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      標(biāo)簽　>　euv光刻機(jī)

      euv光刻機(jī)

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      極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月，中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線）光刻機(jī)，于2019年初交貨。

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      euv光刻機(jī)資訊

      造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)？

      造光刻機(jī)需要哪些技術(shù)？

      沒有任何一個(gè)國(guó)家的人比中國(guó)人更想造出頂級(jí)光刻機(jī)。網(wǎng)友甚至表示，只要造出光刻機(jī)，無論一個(gè)人做錯(cuò)了什么都可以原諒。

      2021-08-26 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 6.1萬 0

      中國(guó)euv光刻機(jī)三大突破 光刻機(jī)的三個(gè)系統(tǒng)

      如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來。

      2022-07-06 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 5.1萬 1

      擬推中國(guó)特供版DUV？ASML最新回應(yīng)

      被美國(guó)要求限制對(duì)華出售半導(dǎo)體設(shè)備后，ASML進(jìn)退兩難。

      2023-07-07 標(biāo)簽：晶體管ASMLEUV光刻機(jī) 5.1萬 0

      EUV光刻機(jī)到底是什么？為什么這么貴？

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      2020-02-29 標(biāo)簽：ASMLEUV光刻機(jī) 3.0萬 0

      海思工程師成香餑餑！華為圍獵半導(dǎo)體人才？IC人才跳槽呈現(xiàn)哪些風(fēng)向標(biāo)

      面臨美國(guó)制裁，華為海思一些項(xiàng)目無法開展，華為如何通過內(nèi)聘渠道發(fā)揮他們最大才能？華為挖人給行業(yè)帶來哪些影響？科創(chuàng)板開啟后，芯片企業(yè)崛起，給IC人才的脫穎而...

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      華為5g芯片是哪家公司生產(chǎn)的？

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      2023-09-01 標(biāo)簽：華為手機(jī)5G芯片5G技術(shù) 1.7萬 0

      2020年臺(tái)積電沖刺450億美元營(yíng)收？臺(tái)灣和大陸廠商如何合力把握半導(dǎo)體發(fā)展機(jī)遇！

      10月31日，在2020深圳集成電路制造峰會(huì)的安防半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展論壇上，來自臺(tái)灣亞太高科技發(fā)展促進(jìn)協(xié)會(huì)，臺(tái)灣資深半導(dǎo)體專家馮明憲先生，帶來《從中國(guó)集...

      2020-11-02 標(biāo)簽：中芯國(guó)際臺(tái)積電海思 1.4萬 0

      中芯國(guó)際FinFET N＋1等效7nm，工藝芯片流片成功！

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      據(jù)消息，IP和定制芯片企業(yè)芯動(dòng)科技已完成全球首個(gè)基于中芯國(guó)際FinFET N＋1先進(jìn)工藝的芯片流片和測(cè)試，所有IP全自主國(guó)產(chǎn)，功能一次性通過。 在半導(dǎo)體...

      2020-10-16 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體IP 1.3萬 0

      臺(tái)積電營(yíng)收又要?jiǎng)?chuàng)新高，最先進(jìn)EUV光刻機(jī)5nm、7nm工藝賺大

      得益于先進(jìn)的工藝，臺(tái)積電今年的營(yíng)收又要?jiǎng)?chuàng)新高，即便是沒有了華為這樣的客戶，也絲毫不受影響。 臺(tái)積電昨日舉行南科3nm米晶圓廠上梁典禮，董事長(zhǎng)劉德音透露，...

      2020-11-25 標(biāo)簽：臺(tái)積電5nm營(yíng)收 1.2萬 0

      ASML 將赴韓國(guó)EUV設(shè)備再制廠及培訓(xùn)中心，預(yù)計(jì)在 2025 年完成建設(shè)

      據(jù)韓國(guó)媒體 BusinessKorea 報(bào)導(dǎo)，韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部于 5 月 13 日對(duì)外宣布，全球光刻機(jī)龍頭大廠阿斯麥（ASML）計(jì)劃未來4年將在韓國(guó)建...

      2021-05-17 標(biāo)簽：韓國(guó)ASMLEUV光刻機(jī) 1.1萬 0

      麒麟990和麒麟990 5g區(qū)別 兩者之間的不同

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      2023-08-31 標(biāo)簽：5G芯片EUV光刻機(jī)麒麟990 9555 0

      這個(gè)光源的波長(zhǎng)能成為EUV光刻機(jī)新的光源技術(shù)

      這個(gè)光源的波長(zhǎng)能成為EUV光刻機(jī)新的光源技術(shù)

      就在幾天前，清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)聯(lián)合德國(guó)的研究機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)證實(shí)了「穩(wěn)態(tài)微聚束」(steady-state microbunching, SSMB)光源。這個(gè)光源的波...

      2021-03-30 標(biāo)簽：芯片加速器EUV光刻機(jī) 8633 0

      euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理

      光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。

      2022-07-06 標(biāo)簽：光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 7350 0

      EUV產(chǎn)量到位了，是不是也該考慮良率了？

      EUV 產(chǎn)量到位了，是不是也該考慮良率了？ ? 在當(dāng)前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時(shí)，EUV光刻機(jī)就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺(tái)積電...

      2021-07-22 標(biāo)簽：三星電子光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 6911 0

      a17和驍龍8gen3參數(shù)對(duì)比

      a17和驍龍8gen3參數(shù)對(duì)比 隨著移動(dòng)設(shè)備市場(chǎng)的不斷發(fā)展，手機(jī)廠商們也在不斷推出新的產(chǎn)品，其中就有搭載不同處理器的手機(jī)。其中最為知名的是蘋果的A系列處...

      2023-08-16 標(biāo)簽：處理器EUV光刻機(jī) 6521 0

      什么是極紫外光刻 極紫外光刻優(yōu)勢(shì)介紹

      掩模版的缺陷的光學(xué)檢測(cè)極為困難。通常，光學(xué)檢測(cè)可以獲得表面缺陷和相缺陷引起的所有轉(zhuǎn)印缺陷，但是由于 EUV 的多層掩模結(jié)構(gòu)，使得這些缺陷被埋在多層薄膜的下面。

      2022-10-24 標(biāo)簽：極紫外光刻EUV光刻機(jī) 6351 0

      光刻機(jī)ASML拒收中國(guó)籍員工，緣由美國(guó)政府干涉

      在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年...

      2018-08-23 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)ASML 6198 0

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