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標(biāo)簽 > 清洗
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本文研究了兆聲功率、溫度和時(shí)間的相互影響,在兆聲功率和中高溫下進(jìn)行的稀釋化學(xué)反應(yīng)被證明對(duì)小顆粒再利用是非常有效的。數(shù)據(jù)顯示,當(dāng)在中等溫度(例如45℃)下...
隨著LSI集成度的顯著增加,各元件的斷面構(gòu)造從平面型向以溝槽(溝)構(gòu)造的出現(xiàn)為代表的三維構(gòu)造變遷。在以極限微細(xì)化為指向的LSI技術(shù)中,為了能夠?qū)?yīng)凹凸嚴(yán)...
隨著器件的高集成化,對(duì)高質(zhì)量硅晶片的期望。高質(zhì)量晶片是指晶體質(zhì)量、加工質(zhì)量以及表面質(zhì)量?jī)?yōu)異的晶片。此外,芯片尺寸的擴(kuò)大、制造成本的增加等問(wèn)題受到重視,近...
基于RCA清洗系統(tǒng)的熱模型以及清洗液的溫度控制法
在半導(dǎo)體制造工序的硅晶圓的清洗中,RCA清洗法被很多企業(yè)使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)方法,其中清洗溶液的溫度控制對(duì)于穩(wěn)定的清洗性能很重要,但...
2022-04-15 標(biāo)簽:清洗 945 0
作為用于高壽命藍(lán)色LD (半導(dǎo)體激光器)、高亮度藍(lán)色LED (發(fā)光二極管)、高特性電子器件的GaN單晶晶片,通過(guò)hvpe (氫化物氣相)生長(zhǎng)法等進(jìn)行生長(zhǎng)...
PVA刷接觸式清洗過(guò)程中超細(xì)顆粒清洗現(xiàn)象
為了LSI的小型·高性能化, 為了實(shí)現(xiàn)高精度的基板表面粗糙度,在制造工序中推進(jìn)了微細(xì)且多層布線化。 要求使用粒徑100 nm以下的納米粒子的CMP(Ch...
本文使用高頻超聲波的半導(dǎo)體單片清洗中的微粒子去除進(jìn)行了研究。水中的超聲波在波導(dǎo)管內(nèi)傳播時(shí),根據(jù)波導(dǎo)管的內(nèi)徑形成平面波以外的波導(dǎo)管模式,此時(shí),通過(guò)LDV測(cè)...
在最近的半導(dǎo)體清潔方面,以生物堿為基礎(chǔ)的RCA清潔法包括大量的超純和化學(xué)液消耗量以及清潔時(shí)多余薄膜的損失; 由于環(huán)境問(wèn)題,對(duì)新的新精液和清潔方法的研究正...
濕式化學(xué)清洗過(guò)程對(duì)硅晶片表面微粒度的影響
本文利用CZ、FZ和EPI晶片,研究了濕式化學(xué)清洗過(guò)程對(duì)硅晶片表面微粒度的影響。結(jié)果表明,表面微粗糙度影響了氧化物的介電斷裂~特性:隨著硅基底的微粗糙度...
一直以來(lái),對(duì)于粒子的洗滌效果,以去除率(PRE:Particle Removal Efficiency)為指標(biāo)進(jìn)行討論。通過(guò)使用由顆粒測(cè)量?jī)x器測(cè)量的晶片...
近年來(lái),作為取代SPM(硫酸/過(guò)氧化氫)清洗的有機(jī)物去除法,通過(guò)添加臭氧的超純水進(jìn)行的清洗受到關(guān)注,其有效性逐漸被發(fā)現(xiàn)。在該清洗法中,可以實(shí)現(xiàn)清洗工序的...
硅晶片的蝕刻預(yù)處理方法包括:對(duì)角度聚合的硅晶片進(jìn)行最終聚合處理,對(duì)上述最終聚合的硅晶片進(jìn)行超聲波清洗后用去離子水沖洗,對(duì)上述清洗和沖洗的硅晶片進(jìn)行SC-...
應(yīng)用于后蝕刻TSV晶圓的表面等離子體清洗技術(shù)
直通硅通孔(TSV)器件是3D芯片封裝的關(guān)鍵推動(dòng)者,可提高封裝密度和器件性能。要實(shí)現(xiàn)3DIC對(duì)下一代器件的優(yōu)勢(shì),TSV縮放至關(guān)重要。
近年來(lái),太陽(yáng)能電池和電池板等可再生能源的使用量顯著增加。在已安裝的光伏系統(tǒng)中,90%以上的是單晶硅電池和多晶硅電池,具有成本低、面積大、效率較高的優(yōu)點(diǎn)。...
本文研究了外延沉積前原位工藝清洗的效果,該過(guò)程包括使用溶解的臭氧來(lái)去除晶片表面的有機(jī)物,此外,該過(guò)程是在原位進(jìn)行的,沒(méi)有像傳統(tǒng)上那樣將晶圓從工藝轉(zhuǎn)移到?jīng)_...
半導(dǎo)體有機(jī)酸清洗液中的銅的蝕刻速率和氧化機(jī)理分析
引言 用電化學(xué)和原子力顯微鏡方法對(duì)有機(jī)酸與銅的相互作用進(jìn)行了表征可以建立用于濕銅加工的高效清洗公式。本文研究了單有機(jī)酸、二有機(jī)酸和三有機(jī)酸中銅的蝕刻速率...
利用循環(huán)水系統(tǒng)中的涼水塔作為加藥箱,往系統(tǒng)里面加藥,進(jìn)行自然循環(huán)。
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