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晶片

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晶片是LED最主要的原物料之一，是LED的發(fā)光部件，LED最核心的部分，晶片的好壞將直接決定LED的性能。晶片是由是由Ⅲ和Ⅴ族復(fù)合半導(dǎo)體物質(zhì)構(gòu)成。在LED封裝時，晶片來料呈整齊排列在晶片膜上。

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晶片資訊

蒸汽相氟化氫對晶片清洗和氧化物刻蝕的表征

半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)和工藝控制的不斷進(jìn)步，加上制造亞微米尺寸器件對襯底清潔度提出的更嚴(yán)格要求，重新引起了人們對汽相HF氧化物蝕刻技術(shù)的興趣，在文中描述了一種系...

2022-05-31 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片 858 0

晶圓尺寸從300毫米過渡到450毫米的技術(shù)挑戰(zhàn)

隨著技術(shù)復(fù)雜性在亞20nm節(jié)點(diǎn)上的加速，半導(dǎo)體制造成本已經(jīng)快速增加，晶圓尺寸從300毫米過渡到450毫米將是解決這一問題的方法之一，平均而言，采用300...

2022-05-26 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶圓蝕刻 1134 0

SAPS兆頻超聲波技術(shù)應(yīng)用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝

本文介紹了我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體將空間交替相移(SAPS)兆頻超聲波技術(shù)應(yīng)用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝，SAPS技術(shù)通過在兆頻超聲波裝置和晶片之間的間隙中...

2022-05-26 標(biāo)簽：晶片 TSV 清洗工藝 891 0

晶片表面沉積氮化硅顆粒的沉積技術(shù)

評估各種清洗技術(shù)的典型方法是在晶片表面沉積氮化硅(Si，N4)顆粒，然后通過所需的清洗工藝處理晶片。國家半導(dǎo)體技術(shù)路線圖規(guī)定了從硅片上去除顆粒百分比的標(biāo)...

2022-05-25 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片清洗 1480 0

精確確定晶片結(jié)晶方向的不同技術(shù)方法

在濕法體微機(jī)械加工中，蝕刻特性取決于取向。Si{100}和Si{110}晶片上任何幾何形狀的掩模開口的延長蝕刻導(dǎo)致由最慢蝕刻平面限定的結(jié)構(gòu)。為了制造高尺...

2022-05-24 標(biāo)簽：蝕刻晶片微機(jī)械 795 0

堿性KOH蝕刻特性的詳細(xì)說明

氫氧化鉀(KOH)是一種用于各向異性濕法蝕刻技術(shù)的堿金屬氫氧化物，是用于硅晶片微加工最常用的硅蝕刻化學(xué)物質(zhì)之一。各向異性蝕刻優(yōu)先侵蝕襯底。也就是說，它們...

2022-05-09 標(biāo)簽：蝕刻晶片 1751 0

開發(fā)一種低成本的臭氧去離子水清洗工藝

摘要本研究開發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず皖w粒。僅經(jīng)過商業(yè)脫蠟處理后，仍殘留有厚度超過200...

2022-05-07 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片 1057 0

通過兩步濕化學(xué)表面清洗來結(jié)合硅和石英玻璃晶片的工藝

摘要本文展示了一種通過兩步濕化學(xué)表面清洗來結(jié)合硅和石英玻璃晶片的簡易結(jié)合工藝。在200℃后退火后，獲得沒有缺陷或微裂紋的強(qiáng)結(jié)合界面。在詳細(xì)的表面和結(jié)合...

2022-05-07 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片 1292 0

半導(dǎo)體濕法中臭氧溶液去除有機(jī)/無機(jī)污染

本研究利用臭氧去離子水（DIO3）開發(fā)了擁有低成本的新型清洗工藝(氧化亞鈷），臭氧濃度為40ppm，用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず皖w粒，僅經(jīng)過商業(yè)除蠟處理后，蠟渣仍...

2022-05-05 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片 936 0

PVA刷擦洗對CMP后清洗過程的影響

介紹聚乙烯醇刷洗是化學(xué)溶液清洗過程中常用的方法。聚乙烯醇刷擦洗可分為兩大類，根據(jù)其接觸類型(非接觸，完全接觸)。全接觸擦洗被認(rèn)為是去除晶片表面污染物的...

2022-04-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片 1500 0

一種用濕式均勻清洗半導(dǎo)體晶片的方法

本發(fā)明公開了一種用濕式均勻清洗半導(dǎo)體晶片的方法,所公開的本發(fā)明的特點(diǎn)是:具備半導(dǎo)體晶片和含有預(yù)定清潔液的清潔組、對齊上述半導(dǎo)體晶片的平坦區(qū)域，使其不與上...

2022-04-14 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片清洗 700 0

利用馬蘭戈尼效應(yīng)的晶片干洗系統(tǒng)

本發(fā)明涉及一種晶片干洗系統(tǒng)，更詳細(xì)地說，涉及一種能夠提高對晶片的干燥效率的馬蘭戈尼型(MARANGONI)TYPE)干洗系統(tǒng)。馬蘭戈尼型干燥劑系統(tǒng)，可以...

2022-04-11 標(biāo)簽：晶片清洗干燥系統(tǒng) 687 0

如何成功地清除來自晶片表面的顆粒污染

為了成功地清除來自晶片表面的顆粒污染，有必要了解顆粒與接觸的基底之間的附著力和變形,變形亞微米顆粒的粘附和去除機(jī)理在以往的許多研究中尚未得到闡明。亞微米...

2022-04-06 標(biāo)簽：晶片清洗顆粒 1300 0

濕蝕刻在硅片晶薄中的作用

薄晶片已經(jīng)成為各種新型微電子產(chǎn)品的基本需求。其中包括用于射頻識別系統(tǒng)的功率器件、分立半導(dǎo)體、光電元件和集成電路。除了向堆疊管芯組件的轉(zhuǎn)移之外，垂直系統(tǒng)集...

2022-04-01 標(biāo)簽：工藝蝕刻晶片 354 0

過氧化氫在SC1清潔方案中的作用說明

介紹 RCA標(biāo)準(zhǔn)清潔，在去除硅表面污染方面非常有效。RCA清潔包括兩個順序步驟：標(biāo)準(zhǔn)清潔1（SC-1）和標(biāo)準(zhǔn)清潔2（SC-2）。SC-1溶液由氫氧化銨、...

2022-03-25 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶片 2976 0

詳解SC-I清洗的化學(xué)模型

RCA標(biāo)準(zhǔn)清潔，在去除硅表面污染方面非常有效。RCA清潔包括兩個順序步驟：標(biāo)準(zhǔn)清潔1（SC-1）和標(biāo)準(zhǔn)清潔2（SC-2）。SC-1溶液由氫氧化銨、過氧化...

2022-03-25 標(biāo)簽：晶片模型刻蝕 3336 0

晶硅晶片表面組織工藝優(yōu)化研究

本文章將對表面組織工藝優(yōu)化進(jìn)行研究，多晶硅晶片表面組織化工藝主要分為干法和濕法，其中利用酸或堿性溶液的濕法蝕刻工藝在時間和成本上都比較優(yōu)秀，主要適用于太...

2022-03-25 標(biāo)簽：工藝蝕刻晶片 651 0

利用臭氧去離子水開發(fā)成本低的新型清洗工藝

本研究利用臭氧去離子水（DIO3）開發(fā)了擁有成本低的新型清洗工藝(氧化亞鈷），臭氧濃度為40ppm，用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず皖w粒，僅經(jīng)過商業(yè)除蠟處理后，蠟渣仍...

2022-03-24 標(biāo)簽：半導(dǎo)體工藝晶片 443 0

半導(dǎo)體制造過程中的新一代清洗技術(shù)

VLSI制造過程中，晶圓清洗球定義的重要性日益突出。這是當(dāng)晶片表面存在的金屬、粒子等污染物對設(shè)備的性能和產(chǎn)量(yield)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響時的門。在典型的半...

2022-03-22 標(biāo)簽：電路半導(dǎo)體晶片 4096 0

基于RCA清洗的濕式清洗工藝

在半導(dǎo)體制造過程中的每個過程之前和之后執(zhí)行的清潔過程是最重要的過程之一，約占總過程的30%，基于RCA清洗的濕式清洗工藝對于有效地沖洗清洗化學(xué)物質(zhì)以使它...

2022-03-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體工藝晶片 1325 0

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大數(shù)據(jù)（big data），指無法在一定時間范圍內(nèi)用常規(guī)軟件工具進(jìn)行捕捉、管理和處理的數(shù)據(jù)集合，是需要新處理模式才能具有更強(qiáng)的決策力、洞察發(fā)現(xiàn)力和流程優(yōu)化能力的海量、高增長率和多樣化的信息資產(chǎn)。
亞馬遜

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提供一網(wǎng)打盡亞馬遜科技動態(tài)，馬遜科生態(tài)開發(fā)工程師社區(qū)
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蘋果公司的iPhone 5s采用的就是Imagination Technologies的圖形芯片技術(shù)。2012年，Imagination Technologies市值高達(dá)16億英鎊。Imagination Technologies進(jìn)行了一次十分冒險的并購：以1億英鎊收購美國芯片廠商MIPS。隨后，Imagination Technologies又發(fā)布盈利預(yù)警。
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NFC芯片是NFC技術(shù)的重要組成部分，其具有通信功能和一定的計(jì)算能力，部分NFC芯片產(chǎn)品甚至含有加密邏輯電路以及加密/解密模塊。
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隨著中國醫(yī)院信息化進(jìn)程加速以及居民健康意識的增強(qiáng)，預(yù)計(jì)2016-2018年中國醫(yī)療電子市場還將繼續(xù)保持增長的態(tài)勢。年均復(fù)合增長率達(dá)23.7%，2018年銷售額達(dá)到2380.4億元。
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UFS是UNIX文件系統(tǒng)的簡稱，它來源于4.3Tahoe發(fā)行版中提供的BSD Fat Fast File System（FFS）系統(tǒng)，屬于FFS的演化版本。UFS幾乎是大部分UNIX類操作系統(tǒng)默認(rèn)的基于磁盤的文件系統(tǒng)，包括Solaris、Free BSD、Open BSD、Net BSD、HP-UX等，甚至Apple的OS X也能支持UFS文件系統(tǒng)。
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深圳市奧拓電子股份有限公司（以下簡稱“奧拓電子”）創(chuàng)立于1993年，于2011年6月在深交所上市，股票代碼為002587。公司致力于為影視、廣告、政企、租賃、教育、銀行、通信、郵政、景觀亮化、數(shù)字創(chuàng)意等行業(yè)提供智能視訊一站式解決方案。
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施耐德電氣有限公司（Schneider Electric SA）是總部位于法國的全球化電氣企業(yè)，全球能效管理和自動化領(lǐng)域的專家。集團(tuán)2016財(cái)年銷售額為250億歐元，在全球100多個國家擁有超過16萬名員工。1836年由施耐德兄弟建立。它的總部位于法國呂埃。
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PLD即可編程邏輯器件，PLD是做為一種通用集成電路產(chǎn)生的，他的邏輯功能按照用戶對器件編程來確定。一般的PLD的集成度很高，足以滿足設(shè)計(jì)一般的數(shù)字系統(tǒng)的需要。
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光電轉(zhuǎn)換器一般指多模光纖收發(fā)器，雙纖多模高性能10/100Mbit自適應(yīng)光纖收發(fā)器（光電轉(zhuǎn)換器），具備地址過濾、網(wǎng)絡(luò)分段及智能報警等功能，可提高網(wǎng)絡(luò)工作效率及網(wǎng)絡(luò)運(yùn)行可靠性。
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乾照光電

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廈門乾照光電股份有限公司（股票代碼：300102）成立于2006年，是國內(nèi)領(lǐng)先的全色系超高亮度發(fā)光二極管外延片及芯片生產(chǎn)廠商，總部坐落于美麗的廈門。2010年登陸深圳創(chuàng)業(yè)板上市，股票代碼300102，是國內(nèi)首家LED芯片行業(yè)自主上市的企業(yè)。
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兆馳股份

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深圳市兆馳股份有限公司（以下簡稱“兆馳股份”）于2005年4月成立，注冊資本452，694.06萬元。2010年6月在深圳證券交易所中小企業(yè)板上市，證券代碼：002429。兆馳股份總部位于深圳市龍崗區(qū)，旗下?lián)碛卸嗉覙I(yè)務(wù)子公司并分布全國各地。

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