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EUV光刻機(jī)

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極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。

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euv光刻機(jī)技術(shù)

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金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時(shí)制造出更多晶體管。

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1納米芯片代表什么?

據(jù)悉,下一代EUV光刻機(jī)必須要升級(jí)下一代的高NA(數(shù)值孔徑)標(biāo)準(zhǔn),從現(xiàn)在的0.33 NA提升到0.55 NA,更高的NA意味著更分辨率更高,是3nm之后...

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EUV光刻機(jī)被已經(jīng)準(zhǔn)備好了,各大企業(yè)的爭奪戰(zhàn)開始打響

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2018-01-23 標(biāo)簽:英特爾三星電子臺(tái)積電 8139 0

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euv光刻機(jī)資訊

日本與英特爾合建半導(dǎo)體研發(fā)中心,將配備EUV光刻機(jī)

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模數(shù)轉(zhuǎn)換器 數(shù)模轉(zhuǎn)換器 數(shù)字電位器 觸摸屏控制器 AFE ADC DAC 電源管理
線性穩(wěn)壓器 LDO 開關(guān)穩(wěn)壓器 DC/DC 降壓轉(zhuǎn)換器 電源模塊 MOSFET IGBT
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數(shù)字隔離器 ESD 保護(hù) 收發(fā)器 橋接器 多路復(fù)用器 氮化鎵 PFC 數(shù)字電源
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