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顆粒

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顆粒技術(shù)

PFC數(shù)值計算方法及基本理論

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PFC5.0軟件中提供了10種內(nèi)置接觸模型:Null(無接觸)、linear(線性接觸)、linearcbond(線性接觸黏結(jié))、linearpbond...

2023-04-12 標(biāo)簽:PFC顆粒 1.1萬 0

稀釋SC1過程中使用兆聲波來增強(qiáng)顆粒去除效率

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本文介紹了我們?nèi)A林科納在稀釋SC1過程中使用兆聲波來增強(qiáng)顆粒去除,在SC1清洗過程中,兩種化學(xué)成分之間存在協(xié)同和補(bǔ)償作用,H2O2氧化硅并形成化學(xué)氧化物...

2022-05-18 標(biāo)簽:晶片顆粒兆聲波 814 0

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本文提出了一種拋光硅片表面顆粒和有機(jī)污染物的清洗方法,非離子型表面活性劑可以有效地去除表面上的顆粒,因為它可以顯著降低液體的表面張力和界面張力,非離子型...

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化學(xué)機(jī)械平面化后的葉片清洗,特別是刷子擦洗,是半導(dǎo)體器件制造的一個關(guān)鍵步驟,尚未得到充分了解。臨界粒子雷諾數(shù)方法用于評估在刷擦洗過程中去除晶圓表面的粘附...

2022-05-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓顆粒 1814 0

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2022-04-15 標(biāo)簽:納米清洗顆粒 632 0

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2022-03-31 標(biāo)簽:半導(dǎo)體顆粒清潔技術(shù) 395 0

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顆粒資訊

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2023-06-09 標(biāo)簽:半導(dǎo)體顆粒 368 0

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實驗內(nèi)容:設(shè)計一套精準(zhǔn)的磁場操控平臺,并制備兩種不同類型磁性顆粒;研究了均勻型磁性顆粒在磁場下的成鏈的機(jī)理,給出成鏈模型,通過實驗研究了不同因素對成鏈的...

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濕法和顆粒去除工藝詳解

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本文考慮了范德華相互作用的2個數(shù)量級范圍,以考慮了實際粒子的形狀和材料,將這些相互作用與靜電電荷、阻力、表面張力、沖擊波、高加速度和氣溶膠粒子所產(chǎn)生的排...

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為了成功地清除來自晶片表面的顆粒污染,有必要了解顆粒與接觸的基底之間的附著力和變形,變形亞微米顆粒的粘附和去除機(jī)理在以往的許多研究中尚未得到闡明。亞微米...

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2021-12-27 標(biāo)簽:顆粒 319 0

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當(dāng)今的高性能電路要求將封裝設(shè)計和特性作為芯片設(shè)計的一部分。玻璃基板,尤其是低堿玻璃,已經(jīng)成為許多封裝應(yīng)用的優(yōu)勢,包括集成無源器件。

2021-12-21 標(biāo)簽:晶片顆粒 1417 0

PMMA顆粒形貌觀察和直徑測量(掃描電鏡,SEM)

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2021-12-20 標(biāo)簽:SEM顆粒掃描電鏡 1616 0

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