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      標(biāo)簽　>　euv光刻機

      euv光刻機

      +關(guān)注2人關(guān)注

      極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

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      euv光刻機資訊

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      ASML發(fā)貨第二臺High NA EUV光刻機，已成功印刷10nm線寬圖案

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      SK海力士計劃提升中國無錫工廠技術(shù)水平，推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

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      2024-01-15 標(biāo)簽：DRAMSK海力士EUV光刻機 1013 0

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      2023-08-15 標(biāo)簽：驅(qū)動器晶圓IC設(shè)計 787 0

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      2023-08-04 標(biāo)簽：激光器芯片制造光譜儀 1866 0

      英特爾將大規(guī)模擴張晶圓廠

      根據(jù)向州監(jiān)管機構(gòu)提交的新文件，英特爾計劃在未來五年對其希爾斯伯勒研究工廠進(jìn)行大規(guī)模升級，這一擴建可能會鞏固俄勒岡州作為該芯片制造商技術(shù)開發(fā)核心的地位。

      2023-08-04 標(biāo)簽：英特爾硅晶圓芯片制造 1124 0

      EUV光刻DDR5內(nèi)存狂飆 單條1TB不是夢

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      隨著制程工藝的進(jìn)步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機，但是設(shè)備實在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，...

      2023-07-31 標(biāo)簽：DRAM芯片EUV光刻機DDR5 1126 0

      次時代EUV光刻已箭在弦上！

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      半導(dǎo)體技術(shù)的未來通常是通過光刻設(shè)備的鏡頭來看待的，盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問題幾乎永無休止，但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點提供更好的分辨率。

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      ASML：沒向中國推出特別版***

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      2023-07-07 標(biāo)簽：光刻機ASMLEUV光刻機 1251 0

      擬推中國特供版DUV？ASML最新回應(yīng)

      被美國要求限制對華出售半導(dǎo)體設(shè)備后，ASML進(jìn)退兩難。

      2023-07-07 標(biāo)簽：晶體管ASMLEUV光刻機 5.1萬 0

      荷蘭實施半導(dǎo)體出口管制 ASML***DUV系統(tǒng)需要許可證

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      2023-07-01 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機ASML 835 0

      日本光刻膠巨頭JSR同意國家收購

      JSR 是全球僅有的四家 EUV 光刻膠供應(yīng)商之一，其產(chǎn)品是制造先進(jìn)芯片必不可少的原料。

      2023-06-27 標(biāo)簽：光刻機EUVEUV光刻機 767 0

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        長電科技
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        比特大陸
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      • 華天科技
        華天科技
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