(dǎo)體蝕刻晶片 153 0

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